“森宽太”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果5个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]喷嘴以及基板处理装置-CN202223248445.0有效
发明人：樱井宏纪;绪方信博;后藤大辅;森宽太;矢田健二;桥本佑介;水口将辉;许彦瑞 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-12-05 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及喷嘴以及基板处理装置。能够在使用流体与处理液的混合流体的液处理中将流体与处理液高效地混合。喷嘴是将包含加压后的纯水的蒸气或雾沫的流体与至少包含硫酸的处理液混合并喷出的喷嘴。喷嘴具备第1喷出口、第2喷出口以及导出路。第1喷出口喷出流体。第2喷出口喷出处理液。导出路与第1喷出口以及第2喷出口连通，用于导出从第1喷出口喷出来的流体和从第2喷出口喷出来的处理液的混合流体。另外，第1喷出口或第2喷出口配置为在平面视角下朝向自导出路的中心轴线偏离的位置。
喷嘴以及处理装置

[发明专利]喷嘴、基板处理装置以及基板处理方法-CN202211551531.0在审
发明人：樱井宏纪;绪方信博;后藤大辅;森宽太;矢田健二;桥本佑介;水口将辉;许彦瑞 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-12-05 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及喷嘴、基板处理装置以及基板处理方法。能够在使用流体与处理液的混合流体的液处理中将流体与处理液高效地混合。喷嘴是将包含加压后的纯水的蒸气或雾沫的流体与至少包含硫酸的处理液混合并喷出的喷嘴。喷嘴具备第1喷出口、第2喷出口以及导出路。第1喷出口喷出流体。第2喷出口喷出处理液。导出路与第1喷出口以及第2喷出口连通，用于导出从第1喷出口喷出来的流体和从第2喷出口喷出来的处理液的混合流体。另外，第1喷出口或第2喷出口配置为在平面视角下朝向自导出路的中心轴线偏离的位置。
喷嘴处理装置以及方法

[发明专利]基板处理装置和防雾件的清洗方法-CN202210728783.X在审
发明人：桥本佑介;后藤大辅;森宽太;东岛治郎;绪方信博 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-06-24 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本公开提供一种基板处理装置和防雾件的清洗方法。基板处理装置具备：保持部，其保持基板；驱动部，其驱动保持部以使保持部旋转；内侧杯体，其以从保持于保持部的基板的外侧包围基板的方式设置于保持部；防雾件，其以使保持部和内侧杯体位于该防雾件的内部的方式从保持部和内侧杯体的外侧包围保持部和内侧杯体，并且构成为能够进行升降；清洗液供给部，其供给清洗液；以及控制部。控制部构成为执行以下处理：第一处理，在基板保持于保持部且防雾件上升了的状态下，从处理液供给部向基板供给处理液；以及第二处理，在第一处理之后，在从保持部搬出基板且防雾件上升了的状态下，使从清洗液供给部供给的清洗液飞散到防雾件的整个内周面。
处理装置防雾件清洗方法

[实用新型]基板处理装置-CN202122375625.4有效
发明人：绪方信博;樱井宏纪;后藤大辅;古贺贵广;森宽太;桥本佑介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-09-29 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及基板处理装置。提供一种能够在液处理中提升去除对象物的去除效率的技术。本公开的基板处理装置具有流体供给部、处理液供给部以及喷嘴。流体供给部供给包含经过了加压的纯水的蒸汽或水雾的流体。处理液供给部供给至少包含硫酸的处理液。喷嘴具有第1喷出口、第2喷出口以及导出路径。第1喷出口喷出自流体供给部供给的流体。第2喷出口喷出自处理液供给部供给的处理液。导出路径与第1喷出口以及第2喷出口连通，导出自第1喷出口喷出的流体和自第2喷出口喷出的处理液的混合流体。另外，导出路径的截面面积比第1喷出口的截面面积大。
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN202111150556.5在审
发明人：绪方信博;樱井宏纪;后藤大辅;古贺贵广;森宽太;桥本佑介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2021-09-29 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置。提供一种能够在液处理中提升去除对象物的去除效率的技术。本公开的基板处理装置具有流体供给部、处理液供给部以及喷嘴。流体供给部供给包含经过了加压的纯水的蒸汽或水雾的流体。处理液供给部供给至少包含硫酸的处理液。喷嘴具有第1喷出口、第2喷出口以及导出路径。第1喷出口喷出自流体供给部供给的流体。第2喷出口喷出自处理液供给部供给的处理液。导出路径与第1喷出口以及第2喷出口连通，导出自第1喷出口喷出的流体和自第2喷出口喷出的处理液的混合流体。另外，导出路径的截面面积比第1喷出口的截面面积大。
处理装置