专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]压力传感器-CN202180007836.2在审
  • 小林正典;海野健;笹原哲也;绳冈孝平 - TDK株式会社
  • 2021-02-15 - 2022-08-12 - G01L9/04
  • 本发明提供一种在层叠方向上具有多个检测部而且检测精度提高的压力传感器。本发明的压力传感器(10)具有:膜(22),其产生与压力对应的变形;第一测量层(40),其形成在膜(22)上;中间绝缘层(50),其形成在第一测量层(40)之上;以及第二测量层(60),其形成在中间绝缘层(50)之上。第一测量层(40)及第二测量层(60)分别包括检测膜的变形的第一检测部(42)及第二检测部(62)。从膜(22)的表面至第二检测部(62)的距离在30μm以内。
  • 压力传感器
  • [发明专利]压力传感器-CN202080019007.1在审
  • 小林正典;海野健 - TDK株式会社
  • 2020-03-06 - 2021-10-29 - G01L19/00
  • 本发明的压力传感器防止使管座和检测电路绝缘的绝缘膜的膜剥落或裂纹的问题。压力传感器具有:管座,其具有平面状的外底面、沿相对于所述外底面交叉的方向延伸的外侧面、以及为所述外底面的相反面并且受到来自作为测定对象的流体的压力的受压内面;以及检测电路,其相对于所述外底面隔着绝缘膜设置,所述管座具有:平缓部,以包围所述外底面的方式形成,从平行于所述外底面的方向观察,由朝向与所述外底面及所述外侧面不同的方向的面构成,并且连接所述外底面和所述外侧面,所述绝缘膜覆盖所述平缓部的至少一部分。
  • 压力传感器
  • [发明专利]压电体元件和陀螺仪传感器-CN201010155013.8无效
  • 前川和也;野口隆男;远池健一;海野健 - TDK株式会社
  • 2010-03-31 - 2010-10-06 - H01L41/08
  • 本发明的技术问题是提供具有在无应力状态下能够对压电体膜进行成膜的压电体元件和陀螺仪传感器。压电体膜包含a轴取向晶体和c轴取向晶体,a轴取向晶体的晶格常数和c轴取向晶体的晶格常数之差为0.06以内。本发明人新发现了:在满足a轴取向晶体的晶格常数和c轴取向晶体的晶格常数之差为0.06以内的条件的时候,能够将压电特性维持在良好的特性值,并且能够减少积蓄在压电体膜内部的应力。可以认为:在满足上述条件的情况下,由于对c轴取向晶体和a轴取向晶体作适度平衡,因而压电体膜的晶体颗粒在理想的状态下被最密地填充于基底上,这有助于应力的降低。
  • 压电元件陀螺仪传感器
  • [发明专利]电子设备及其制造方法-CN200610058368.9有效
  • 远池健一;宫崎雅弘;野口隆男;山崎宽史;海野健;佐佐木宏文 - TDK株式会社
  • 2006-03-03 - 2006-12-20 - H01L41/22
  • 本发明提供一种能提高性能的电子设备及其制造方法。在电子设备(压电设备)(74)的制造方法中,在层积体(60)的电极膜(46A)上形成的压电体膜(52A)的外缘(R1)与电极膜(46A)的外缘(R2)相比为内侧。因此在从层积基板(61)去除单晶硅基板(14)时,在蚀刻液浸入聚酰亚胺(72)与层积体(60)之间的情况下,该蚀刻液到达压电体膜(52A)前会绕电极膜(46A)迂回。即,蚀刻液到达压电体膜(52A)的路径(A)因电极膜(46A)而有意延长。所以,在压电设备(74)的制造方法中,蚀刻液难以到达压电体膜(52A)。由此能够有意抑制压电体膜(52A)溶解,提高制作的压电设备(74)的性能。
  • 电子设备及其制造方法

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