专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]用于MPCVD设备的腔内气流场调节装置-CN202122106617.X有效
  • 李庆利;甄西合;赵丽媛;刘得顺;朱逢锐;徐悟生;刘畅 - 河南微米光学科技有限公司
  • 2021-09-02 - 2022-02-18 - C30B25/16
  • 本实用新型涉及金刚石生产技术领域,特别涉及一种用于MPCVD设备的腔内气流场调节装置,包括微波等离子体反应器,基片台,钼托,所述基片台设置有贯穿基片台,连接微波等离子体反应器的内腔体与微波等离子体反应器外侧的抽气管道,还包括设置在基片台顶端,用于放置钼托的衬底支架,所述衬底支架包括支架主体,以及在支架主体顶端开设的用于放置钼托的钼托槽,在所述钼托槽底面的中心处开设有贯穿支架主体并与抽气管道对接的抽气孔,在所述抽气孔周边的支架主体上设置有以抽气孔为中心,向钼托槽边沿延伸的均流槽。通过在衬底支架的支架主体上设置钼托槽及均气槽和与抽气管道对接的抽气孔,使基片台上方的气体均匀的被抽出。
  • 用于mpcvd设备气流调节装置

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