专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]溅射磁控管-CN200580049846.3无效
  • 安德里亚斯·鲁普;曼弗雷德·鲁斯克 - 应用材料合资有限公司
  • 2005-06-04 - 2008-06-18 - H01J37/34
  • 本发明涉及磁控管,该磁控管具有平面靶材(20)和平面磁体系统(1)。平面磁体系统具有条形第一磁极(26)和框架状第二磁极(2),第一磁极(26)具有扩大的末端,磁体系统上当靶材静止时发生运动的点在环路上运动。如果磁体系统是静止的,则靶材的每点在这样的环路上运动。在这种彼此相对运动过程中,磁体系统和靶材位于平行平面内。在此情况下,环路直径(D)对应于电子流的两个平行臂之间的平均距离,所述电子流是在第一磁极与第二磁极之间的溅射操作过程中形成的。由于磁体被布置在电子流的弯曲区域中,使磁极线在该处形成圆弧或圆形表面,所以避免了靶材中的孔。
  • 溅射磁控管

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