专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光学层叠体-CN202280019235.8在审
  • 沼阳介;川岛孝之;瀬川淳一;田中兴一 - 日本化药株式会社
  • 2022-03-17 - 2023-10-27 - G02B5/30
  • [课题]提供:使用包含呈现银色的胆甾相液晶层的光学层叠体的情况下从任意角度观察均呈现无彩色的银色的光学层叠体。[解决方案]一种光学层叠体,其具备:包含至少一层的胆甾相液晶层的光反射层、和夹持前述光反射层的支撑体,前述光反射层的反射色调呈现银色,前述光反射层在至少遍及380nm~900nm的波长范围内具有反射特性,前述光反射层的波长380nm~780nm的平均反射率为10%以上,反射色调为a*=‑2~+2、b*=‑4~+4,在前述波长范围内,前述光反射层的波长500nm~700nm下的平均反射率(R1)与波长701nm~900nm下的平均反射率(R2)之差(△R1‑R2)的绝对值为10点以下。
  • 光学层叠
  • [发明专利]点火器及气体发生器-CN202280018435.1在审
  • 矢岛一辉;筥崎智弘;中野智之 - 日本化药株式会社
  • 2022-02-23 - 2023-10-27 - B60R21/264
  • 为得到一种能在保持密封性及绝缘性的同时,调节杯状部件工作时的伸长,抑制了对传火药的传火阻碍的点火器及气体发生器。盘型气体发生器100具有轴向一端及另一端被封闭的短尺寸大致圆筒状的壳体,在设置于该壳体内部的收容空间中,收容有作为内部构成部件的保持部30、具有爆破盖43的点火器40、杯状部件50、传火药59、气体发生剂61、下侧支撑部件70、上侧支撑部件80、缓冲部件85及过滤器90等。为了使点火器40工作时爆破盖43的伸长率为大于0%且小于10%,爆破盖43是将含有伸长率调节材料的热固性树脂或热塑性树脂成型为杯状而成的。
  • 点火器气体发生器
  • [发明专利]预处理组合物、印刷组件以及印染方法-CN202280017198.7在审
  • 寺西谅;樋口比吕子;伊藤隆太郎;黑岩隼人 - 日本化药株式会社
  • 2022-03-04 - 2023-10-13 - D06P5/00
  • 本发明涉及一种预处理组合物用于形成湿润的预涂层以容纳通过喷墨方式在布帛上形成图像的水性墨液组合物,其满足下述[1]至[4]全部条件要求:[1]所述水性墨液组合物包含水、颜料、树脂乳液、水溶性有机溶剂、表面活性剂;[2]用于形成每单位面积的所述预处理组合物涂布量大于0.035g/cm2且小于0.070g/cm2的湿润的预涂层;[3]所述预处理组合物包含水、相对于预处理组合物总质量大于1.4质量%且小于10.0质量%的阳离子聚合物、相对于预处理组合物总质量为0.1质量%以上且小于2.7质量%的交联剂;[4]所述阳离子聚合物包含选自由烯丙胺结构单元、二烯丙胺结构单元、二烯丙铵结构单元和环氧卤丙烷结构单元所组成的组中的至少任一种。
  • 预处理组合印刷组件以及印染方法
  • [发明专利]不饱和醛和/或不饱和羧酸的制造方法-CN202310291434.0在审
  • 重森圭介;平冈良太 - 日本化药株式会社
  • 2023-03-23 - 2023-09-26 - C07C45/35
  • 本发明涉及不饱和醛和/或不饱和羧酸的制造方法。本发明提出一种制造方法,其为以丙烯、异丁烯、叔丁醇等为原料制造相应的不饱和醛、不饱和羧酸的气相催化氧化方法,其中,所述制造方法即使在原料转化率高的区域中,目标产物的收率也高。一种不饱和醛和/或不饱和羧酸的制造方法,所述不饱和醛和/或不饱和羧酸的制造方法使用固定床多管型反应器,并且设置通过对反应管的气体流动方向进行n划分(n为2以上)而形成的多个催化剂层,其中,从原料气体入口部到总填充长度的一半的催化剂活性成分密度(A1)与从总填充长度的一半到原料气体出口部的催化剂活性成分密度(A2)之比(A1/A2)为1.10~2.0。
  • 不饱和羧酸制造方法
  • [发明专利]处理液及基板的洗涤方法-CN202310252015.6在审
  • 稲垣真也;佐口琢哉;星野纯一 - 日本化药株式会社
  • 2023-03-16 - 2023-09-22 - G03F7/42
  • 本发明涉及处理液及基板的洗涤方法。本发明的课题在于提出一种处理液,其光阻剥离性优异,且对多晶硅的伤害极小,而且保存稳定性优异,尤其是低温保存稳定性优异,因此实用性非常高。本发明对于上述课题的解决手段为一种处理液,其具有(A)具有内酯骨架的化合物、及(B)分子内具有2个以上羟基的胺化合物;优选为(A)为γ‑丁内酯且(B)为N‑烷基二乙醇胺;更优选为实质上仅由(A)、(B)所构成。
  • 处理洗涤方法

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