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[发明专利]在母材的表面通过掩模形成凸起的方法及装置-CN201380077204.9在审
发明人：李相老;罗钟周;朴明渐;金明根;金允焕;徐在亨;岳昕;李智英 -专利权人： SEP株式会社
申请日： 2013-09-05 - 公布日： 2016-03-02 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种通过掩模形成凸起的方法及装置，更为详细地，涉及一种通过掩模形成凸起的方法，其包括：掩模形成步骤，在母材上形成掩模层；蚀刻步骤，对母材上未形成掩模的区域进行蚀刻；以及掩模去除步骤，去除所述掩模层，并且所述掩模形成步骤包括：至少形成一个以上的小型掩模的步骤，以及至少形成一个以上的大型掩模的步骤。
表面通过形成凸起方法装置

[发明专利]耐久性提高的防水性表面的制造方法及形成防水性表面的基板-CN201380064139.6在审
发明人：李相老;罗钟周;朴明渐;金明根;金允焕;徐在亨;岳昕;李智英 -专利权人： SEP株式会社
申请日： 2013-09-05 - 公布日： 2015-08-12 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明涉及一种耐久性提高的防水性表面的制造方法及形成有防水性表面的基板。更为详细地讲，本发明的特征在于，在基板上涂防水层后蚀刻所述防水层而形成纳米凸起，从而不按照基板表面的纳米凸起的形状来涂防水层，也可以使表面同时具有防止反射特性及防水特性。根据本发明，直到形成纳米凸起的防水层完全磨损时也可以维持防水性，从而可以极大地提高防水性表面的耐久性。
耐久性提高水性表面制造方法形成

[实用新型]一种防反射基板-CN201320533036.7有效
发明人：李相老;罗钟周;朴明渐;金明根;金允焕;徐在亨;岳昕;李智英 -专利权人：（株）SEP
申请日： 2013-08-29 - 公布日： 2014-09-24 - 主分类号： G02B1/11 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种防反射基板，其在表面形成有防反射凸起(anti-reflection)，防反射凸起具有纳米尺度(nano scale)凸起和微尺度(micro scale)凸起混合的形状，从而共同改善短波长和长波长的透射率。
一种反射

[实用新型]连续式纳米图案装置及利用其制造的防反射基板-CN201320534021.2有效
发明人：李相老;罗钟周;朴明渐;金明根;金允焕;徐在亨;岳昕;李智英 -专利权人：（株）SEP
申请日： 2013-08-29 - 公布日： 2014-05-14 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及纳米图案涂覆技术领域，具体公开了一种连续式纳米图案装置包括：加载锁舱室（10），其将作为非加工物的基板投入到工艺中；溅射舱室（20），从上述加载锁舱室（10）排出的基板投入其中，并且在上述基板表面通过溅射方式形成纳米掩膜；蚀刻舱室（30），在表面形成有纳米掩膜的基板投入其中，并且蚀刻上述基板的表面后，形成纳米掩膜；以及卸载锁舱室（40），其将形成有纳米图案的基板排出至装置外部，并且，上述舱室通过一个连续式设备进行连接，从而投入至上述加载锁舱室（10）的基板连续经过上述溅射舱室（20）及蚀刻舱室（30）后，从上述蚀刻舱室（40）排出。本实用新型还提供了一种防反射基板。
连续纳米图案装置利用制造反射

[实用新型]表面形成有纳米图案的平面照明透明基板及利用其的平面照明面板-CN201320534017.6有效
发明人：李相老;罗钟周;朴明渐;金明根;金允焕;徐在亨;岳昕;李智英 -专利权人：（株）SEP
申请日： 2013-08-29 - 公布日： 2014-04-16 - 主分类号： G02B6/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及表面形成有纳米图案的平面照明透明基板及利用其的平面照明面板，所述平面照明透明基板为了将从板状的透明基板的侧面流入的光照明至透明基板的整体平面，在表面形成纳米结构物；所述平面照明面板包括所述平面照明透明基板；透明基板窗框，其沿着上述平面照明透明基板的侧面设置；以及光源，其设置于上述透明基板窗框，从而将光流入至上述平面照明透明基板的侧面。本实用新型在可见光的透过率没有降低的情况下，可平面照明，并且可实现显示（display）功能。
表面形成纳米图案平面照明透明利用面板