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[发明专利]晶圆卡盘标记版固定方法及其装置-CN202310609948.6在审
发明人：请求不公布姓名 -专利权人：深圳智达星空科技（集团）有限公司;智慧星空（上海）工程技术有限公司
申请日： 2023-05-29 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本申请提供一种晶圆卡盘标记版固定方法、晶圆卡盘标记版固定装置及晶圆卡盘装置，涉及半导体技术领域。所述晶圆卡盘标记版固定装置主要包括吸盘、晶圆卡盘、一对精密垫片、一对标记版、两标记版支架、两压块、三维线性模组、点胶装置、高度传感器及拍摄装置，以实现晶圆卡盘标记版固定功能，能够保障足够高的位置精密度，拆卸起来也相对便利和简单，提高了工作效率，且能够避免晶圆卡损伤。
卡盘标记固定方法及其装置

[发明专利]一种掩模版组及应用该掩模版组的曝光设备-CN202310610593.2在审
发明人：请求不公布姓名 -专利权人：深圳智达星空科技（集团）有限公司;智慧星空（上海）工程技术有限公司
申请日： 2023-05-29 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本申请提供一种掩模版组及应用该掩模版组的曝光设备，应用于半导体和泛半导体制备技术领域，该掩模版组通过在工作掩模版和工作光源之间设置防护掩模版，并在工作掩模版和/或防护掩模版上设置透明加热系统，可显著减少到达工作掩模版的无效光刻能量，防止掩模版热膨胀造成的光刻图案畸变；并可尽快达到掩模版的热平衡，保持掩模版温度稳定，提升工艺稳定性，减少准备时间，提高生产效率、降低次品率，具有极高的市场应用前景。
一种模版应用曝光设备

[发明专利]一种仿生点胶阀及点胶方法-CN202210787973.9有效
发明人：请求不公布姓名 -专利权人： 智慧星空（上海）工程技术有限公司;深圳智达星空科技（集团）有限公司
申请日： 2022-07-04 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：本说明书实施例提供一种仿生点胶阀，包括：主阀体；设置于主阀体上的进胶部和出胶部；设置于主阀体内部的往复运动机构、联动机构和仿生舌状结构，仿生舌状结构设置于进胶部处，往复运动机构和仿生舌状结构之间通过联动机构相连接，往复运动机构通过联动机构实现仿生舌状结构的打开和闭合。通过在进胶部处设置仿生舌状结构，通过往复运动机构控制仿生舌状结构的打开和闭合，便于高粘度胶水的流转，能够提高高粘度胶水点胶效率，点胶能耗较低，能够在不增加光学镜片和镜座间隙的情况下提高点胶效率。
一种仿生点胶阀方法

[发明专利]微透镜阵列曝光装置以及微透镜阵列曝光方法-CN202310459191.7在审
发明人：请求不公布姓名 -专利权人： 智慧星空（上海）工程技术有限公司;深圳智达星空科技（集团）有限公司
申请日： 2023-04-26 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种微透镜阵列曝光装置以及微透镜阵列曝光方法，属于曝光机技术领域，装置包括照明系统、掩膜版、成像系统以及感光基板，成像系统具有第一成像镜头组和第二成像镜头组，第一成像镜头组和第二成像镜头组沿中间像面镜像对称，第一成像镜头组和第二成像镜头组均为规则排布的微透镜镜头组；照明系统提供曝光光束，曝光光束照射掩模版的图案，并经过第一成像镜头组形成中间像面，再通过第二成像镜头组曝光于感光基板；第一成像镜头组的物面对应掩模版，第一成像镜头组的像面对应中间像面；第二成像镜头组的物面为中间像面，第二成像镜头组的像面对应于感光基板。通过本申请的处理方案，可得到结构简单、且提高镜头视场利用率的曝光装置。
透镜阵列曝光装置以及方法

[发明专利]一种基片坐标测量方法-CN202210482980.8有效
发明人：请求不公布姓名 -专利权人： 智慧星空（上海）工程技术有限公司;深圳智达星空科技（集团）有限公司
申请日： 2022-05-05 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明属于半导体加工技术领域，具体涉及一种基片坐标测量方法，引入一个已知坐标位置的基准标记版作为坐标系基准，通过传感器直接测量基片上的位置标识与基准标记版上基准位置标识的投影位置偏差，实现对基片上位置标识纳米级别、亚微米级别的坐标测量精度，基本消除了对运动台精度的依赖，并最大限度地提高了测量效率。
一种坐标测量方法

