专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]自动分析装置-CN201880050963.9有效
  • 渡边翠;斋藤佳明 - 株式会社日立高新技术
  • 2018-08-06 - 2023-10-27 - G01N35/02
  • 具备:进行测定的光源(4a)、分光光度计(4)、对收纳有试剂的试剂瓶(10)进行保管的试剂盘(9)、将试剂瓶(10)向试剂盘(9)搬送的搬送装置、在试剂瓶(10)的使用开始前进行必要的前准备处理的试剂前准备部、对试剂前准备部的前准备处理和搬送装置的搬送进行调度而使得伴随光源(4a)、分光光度计(4)的分析进行的动作中断之后或者结束之后立即将试剂瓶(10)向试剂盘(9)搬送的控制部(21)。
  • 自动分析装置
  • [发明专利]蚀刻方法-CN202080005208.6有效
  • 服部孝司;赵煜;小林浩之;大竹浩人 - 株式会社日立高新技术
  • 2020-04-10 - 2023-10-27 - H01L21/3065
  • 为了提供一种以相对于氮化硅膜高的选择比高精度地对氧化硅膜进行蚀刻的蚀刻方法,而在所述蚀刻方法中通过向处理室内供给处理用的气体来对膜结构进行蚀刻,在所述膜结构中,在配置于所述处理室内的晶片上预先形成的氧化硅膜及氮化硅膜沿上下方向交替地层叠而成的膜层的端部构成槽或孔的侧壁,其中,在所述蚀刻方法中,向所述处理室内供给氟化氢及醇的蒸气,并将所述晶片维持在‑20℃以下、期望维持在‑20至‑60℃的温度,并对所述氧化硅膜从所述端部起横向地进行蚀刻。
  • 蚀刻方法
  • [发明专利]自动分析装置-CN202280017946.1在审
  • 佐藤怜;稻边利幸 - 株式会社日立高新技术
  • 2022-02-16 - 2023-10-24 - G01N35/00
  • 本发明的目的在于提供一种自动分析装置,其能够抑制装置的复杂化,并且能够分别确定发生异常的流路。为此,本发明的自动分析装置包括:液体流动的流路、监视所述流路的传感器、以及根据所述传感器的测定结果判定在所述流路流动的液体的异常的控制部,一个所述传感器以特性不同的多个所述流路作为监视对象,所述控制部基于在监视中所述传感器连续测定的模拟的监视数据和在监视前所述传感器预先连续测定的模拟的参照数据,判定在多个所述流路中的哪个所述流路内发生了异常。
  • 自动分析装置
  • [发明专利]自动分析装置-CN202180094737.2在审
  • 岩濑友一;宫川拓士;宫本隼佑;三宅雅文 - 株式会社日立高新技术
  • 2021-12-03 - 2023-10-24 - G01N35/00
  • 实现一种能够自动检测注射泵单元中的柱塞的故障的自动分析装置。自动分析装置具备:试样分注机构,其具有液面检测功能,向液体收纳容器(11)排出试样;试剂分注机构(60),其向液体收纳容器(11)排出试剂;以及控制部,其控制试样分注机构以及试剂分注机构(60)的动作,对上述试样进行分析。试样分注机构和试剂分注机构分别具有吸取并排出液体的柱塞(45)以及驱动柱塞(45)的柱塞驱动部(47、48、49),控制部进行动作控制使得通过试剂分注机构(60)的柱塞驱动部(47、48、49)使柱塞(45)以背隙的距离往复移动预定次数,并通过液面检测功能检测排出到液体收纳容器(11)的液量来检测柱塞(45)的故障。
  • 自动分析装置
  • [发明专利]重叠偏移量算出系统及方法-CN202311143435.7在审
  • 山本琢磨 - 株式会社日立高新技术
  • 2020-03-18 - 2023-10-24 - H01J37/22
  • 一种重叠偏移量算出系统及方法,即便在位于不同层的图案之间的重叠偏移量较大的情况下,也稳定地执行重叠偏移量的准确测定。重叠偏移量算出系统具备控制部,根据通过向试料照射带电粒子束而得到的图像算出图案间的重叠偏移量,基于与第一模板图像的匹配,根据包括位于试料的表面的第一图案的图像的第一图像,决定第一图案的第一位置,基于与第二模板图像的匹配,根据包括位于比试料的表面靠下层的第二图案的图像的第二图像,决定第二图案的第二位置,基于所决定的第一位置调整第一图像中的第一测定区的位置,基于所决定的第二位置调整第二图像中的第二测定区的位置,按照第一、第二测定区的位置调整结果,算出第一、第二图案间的重叠偏移量。
