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[发明专利]表面处理粉体-CN201510296309.4在审
发明人：岩本千纮;粂井贵行;渡边顺司 -专利权人：株式会社芳珂
申请日： 2015-06-02 - 公布日： 2016-12-07 - 主分类号： A61K8/90 文献下载
摘要：本发明在于提供一种表面处理粉体，即通过干燥时为疏水性，与水接触时变为亲水性，从而化妆保持性与冲洗性并存。具体而言，为粉体表面被下述通式(1)表示的第1嵌段共聚物所覆盖的表面处理粉体，式(1)中，R₁、R₂各自独立地表示烷基、聚氧化亚烷基、酰基、苯基、芳烷基，X表示不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1～18的烷基链，Y表示单键或2价的连接基团，Z₁表示氢原子或甲基，n、m表示聚合度。
表面处理

[发明专利]表面处理剂-CN201510236154.5在审
发明人：岩本千纮;粂井贵行;渡边顺司 -专利权人：株式会社芳珂;学校法人甲南学园
申请日： 2015-05-11 - 公布日： 2016-02-03 - 主分类号： A61K8/90 文献下载
摘要：本发明在于提供一种表面处理剂，即通过干燥时为疏水性，与水接触时慢慢变为亲水性，从而化妆保持性与冲洗性并存。具体而言，为含有下述通式(1)表示的第1嵌段共聚物的表面处理剂。(式(1)中，R₁、R₂各自独立地表示烷基、聚氧化亚烷基、酰基、苯基、芳烷基，X表示不邻接的碳原子可被氧原子取代从而形成醚的碳原子数1～18的烷基链，Y表示单键或2价的连接基团，Z₁表示氢原子或甲基，n、m表示聚合度)。
表面处理