[发明专利]一种光学镜头-CN202111230877.6有效
发明人：请求不公布姓名 -专利权人： 智慧星空（上海）工程技术有限公司;深圳智达星空科技（集团）有限公司
申请日： 2021-10-22 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G02B13/18 文献下载
摘要：本发明涉及光学镜头领域，特别涉及一种光学镜头。光学镜头自物侧至像侧依序包括：第一透镜，第二透镜，第三透镜，第四透镜，第五透镜，第六透镜，第七透镜以及第八透镜；第一透镜和第二透镜均具有正屈折力；光学镜头的焦距为f，光学总长为TTL；第二透镜的焦距为f2；第三透镜的物侧面的中心曲率半径为R5，像侧面的中心曲率半径为R6；第六透镜的物侧面到像侧面的轴上距离为d11，像侧面至第七透镜的物侧面的轴上距离为d12；且满足下列关系式:0.75≤f/TTL；0.8≤f2/f≤8.2；‑3.2≤(R5+R6)/(R5R6)≤‑0.3；0.8≤d11/d12≤8.2。本发明的光学镜头具有良好光学性能的同时，满足大光圈、超薄化的设计要求。
一种光学镜头

[发明专利]一种微调机构、调节装置及半导体精加工系统-CN202310508142.8在审
发明人：请求不公布姓名 -专利权人：深圳智达星空科技（集团）有限公司;智慧星空（上海）工程技术有限公司
申请日： 2023-05-06 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本申请提供一种调节机构、调节装置及半导体精加工系统，包括：包括：放置台、固定框、调节组件、第一吸附组件和第二吸附组件。放置台具有放置面、底面和连接面。贯穿孔的侧壁用于和连接面对接。调节组件安装于活动腔内，调节组件具有用于对接底面的调节面，调节面用于和底面对接并调节放置台的姿态。第一吸附组件设置在放置台，和/或，固定框上。第二吸附组件设置在放置台，和/或，调节组件上。调节组件仅在调节放置台的角度时和放置台接触，在放置台上的物料加工时，振动不会通过调节组件传递给放置台，防止因调节组件处于伺服状态的振动导致的放置台物料加工精度降低。
一种微调机构调节装置半导体精加工系统

[发明专利]一种光学镜头-CN202310137811.5在审
发明人：请求不公布姓名 -专利权人：深圳智达星空科技（集团）有限公司;智慧星空（上海）工程技术有限公司
申请日： 2023-02-13 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于光刻工艺设备技术领域，具体涉及一种光学镜头，可用于高分辨率紫外光刻机。一个物面(掩模面)经过投影物镜后可以多次成像形成多个像面，从而使产率成倍增加。节省了投影物镜以及整个曝光设备的成本。同时，本发明可以实现多个物面成一个或多个像面的技术效果。
一种光学镜头

[发明专利]一种键合装置及一种双面对准方法-CN202211566271.4在审
发明人：请求不公布姓名 -专利权人： 智慧星空（上海）工程技术有限公司;深圳智达星空科技（集团）有限公司
申请日： 2022-12-07 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明属于晶圆或芯片键合领域，具体涉及一种键合装置及一种双面对准方法，设置了双面对准测量系统，实现了晶圆与晶圆、芯片与芯片、芯片与晶圆的高精度对准，对水平偏移量和旋转角进行高精度补偿，消除了垂向运动引起的水平向误差，消除了对准系统光轴与基片表面不垂直带来的测量时的水平位置系统偏差。
一种装置双面对准方法

[发明专利]一种紫外光刻投影物镜-CN202310109386.9在审
发明人：请求不公布姓名 -专利权人： 智慧星空（上海）工程技术有限公司;深圳智达星空科技（集团）有限公司
申请日： 2023-02-13 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于无掩模光刻技术领域，具体涉及用于高密度PCB、LCD和MEMS设计及制造的一种紫外光刻投影物镜。应用于混合或单色紫外光刻光源的投影，包括自物面至像面光轴一致的第一透镜组G1、孔径光阑、第二透镜组G2、第三透镜组G3和第四透镜组G4；第一透镜组G1具有正的光焦度；所述第二透镜组G2具有正的光焦度；所述第三透镜组G3具有负的光焦度；第四透镜组G4具有正的光焦度；其中，所述紫外光刻投影物镜为物、像方双远心结构且不包括非球面。本发明提出一种结构简单、性能良好的可用于紫外SLM光刻的紫外光刻投影物镜，该物镜可以工作在365nm～405nm的混合或单色光源中，其具有结构简单、透镜加工成本低、像差良好、不含有非球面等优势。
一种紫外光刻投影物镜