  • 重叠偏移量算出系统方法
  • [发明专利]自动分析装置-CN201880090903.X有效
  • 堀江阳介;吉村保广;风间敦;石泽雅人;山本谕 - 株式会社日立高新技术
  • 2018-12-26 - 2023-10-24 - G01N35/10
  • 本发明提供具备能够使用超声波来高精度地检测各种高度的样本容器内的液面的液面检测功能的自动分析装置。具备:搬运架(22),其载置并搬运放入有样本的样本容器;固定的超声波距离传感器(200),其测定载置于搬运架的样本容器内的液面位置;声波导向件(204、205),其配置于样本容器与超声波距离传感器之间,抑制从超声波距离传感器发送出的声波的扩散;以及声波导向件控制部,其根据超声波距离传感器与样本容器之间的距离来进行声波导向件的长度调整或长度切换。
  • 自动分析装置
  • [发明专利]蚀刻处理方法-CN202280005768.0在审
  • 服部孝司;山田将贵;秋永启佑 - 株式会社日立高新技术
  • 2022-02-14 - 2023-10-20 - H01L21/3065
  • 本发明的目的在于,提供一种兼顾高的氧化硅膜的蚀刻速率和低的氮化硅膜的蚀刻速率、以相对于氮化硅膜高的选择比高精度地蚀刻氧化硅膜的方法。因此,本发明的蚀刻处理方法是一种干式蚀刻方法,对于在配置于处理室内的晶片上预先形成的、氧化硅膜被氮化硅膜上下夹持而层叠的膜层的端部构成槽或者孔的侧壁的膜构造,向所述处理室内供给处理用气体,在不使用等离子的状态下进行蚀刻,其特征在于,在将该氟化氢气体的分压设为x(Pa)时,将所述晶片在(0.040x‑42.0)℃以下的低温从所述端部沿横向对所述氧化硅膜进行蚀刻。
  • 蚀刻处理方法
  • [发明专利]载物台装置、带电粒子束装置以及光学式检查装置-CN202310384281.4在审
  • 加藤孝宜;水落真树;高桥宗大;小川博纪 - 株式会社日立高新技术
  • 2023-04-12 - 2023-10-20 - H01L21/67
  • 本发明提供一种载物台装置、带电粒子束装置以及光学式检查装置,能够降低伴随下方的工作台的旋转振动的浮起载物台(上方的工作台)的残留振动,能够提高生产率。该载物台装置具备能够在基座(106)上移动的第一工作台(104)、能够在第一工作台上浮起并移动具有第一部分和比第一部分靠下方的第二部分的第二工作台(102)、测量第二工作台的第一部分的位置的第一位置测量设备(600)、测量第二工作台的第二部分的位置的第二位置测量设备(300)以及控制驱动第二工作台的马达(200)的计算机(601)。计算机基于关于第一位置测量设备测量出的第一部分的位置的信息和关于第二位置测量设备测量出的第二部分的位置的信息,驱动第二工作台。
  • 载物台装置带电粒子束以及光学检查
  • [发明专利]自动分析装置-CN201880015647.8有效
  • 梅木博也;今井健太;山下善宽;佐佐木俊辅;远藤章浩 - 株式会社日立高新技术
  • 2018-02-15 - 2023-10-20 - G01N35/10
  • 本发明的目的是提供一种即使在液体分注量较少的情况下也能高灵敏度地检测出分注异常而与异常的程度无关的自动分析装置。其特征在于,包括:对液体实施包含吸引工序和排出工序的分注动作的探针;产生用于由所述探针分注液体的压力变动的注射器;将所述探针与所述注射器相连接的流路;测定分注液体时的所述流路内的压力变动的压力传感器;将排出基准流体时的时间序列的压力变动作为基准排出压力波形进行存储的存储部;以及判定部,该判定部根据所述基准排出压力波形与排出判定对象的液体时的压力波形的差分或比率的值与正常范围的关系,判定该样本的吸引工序中是否有异常。
  • 自动分析装置

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