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- [发明专利]基板处理装置-CN202010366691.2有效
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中井仁司;大桥泰彦
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斯克林集团公司
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2013-08-30
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2023-06-06
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H01L21/67
- 基板处理装置具有腔室、基板保持部、基板旋转机构、受液部及上下喷嘴。腔室具有腔室主体和腔室盖部，并且腔室盖部能够进行升降。在腔室盖部与腔室主体相接触的状态下，形成小的密闭空间，并且进行伴随着减压或者加压进行的处理。当腔室盖部上升时，在腔室盖部和腔室主体之间形成环状开口。第一罩部以及第二罩部位于环状开口的外侧。从基板飞散的处理液被第一罩部或者第二罩部接受。在基板处理装置中，能够在小的腔室内进行各种处理。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置-CN202010366665.X有效
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中井仁司;大桥泰彦
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斯克林集团公司
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2013-08-30
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2023-06-06
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H01L21/67
- 基板处理装置具有腔室、基板保持部、基板旋转机构、受液部及上下喷嘴。腔室具有腔室主体和腔室盖部，并且腔室盖部能够进行升降。在腔室盖部与腔室主体相接触的状态下，形成小的密闭空间，并且进行伴随着减压或者加压进行的处理。当腔室盖部上升时，在腔室盖部和腔室主体之间形成环状开口。第一罩部以及第二罩部位于环状开口的外侧。从基板飞散的处理液被第一罩部或者第二罩部接受。在基板处理装置中，能够在小的腔室内进行各种处理。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201910965159.X有效
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藤原友则;柴山宣之;吉田幸史;柴田哲弥;仲野彰义
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斯克林集团公司
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2014-09-19
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2023-03-24
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H01L21/67
- 本发明提供一种在对基板实施液体处理时能够执行恰当的处理的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(1)具有：基板保持部，将基板保持为水平姿势，并使该基板围绕通过该基板的面内的中心的铅垂的旋转轴旋转；挡板构件(60)，其呈沿着基板(9)的表面周缘部的至少一部分形成的形状，并配置在与被基板保持部保持的基板(9)的表面周缘部以非接触状态接近的位置；杯(31)，其为上端开放的筒形状构件，同时包围被基板保持部保持的基板(9)和挡板构件(60)；喷嘴(50)，隔着挡板构件(60)的至少一部分配置在与杯(31)的一侧相反的一侧，向被基板保持部保持的基板(9)的表面周缘部喷出处理液。
- 处理装置以及方法
- [发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201910964488.2有效
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藤原友则;柴山宣之;吉田幸史;柴田哲弥;仲野彰义
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斯克林集团公司
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2014-09-19
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2023-02-17
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H01L21/02
- 本发明提供一种在对基板实施液体处理时能够执行恰当的处理的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(1)具有：基板保持部，将基板保持为水平姿势，并使该基板围绕通过该基板的面内的中心的铅垂的旋转轴旋转；挡板构件(60)，其呈沿着基板(9)的表面周缘部的至少一部分形成的形状，并配置在与被基板保持部保持的基板(9)的表面周缘部以非接触状态接近的位置；杯(31)，其为上端开放的筒形状构件，同时包围被基板保持部保持的基板(9)和挡板构件(60)；喷嘴(50)，隔着挡板构件(60)的至少一部分配置在与杯(31)的一侧相反的一侧，向被基板保持部保持的基板(9)的表面周缘部喷出处理液。
- 处理装置以及方法
- [发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201810203165.7有效
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小林健司;奥谷学
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斯克林集团公司
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2015-03-25
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2022-12-02
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H01L21/02
- 本发明提供能抑制或防止图案的倒塌并使基板的表面良好地干燥的基板处理方法及装置。该方法包括：有机溶剂置换工序，将表面张力比在保持为水平姿势的基板的上表面附着的冲洗液的表面张力低的液体的有机溶剂向基板的上表面供给，以在基板上形成覆盖基板的上表面的有机溶剂的液膜，利用有机溶剂置换冲洗液；基板高温化工序，在形成有机溶剂的液膜后，使基板的上表面到达比有机溶剂的沸点更高的规定的第一温度，由此，在有机溶剂的液膜的整个区域，在有机溶剂的液膜和基板的上表面之间形成有机溶剂的蒸发气体膜，并且使有机溶剂的液膜浮起在有机溶剂的蒸发气体膜的上方；有机溶剂排除工序，将浮起的有机溶剂的液膜从基板的上表面的上方排除。
- 处理方法以及装置
- [发明专利]基板处理装置-CN201810131309.2有效
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吉原直彦;小林健司;奥谷学
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斯克林集团公司
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2015-02-26
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2022-04-29
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H01L21/02
- 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够一边对基板进行加热一边使基板的上表面相对于水平面倾斜，并且，从基板的上方顺利且完全地排除有机溶剂等的处理液的液膜。基板处理装置具有一边对基板进行支撑一边对基板从下方进行加热的基板加热单元和使基板加热单元的姿势在水平姿势和倾斜姿势之间变更的姿势变更单元。在紧接着对基板加热的基板高温化工序执行的有机溶剂排除工序中，通过使基板加热单元的姿势变更为倾斜姿势，来使基板的上表面相对于水平面倾斜。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置-CN201810131287.X有效
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吉原直彦;小林健司;奥谷学
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斯克林集团公司
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2015-02-26
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2022-04-15
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H01L21/67