[发明专利]一种接近接触式曝光装置-CN202211503009.5在审
发明人：请求不公布姓名 -专利权人：深圳智达星空科技（集团）有限公司;智慧星空（上海）工程技术有限公司
申请日： 2022-11-28 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于半导体加工装置技术领域，具体涉及一种接近接触式曝光装置。本发明在传统接近接触式曝光装置的基础上，设置一个比基片待曝光区域小的曝光照明视场，同时设置支撑掩摸台和基片台或者支撑照明系统的步进或扫描运动装置，在掩模版和基片完成调焦调平和对准之后，通过驱动上述步进或扫描运动装置使照明系统相对掩摸台和基片台运动，从而完成对基片的全片曝光。本发明可以支持在曝光光源视场小于基片待曝光区域的情况下完成对基片的完整曝光，因此可以设置更精密的曝光光源，使接近接触式曝光的分辨率至3um以下；本发明可在步进或扫描曝光过程中，通过掩摸台或基片台实时微调掩摸和基片的相对位置，提高套刻精度至1um以下。
一种接近接触曝光装置

[发明专利]表面形貌测量装置及方法、物体表面高度计算方法-CN202211020203.8在审
发明人：不公告发明人 -专利权人： 智慧星空（上海）工程技术有限公司;深圳智达星空科技（集团）有限公司
申请日： 2022-08-24 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本申请提供一种表面形貌测量装置及方法、物体表面高度计算方法，应用于光学精密测量技术领域，包括：光纤F‑P干涉测头和三维位移台；光纤F‑P干涉测头由光纤头阵列和微透镜阵列组成，三维位移台上固定待测物体；光束传输到光纤F‑P干涉测头上，通过光纤头阵列和微透镜阵列后，从微透镜阵列的出射面发射，并准直照射到待测物体的表面；三维位移台带动待测物体做三维运动以对待测物体进行表面形貌测量。通过采用光纤头阵列和微透镜阵列与三维位移台结合的扫描测量方案，解决光纤F‑P干涉测头测量范围小、测量速度慢的问题，提高光纤F‑P干涉表面形貌检测产品的测量范围及测量速度、降低其成本。
表面形貌测量装置方法物体高度计算方法

[发明专利]一种用于粘度快速变化胶的丝网印刷装置-CN202111267947.5有效
发明人：不公告发明人 -专利权人： 智慧星空（上海）工程技术有限公司;深圳智达星空科技（集团）有限公司
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： B41F15/08 文献下载
摘要：本发明涉及丝网印刷技术领域，具体涉及一种用于粘度快速变化胶的丝网印刷装置，包括：印台，用于放置印刷基材；图形钢网印刷版，配置有预设透墨网孔，与印刷基材的被印刷面间隙设置；刮板，用于在图形钢网印刷版覆印料后，向印刷基材压抵图形钢网印刷版，向被印刷面印制印刷层；丝网，设置在图形钢网印刷版与被印刷面之间。本发明采用丝网与钢网印刷版组合的印胶模式，无图形丝网用于保证胶水不发生侧壁溢胶，而有图形钢网印刷版则用于确保印刷图形的转移，从而在保证印胶质量的情况下使印胶装置能够更长时间工作，降低网版的清洗频率，提高印胶的生产效率。
一种用于粘度快速变化丝网印刷装置

[发明专利]一种波纹管连接装置、设备压力测试系统及连接方法-CN202210904333.1在审
发明人：不公告发明人 -专利权人： 智慧星空（上海）工程技术有限公司;深圳智达星空科技（集团）有限公司
申请日： 2022-07-29 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： F16L51/02 文献下载
摘要：本说明书实施例提供一种波纹管连接装置、设备压力测试系统及连接方法，装置包括波纹管本体，装置还包括安装于波纹管本体端部的紧固件和连接件，紧固件卡合于波纹管本体外部，紧固件与波纹管本体外壁紧密接触，连接件与紧固件之间紧密接触，连接件上开有与外部设备壳体相连接的内螺纹，紧固件对连接件进行限位。通过设置紧固件和连接件，紧固件卡合安装在波纹管本体外部，能够避免对波纹管造成损伤，紧固件对连接件进行限位，能够避免连接件与波纹管本体之间发生分离，通过在连接件上开设与外部设备壳体相连接的内螺纹，实现与外部设备壳体之间的连接，便于在狭窄空间内进行波纹管的连接和拆卸。
一种波纹管连接装置设备压力测试系统方法

[发明专利]一种对准、键合设备和方法-CN202210803932.4在审
发明人：不公告发明人 -专利权人： 智慧星空（上海）工程技术有限公司;深圳智达星空科技（集团）有限公司
申请日： 2022-07-07 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明属于半导体制造技术领域，具体涉及一种对准、键合设备和方法，对准、键合装置包括上压盘、加压装置、双向测量系统、下压盘、垂向台及密封环，本发明基于一组设备，在完成基片光学对位后直接进行原位键合，省却了借助夹持治具进行的操作动作，大幅提高了基片的键合精度，并有效提高了键合工艺的良率。
一种对准设备方法

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