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[发明专利]基板处理系统-CN201310302882.2有效
发明人： 森晃一;吉原贤一;向井正行 -专利权人：光洋热系统株式会社
申请日： 2010-03-09 - 公布日： 2013-12-11 - 主分类号： F27B17/00 文献下载
摘要：本发明提供基板处理系统，其包括输送部、第一处理室、第二处理室、输送机械手、搬入部、搬出部和控制部。处理室具有：多层架，能把基板支承在各层上；以及门，在搬入和搬出基板时对应于多层架的所希望的层能打开或关闭，控制部进行控制，把搬入到第一处理室内后经过了规定时间的基板通过输送机械手，从第一处理室搬出并将其存放在搬出部，接着使输送机械手移动到搬入部并握持未处理基板，把未处理基板搬入到第一处理室内，然后，把搬入到第二处理室内后经过了规定时间的基板通过输送机械手，从第二处理室搬出并存放于搬出部，接着使输送机械手移动到搬入部并握持未处理基板，把未处理基板搬入到第二处理室内，在输送机械手从处理室离开期间使门关闭，并且以后对第一处理室、第二处理室也顺次继续这样的动作。
处理系统

[发明专利]电荷粒子分选装置以及电荷粒子照射装置-CN201010211047.4无效
发明人：成岛正树;森晃一;山田公;丰田纪章 -专利权人：东京毅力科创株式会社;兵库县
申请日： 2010-06-21 - 公布日： 2011-01-05 - 主分类号： H01J49/26 文献下载
摘要：本发明要解决的问题是提供可使离子化的气体团簇适当地发生偏转的电荷粒子分选装置以及电荷粒子照射装置。本发明通过提供下述用于分选离子化的气体团簇的电荷粒子分选装置来解决上述问题。该电荷粒子分选装置包括：电场施加部，所述电场施加部沿所述气体团簇的前进方向排列，用于施加电场；以及狭缝，用于分选所述气体团簇；所述电场施加部由两片电极构成，通过向所述电极施加交流电压来使离子化的气体团簇发生偏转，其中所述电极具有开口部或间隙。
电荷粒子分选装置以及照射

[发明专利]电荷粒子分选装置以及电荷粒子照射装置-CN201010210871.8无效
发明人：成岛正树;森晃一;山田公;丰田纪章 -专利权人：东京毅力科创株式会社;兵库县
申请日： 2010-06-21 - 公布日： 2010-12-29 - 主分类号： H01J49/26 文献下载
摘要：本发明要解决的问题是提供按价数分选气体团簇的电荷粒子分选装置以及电荷粒子照射装置。本发明通过提供下述用于分选离子化的气体团簇的电荷粒子分选装置来解决上述问题。该电荷粒子分选装置包括：三个以上电场施加部，所述三个以上电场施加部沿所述气体团簇的前进方向排列，用于施加电场；以及狭缝，用于分选所述气体团簇；其中，所述电场施加部由两片电极构成，并通过向所述电极施加交流电压来使离子化的气体团簇发生偏转，相邻的所述电场施加部被施加不同相位的交流电压，所述狭缝在所述气体团簇入射的方向的延长线上具有开口部。
电荷粒子分选装置以及照射

[发明专利]基板处理系统和基板处理方法-CN201010132170.7有效
发明人： 森晃一;吉原贤一;向井正行 -专利权人：光洋热系统株式会社
申请日： 2010-03-09 - 公布日： 2010-09-22 - 主分类号： F27B17/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理系统和基板处理方法。所述基板处理系统(10)包括输送部(15)、第一处理室(16)、第二处理室(18)和主控制部(30)。输送部(15)具有输送工件(20)的输送机械手(22)。第一处理室(16)和第二处理室(18)配置在输送部(15)的周围。第一处理室(16)和第二处理室(18)分别具有在搬入和搬出工件(20)时能打开或关闭的门(162、182)。主控制部(30)控制输送机械手(22)和门(162、182)的动作，使得输送机械手(22)不是对第一处理室(16)或第二处理室(18)中的任意一个连续进行搬入或搬出，而是对第一处理室(16)和第二处理室(18)交替进行搬入或搬出。
处理系统方法