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[实用新型]一种新型流药管-CN202320164514.5有效
发明人：刘晓亮;古新远;周涛;焦恩见;赵波;高伟 -专利权人：保定通美晶体制造有限责任公司
申请日： 2023-02-09 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： B24B57/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型流药管，包括流药管、流药槽和上盘；所述流药管的下端对应所述流药槽设置，所述流药槽下端与所述上盘连通：所述流药管包括主管、连接管和2个分支管；所述主管下端连通于所述连接管中部；所述连接管两端分别与1个所述分支管的上端中部连通；每个所述分支管的两端均设置1个管口，且每个所述管口均对应所述流药槽设置。本实用新型将流药管的主管直接延伸至流药槽高度后，然后再通过2个分支管的作用形成四支流药通道，此设计可保证4个管口流药均匀，避免了因流药不均造成的设备抛光异常。本实用新型成本低，灵活性高，能够保证设备抛光的加工成品率的稳定。
一种新型流药管

[实用新型]一种新型晶片水盒-CN202320163830.0有效
发明人：刘晓亮;洪庆福;周涛;焦恩见;赵波;高伟 -专利权人：保定通美晶体制造有限责任公司
申请日： 2023-02-09 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种新型晶片水盒，包括：水盒本体；所述水盒本体左右两侧外壁上均设置有限位板；每个所述限位板与所述水盒本体外壁之间均合围形成有空腔；每个所述空腔内均滑动设置有把手；每个所述把手下部均开设有限位槽；每个所述限位槽内均设置有限位块。本实用新型可以实现把手的伸缩式设计，整体结构简单，体积小巧，节省空间，且方便水盒的搬运。
一种新型晶片

[发明专利]一种洗手液及其应用以及一种无粉乳胶手套的清洗方法-CN202211164106.6在审
发明人：古新远;刘晓亮;房强;李民;周涛;焦恩见;张海涛;赵波;高伟 -专利权人：保定通美晶体制造有限责任公司
申请日： 2022-09-23 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C11D3/04 文献下载
摘要：本发明涉及乳胶手套预处理技术领域，本发明提供了一种洗手液及其应用以及一种无粉乳胶手套的清洗方法。本发明提供的洗手液，由包含下列体积份数的组分制备得到：SS‑C22NS原液1～3份、硫代硫酸钠溶液0.5～1.5份、水6～8份；组分配制比例合理，能够充分有效地对手套进行清洁；经过本发明洗手液清洗后，在后续使用过程中乳胶手套缺陷率仅为1.18％，明显低于不清洗或者仅使用清水清洗的缺陷率；本发明的清洗方法保证了手套使用前的洁净度，改善了晶圆的表面质量与抛光成品率，避免了手套因生产过程中品质的不稳定性带来的可能污染，也避免了手套使用前因暴露在车间内而造成的污染。
一种洗手及其应用以及乳胶手套清洗方法

[实用新型]一种晶片托片器-CN202221736716.4有效
发明人：刘晓亮;齐威;洪庆福;周涛;焦恩见;赵波;高伟 -专利权人：保定通美晶体制造有限责任公司
申请日： 2022-07-07 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶片托片器，涉及晶片加工技术领域，包括：壳体，壳体的侧壁上具有条形槽；滑动支架，滑动支架设有多个，多个滑动支架均可滑动的设于壳体的底部，每个滑动支架的两侧均具有多个卡槽，相邻两个滑动支架上的卡槽相对应；调节件，调节件的一端贯穿条形槽与滑动支架的端部连接，调节件的另一端与条形槽卡接。本实用新型通过在壳体内设置有滑动支架，滑动支架上设置有卡槽，在相邻两个滑动支架上的卡槽共同作用下能够对晶片进行卡接，通过滑动支架在壳体底部位置的调节，进而能够改变相邻滑动支架上卡槽之间的距离，从而实现卡接不同尺寸的晶片。
一种晶片托片器

[发明专利]氢氧化钠溶液作为还原剂在晶片抛光过程中的应用及晶片的抛光方法-CN202210794271.3在审
发明人：刘晓亮;古新远;周涛;焦恩见;任殿胜;赵波;高伟 -专利权人：保定通美晶体制造有限责任公司
申请日： 2022-07-07 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明属于晶片加工技术领域，提供了氢氧化钠溶液作为还原剂在晶片抛光过程中的应用及晶片的抛光方法。本发明将吸附垫中心位置施加氢氧化钠溶液后再放入晶片进行抛光。本发明提供的抛光方法能够提高抛光合格率，降低重复返修所产生的成本，降低晶片报废风险，释放因重复返工占用的产能。
氢氧化钠溶液作为还原剂晶片抛光过程中的应用方法

[发明专利]一种抛光垫的预磨方法-CN202210797747.9在审
发明人：古新远;焦恩见;张庆泽;安宾;周涛;赵波;高伟 -专利权人：保定通美晶体制造有限责任公司
申请日： 2022-07-08 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明属于抛光垫使用方法领域，本发明公开了一种抛光垫的预磨方法。本发明所述预磨抛光垫的方法，为预磨抛光垫定向研发了工艺程序，通过往复正反转的方式，使抛光垫能够更快速的达到毛囊打开的状态，可以大幅度缩短抛光垫的预磨时间，增加抛光垫的预磨效率，节省了时间，并延长了抛光垫的使用寿命。较现有的预磨时间29～32h而言，本发明将预磨时间缩短至8h左右，极大的缩短了抛光垫的预磨时间，为抛光垫的投入使用节约了成本。
一种抛光方法