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[发明专利]缸装置-CN201710464801.7有效
发明人：石井干人;日下浩志;中岛健 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2017-06-19 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： F15B15/14 文献下载
摘要：缸装置(10)包括可移动地布置的活塞(18)和活塞杆(20)，以及可移动体(22)，活塞杆(20)从可移动体(22)的另一端部插入。活塞杆(20)包括第一销凹槽(70)，第一销凹槽(70)沿着轴向方向延伸且支撑销(30)插入第一销凹槽(70)。支撑销(30)同样插入第二销凹槽(82)，其中第二销凹槽(82)形成于可移动体(22)，并具有大致L型的截面。进一步地，连杆销(90)插入活塞杆(20)的另一端部上的销孔(72)。连杆销(90)插入可移动体(22)内的第三销凹槽(84)，第三销凹槽(84)相对于可移动体(22)的轴线倾斜预定角度。此外，在活塞(18)的移动作用下，可移动体(22)进行线性位移，此后连杆销(90)沿第三销凹槽(84)移动带动可移动体(22)旋转位移。
装置

[实用新型]复动式真空吸附用流体压力缸-CN201621129433.8有效
发明人： 日下浩志 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2016-10-17 - 公布日： 2017-07-11 - 主分类号： F15B15/14 文献下载
摘要：复动式真空吸附用流体压力缸(10)具有活塞(14)，其滑动自如地配设在缸主体(12)的内部；活塞杆(16)，其与活塞(14)连结；杆罩(18)，其固定于缸主体(12)；以及滑块(20)，其与从杆罩(18)向外方突出的活塞杆(16)的端部连结，在滑块(20)装配有喷嘴(21)，在活塞(14)与杆罩(18)之间配设有弹簧(68)。根据本实用新型的复动式真空吸附用流体压力缸，能够通过紧凑的结构使喷嘴等与工件接触时所产生的静电接地。
复动式真空吸附流体压力

[发明专利]流体压力缸-CN201410227866.6有效
发明人： 日下浩志 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2014-05-27 - 公布日： 2017-06-06 - 主分类号： F15B15/14 文献下载
摘要：一种流体压力缸(10)，包括位移构件(20)，该位移构件(20)能够在本体(12)的一端侧位移，并且连接本体(70)经由弹簧(108)被插入位移构件(20)的块体(92)中，该连接本体(70)被连接到缸单元(16)的活塞杆(26)。吸杆(18)被连接成与连接本体(70)和连接到连接本体(70)的缓冲杆(112)基本平行。此外，在块体(92)向下的位移被限制的状态下，当额外荷载被施加时，缓冲杆(112)对抗弹簧(108)的弹力相对于块体(92)相对地位移，从而在衬套(110)和缓冲杆(112)之间径向方向的间距被扩大。
流体压力

[发明专利]流体压力缸-CN201510209925.1在审
发明人： 日下浩志 -专利权人： SMC株式会社
申请日： 2015-04-28 - 公布日： 2015-11-11 - 主分类号： F15B15/14 文献下载
摘要：一种流体压力缸(10)，包括位移块(20)，该位移块(20)在本体(12)的另一端侧可位移。构成缸单元(16)的活塞杆(26)的第二连接部(46)经由第二缸孔(72)与位移块(20)螺纹接合。另一方面，吸杆(18)的一端插入盖构件(82)，负压流体被供应到吸杆(18)的该一端。另外，通过将工具插入形成在第二连接部(46)的端部的工具凹槽(48)并且在预定方向上旋转工具，位移块(20)能够相对于活塞杆(26)在接近和远离本体(12)的方向上移动。换言之，能够调整位移块(20)相对于本体(12)的相对位置。
流体压力