- 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够一边对基板进行加热一边使基板的上表面相对于水平面倾斜，并且，从基板的上方顺利且完全地排除有机溶剂等的处理液的液膜。基板处理装置具有一边对基板进行支撑一边对基板从下方进行加热的基板加热单元和使基板加热单元的姿势在水平姿势和倾斜姿势之间变更的姿势变更单元。在紧接着对基板加热的基板高温化工序执行的有机溶剂排除工序中，通过使基板加热单元的姿势变更为倾斜姿势，来使基板的上表面相对于水平面倾斜。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理方法-CN201711189179.X有效
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藤原直澄;江户彻;泽岛隼;下村辰美
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斯克林集团公司
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2015-07-02
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2022-04-01
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H01L21/67
- 本发明提供基板处理装置及方法，以低成本抑制基板的所希望的处理量与实际的处理量的差异和在各部分的处理量的偏差。装置具有：旋转保持部，保持基板并使其旋转；第一供给源，供给第一温度的第一纯水；第二供给源，供给比第一温度高的第二温度的第二纯水；配管系统，将第一纯水分配为一方第一纯水和另一方第一纯水并引导；处理液供给部，将混合一方第一纯水和药液的处理液供至基板的上表面中央区；第一供给部，将主要包含另一方第一纯水的第一液体供至下表面中央区；第二供给部，将主要包含第二纯水的第二液体分别供至下表面周边区与中间区；热量控制部，独立控制第一供给部供给的热量和第二供给部供给的热量，以便变更基板的径向的温度分布。
- 处理方法
- [发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201810218107.1有效
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吉住明日香;樋口鲇美
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斯克林集团公司
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2014-08-08
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2022-04-01
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H01L21/67
- 本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够使冲洗液恰好飞散到清洗对象位置，抑制装置的大型化，并且能够在批处理的途中执行杯清洗。特殊模式具有第2冲洗处理，在第2冲洗处理中，在与通常模式的第1冲洗处理不同的动作条件下，一边由旋转卡盘保持基板并使基板旋转，一边向基板供给冲洗液，来利用从旋转的基板飞散的冲洗液对处理杯进行清洗。由于在特殊模式中基板被保持在旋转卡盘上，所以从基板飞散的冲洗液难以碰到卡盘部件。此外，在特殊模式下，没有必要设置用于杯清洗的专用机构。此外，特殊模式是只要在腔室内存在基板就能够执行的模式，即使是在批处理的途中也能执行。
- 处理装置以及方法
- [发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201810083533.9有效
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佐野洋;角间央章
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斯克林集团公司
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2015-03-11
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2022-03-08
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H01L21/67
- 本发明提供基板处理装置及方法，成为处理对象的基板的种类无论怎样，都确实检测出从喷嘴喷出处理液的情况。上表面处理液喷嘴在旋转卡盘所保持的基板上方的处理位置与比处理杯靠外侧的待机位置之间往复移动。在移动到处理位置的上表面处理液喷嘴喷出处理液之前由照相机对包含上表面处理液喷嘴的前端的拍摄区域拍摄而获取喷出基准图像。之后，将由照相机连续对拍摄区域拍摄而获取的多个监视对象图像与喷出基准图像之间按顺序进行比较，判定从上表面处理液喷嘴喷出处理液的情况。每当对成为新的处理对象的基板进行处理时都获取喷出基准图像，因此能够将监视对象图像及喷出基准图像的作为背景而映入的基板表面的影响排除，确实检测出处理液的喷出。
- 处理装置以及方法
- [发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201710952395.9有效
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藤原友则;柴山宣之;吉田幸史
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斯克林集团公司
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2014-09-19
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2021-10-29
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H01L21/67
- 本发明提供一种能够抑制在表面周缘部的处理中使用的处理液进入器件区域的基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(1)具有：基板保持部；周缘部用喷出头(51)，向被基板保持部保持的基板(9)的表面周缘部喷出流体。周缘部用喷出头(51)具有多个喷嘴(50a～50d)和一体支撑多个喷嘴(50a～50d)的支撑部(500)。多个喷嘴(50a～50d)包括向表面周缘部喷出处理液的处理液喷嘴(50a、50b、50c)和向表面周缘部喷出气体的气体喷嘴(50d)，气体喷嘴(50d)相比处理液喷嘴(50a、50b、50c)配置在基板(9)的旋转方向的上游侧。
- 处理装置以及方法
- [发明专利]基板处理装置-CN201711189693.3有效
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藤原直澄;江户彻;泽岛隼;下村辰美
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斯克林集团公司
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2015-07-02
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2021-09-24
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H01L21/67
- 本发明提供基板处理装置及方法，以低成本抑制基板的所希望的处理量与实际的处理量的差异和在各部分的处理量的偏差。装置具有：旋转保持部，保持基板并使其旋转；第一供给源，供给第一温度的第一纯水；第二供给源，供给比第一温度高的第二温度的第二纯水；配管系统，将第一纯水分配为一方第一纯水和另一方第一纯水并引导；处理液供给部，将混合一方第一纯水和药液的处理液供至基板的上表面中央区；第一供给部，将主要包含另一方第一纯水的第一液体供至下表面中央区；第二供给部，将主要包含第二纯水的第二液体分别供至下表面周边区与中间区；热量控制部，独立控制第一供给部供给的热量和第二供给部供给的热量，以便变更基板的径向的温度分布。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置-CN201710764886.0有效
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难波敏光
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斯克林集团公司
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2013-08-09
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2021-09-14
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H01L21/67
- 基板处理装置具有基板保持部、基板旋转机构和腔室。基板旋转机构具有在腔室的内部空间配置的环状的转子部和在腔室外配置在转子部的周围的定子部。基板保持部在腔室的内部空间安装在转子部上。在基板旋转机构中，在定子部和转子部之间产生以中心轴为中心的旋转力。由此，转子部与基板以及基板保持部一起以中心轴为中心以漂浮状态进行旋转。在基板处理装置中，能够在具有高的密闭性的内部空间内使基板容易进行旋转。其结果，能够容易实现在密闭的内部空间中的基板的单张处理。
- 处理装置
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