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- [发明专利]残留单体去除装置-CN202180049966.2在审
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林东煜;李信范;宋俊慧;安佑烈;全孝镇;韩基道
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韩华思路信株式会社
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2021-07-16
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2023-04-07
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C08F6/00
- 本发明涉及残留单体去除装置，更详细而言，涉及在向流动的蒸馏目标物质供应气体来去除挥发性物质时可以防止蒸馏目标物质不流动或流动速度下降的死区的形成的残留单体去除装置。本发明的残留单体去除装置包括：主体部，能够向容纳在内部的蒸馏目标物质供应气体；蒸馏目标物质供应部，设置于上述主体部的上部，投入上述蒸馏目标物质；气体流入部，设置于上述主体部的下部，投入上述气体；排出部，设置于上述主体部的上部，排出通过上述气体而从蒸馏目标物质分离出的挥发性物质；回收部，设置于上述主体部的下部，回收从上述蒸馏目标物质去除上述挥发性物质后的蒸馏目标物质；塔板，在上述主体部的内部具备有多个，且每个塔板形成有贯通孔，并且形成有螺旋(spiral)形流路；以及下降管，设置于上述塔板之间，是供上述蒸馏目标物质从上述主体部的上部朝向下部方向移动的移动通道。
- 残留单体去除装置
- [发明专利]蒸馏设备和蒸馏方法-CN202080091144.6在审
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林东煜;李信范;宋俊慧;安佑烈;全孝镇;韩基道
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韩华思路信株式会社
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2020-11-23
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2022-10-18
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B01D3/30
- 本发明涉及一种蒸馏设备，该蒸馏设备包括：本体部分，蒸馏目标物质从上部部分引入到该本体部分中并且气体从下部部分引入到该本体部分中；旋转轴，该旋转轴用于在本体部分内部旋转；多个旋转锥体，多个旋转锥体设置在旋转轴的外表面上；以及多个固定锥体，多个固定锥体设置在本体部分的内表面上并布置成与相应的旋转锥体间隔开预定距离，其中，在多个固定锥体中之间的每个间隙是H1并且从本体部分的底部表面到最接近本体部分的底部表面的旋转锥体的下表面的距离和从本体部分的底部表面到最接近本体部分的底部表面的固定锥体的下表面的距离中的较短距离为H2的情况下，H2大于H1。
- 蒸馏设备方法
- [发明专利]蒸馏设备-CN202080083915.7在审
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安佑烈;李信范;林东煜;全孝镇;韩基道
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韩华思路信株式会社
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2020-10-27
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2022-07-15
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B01D3/32
- 本发明涉及一种蒸馏设备，并且更具体地，涉及一种包括以下各者的蒸馏设备：本体单元，在该本体单元中，待蒸馏的材料从其上部部分被引入，并且气体从其下部部分流动；旋转轴，该旋转轴在本体单元的内部旋转；该旋转锥体，旋转锥体设置在旋转轴的外表面上并且包括旋转锥体上表面和旋转锥体下表面；以及固定锥体，该固定锥体设置在本体单元的内表面上并且设置成与旋转锥体间隔开一预定距离，其中，旋转锥体上表面包括第一表面和第二表面，第一表面在具有斜率的同时朝向本体单元的上侧延伸，并且第二表面具有由第二表面的与旋转轴的外表面相交的一个端部处的切线与旋转轴形成的角度，该角度大于90°且小于180°。
- 蒸馏设备
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