专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]粒子射线照射装置-CN201480077893.8有效
  • 坂本裕介;蒲越虎;原田久;本田泰三 - 株式会社日立制作所
  • 2014-04-10 - 2019-02-26 - A61N5/10
  • 粒子射线照射装置(50)对一个照射位置(12)多次照射粒子射线(10)。存储部(3)存储各次应照射的剂量(分割目标剂量)。剂量监视器(5)测量照射至照射位置(12)的粒子射线(10)的剂量。第1次照射时,利用剂量监视器(5)测量的剂量到达分割目标剂量后,控制部(4)发出遮断信号(15)。剂量监视器(5)测量从发出遮断信号(15)后至实际遮断粒子射线(10)的期间内照射的剂量(过剩剂量)(14)。然后设为校正剂量值=分割目标剂量‑过剩剂量。也可以改设为校正剂量值=分割目标剂量‑过剩剂量预测值。第2次照射时,利用剂量监视器(5)测量的剂量到达校正剂量值后,控制部(4)发出遮断信号(15)。通过该校正,减少点扫描法中超出所计划的剂量的照射剂量。
  • 粒子射线照射装置
  • [发明专利]粒子射线扫描照射系统-CN201280071631.1有效
  • 蒲越虎;池田昌广;本田泰三 - 三菱电机株式会社
  • 2012-03-21 - 2018-02-16 - A61N5/10
  • 本发明提供一种粒子射线扫描照射方法,包括如下步骤根据由粒子射线治疗计划决定的相对粒子射线照射量及处方粒子射线剂量,求出粒子射线的各照射点的计划照射粒子数的步骤;根据计划照射粒子数及粒子射线的射束电流波形来模拟各照射点的粒子射线的照射过程,求出在粒子射线扫描移动期间照射到患部的粒子数的步骤;使用在扫描移动期间照射的粒子数,校正各照射点的计划照射粒子数的步骤;将校正后的计划照射粒子数换算成剂量监控器的计数值的步骤;以及根据换算得到的计数值来照射粒子射线的步骤。
  • 粒子射线扫描照射系统方法
  • [发明专利]粒子射线照射装置-CN201480072776.2在审
  • 坂本裕介;蒲越虎;原田久;本田泰三 - 三菱电机株式会社
  • 2014-01-10 - 2016-08-31 - A61N5/10
  • 本发明提供一种粒子射线照射装置,其对扫描装置实施如下控制,即将对照射对象的所有照射位置照射粒子射线的照射重复重新扫描次数,对各照射位置照射重新扫描次数的粒子射线,该粒子射线照射装置具备运算部,该运算部被输入重新扫描次数(n)和粒子射线的单位时间的剂量即射束强度(J)中的一方,求出对于所有照射位置满足下述条件(P1)的另一方的值中的最大值,并提示给用户。J*ti<=di/n  (条件P1)。
  • 粒子射线照射装置
  • [发明专利]粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置-CN201180074600.7有效
  • 池田昌广;原田久;花川和之;大谷利宏;片寄雅;本田泰三;山田由希子;蒲越虎 - 三菱电机株式会社
  • 2011-11-03 - 2014-09-03 - A61N5/10
  • 本发明的目的在于,即使带电粒子束为低能量,也以较小的射束尺寸对照射对象进行照射。本发明的粒子射线照射装置(58)的特征在于,包括:形成供带电粒子束(1)通过的真空区域的真空管道(6、7);从真空区域释放带电粒子束(1)的真空窗8;在与射束轴垂直的方向上扫描带电粒子束(1)的扫描电磁铁(2、3);具有对带电粒子束(1)的通过位置以及射束尺寸进行检测的位置监视器(5)的监视器装置(67);覆盖真空窗(8)、并在下游侧配置有监视器装置(67)的低散射气体填充室(39);以及对带电粒子束(1)的照射进行控制的照射管理装置(20),低散射气体填充室(39)配置成使得监视器装置(67)与真空窗(8)在射束轴向上的相对位置能变更为规定位置,在照射带电粒子束(1)时,填充有散射比空气小的低散射气体。
  • 粒子射线照射装置治疗
  • [发明专利]粒子射线治疗装置及粒子射线治疗装置的运行方法-CN201280064257.2有效
  • 山田由希子;原田久;本田泰三;池田昌广;花川和之;大谷利宏;片寄雅 - 三菱电机株式会社
  • 2012-03-27 - 2014-08-27 - A61N5/10
  • 控制部(20)中设置有:运转模式保持部(25),该运转模式保持部(25)中,作为加速器(10)周期反复的运转模式,保持有多个运转模式(OP-S,OP-L),该多个运转模式(OP-S,OP-L)中,能够射出粒子射线(B)的时间(To)不同,且分别对操作条件进行了调整,以使得即使在存在磁滞的情况下,也能够使加速器(10)的偏转电磁铁(13)产生所希望的磁场强度;照射条件读取部(22),该照射条件读取部(22)对于在深度方向分割照射对象后得到的多个切片,读取每个切片的照射条件;运转模式选择部(23),该运转模式选择部(23)根据所读取出的照射条件,从多个运转模式中选择与该切片相适应的运转模式;以及主控制部(21),该主控制部(21)对于每个切片,根据选择的运转模式来控制加速器(10),并且根据照射条件来控制照射装置(40)。
  • 粒子射线治疗装置运行方法
  • [发明专利]射束数据处理装置及粒子射线治疗装置-CN201180072970.7有效
  • 本田泰三;山本雄一;蒲越虎 - 三菱电机株式会社
  • 2011-08-23 - 2014-04-23 - G21K5/04
  • 本发明的目的在于,即使在照射点发生了带电粒子束的位置异常,也能检测出带电粒子束的照射位置。射束数据处理装置(11)包括:多个频道数据转换部(21),该多个频道数据转换部(21)将从位置监视器(4)输出的多个模拟信号转换成数字信号;位置尺寸处理部(23),该位置尺寸处理部(23)基于由上述处理得到的电压信息,来计算射束位置;异常判定处理部(24),该异常判定处理部(24)判定射束位置,并生成位置异常信号;以及综合控制部(22),该综合控制部(22)对多个转换部(21)进行控制,以使得在射束停留于照射点的过程中执行多次数字信号转换处理,转换部(21)具有多个AD转换器(33);分配模拟信号的多路信号分离器(32);以及切换由AD转换器进行处理后得到的数字信号,并将其输出至位置尺寸处理部(23)的多路信号分离器(34)。
  • 数据处理装置粒子射线治疗
  • [发明专利]粒子射线治疗装置-CN201180072415.4有效
  • 萩野刚;本田泰三 - 三菱电机株式会社
  • 2011-07-21 - 2014-03-26 - A61N5/10
  • 本发明的目的在于提供一种粒子射线治疗装置,该粒子射线治疗装置不需要扫描电磁铁与照射对象之间具有很大的空间,并能够使用制作简便的脊形滤波器。该粒子射线治疗装置具有照射部(18),该照射部(18)包括用于对真空管道(4)内传输的粒子射线进行扫描并照射到照射对象上的扫描电磁铁(5)、以及从真空管道向大气中射出粒子射线的射束射出窗(7a、7b),照射部采用下述结构,即:真空管道设置为能够在扫描电磁铁的照射对象一侧的法兰面(47)上进行分离,并且在将设置于法兰面的照射对象一侧的扫描式照射法用真空管道(6)移动到不与粒子射线的射束线路(1)重合的情况下,能够在粒子射线的射束线路上,在移动前设置有扫描式照射法用真空管道的空间内设置宽射束照射法用的脊形滤波器(42)。
  • 粒子射线治疗装置

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