专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种用于干涉仪快速对点的辅助装置及其测量方法-CN202310813238.5在审
  • 吴福林;余鑫巍 - 恒迈光学精密机械(杭州)有限公司
  • 2023-07-04 - 2023-10-03 - G01B9/02056
  • 本发明公开了一种用于干涉仪快速对点的辅助装置及其测量方法,辅助装置包括光源、分光镜、光陷阱、棱镜和光屏,分光镜位于光源的出射方向并将射入的光束分为透射光和反射光,光屏位于分光镜右侧,光屏的中心设有通孔,通孔位于反射光的传输路径上,棱镜和分光镜之间设有二分之一波片,二分之一波片和棱镜均位于透射光的传输路径上,棱镜用于将射入的透射光反射至干涉仪准直镜,光陷阱位于分光镜左侧,测量方法包括以下步骤:辅助装置的安装与姿态调节;干涉仪透射平面参考镜的姿态调节与对点工作;透射镜的姿态调节与对点工作;被测镜参数的测量,使用该装置能够在短时间内完成干涉仪透射平面参考镜和被测镜的对点工作。
  • 一种用于干涉仪快速辅助装置及其测量方法
  • [实用新型]新型光栅衍射效率光谱测量装置-CN202123400512.1有效
  • 王圣浩;吴福林;刘世杰 - 恒迈光学精密机械(杭州)有限公司
  • 2021-12-30 - 2022-07-12 - G01M11/02
  • 本实用新型公开了新型光栅衍射效率光谱测量装置,涉及光谱分析技术领域,光栅单色器造价昂贵,使得测量系统的成本比较高,旋转盘安装有待测光栅固定机架,待测光栅固定机架上设置有待测光栅,待测光栅固定机架一侧设置有光源,光源的一侧设置有棱镜单色器,待测光栅固定机架另一侧设置有测试光探测器,所述光源和棱镜单色器与待测光栅固定机架之间固定连接有探测器连接杆,所述待测光栅固定机架与测试光探测器之间固定连接有探测器连接杆;采用棱镜单色器替换现有光栅衍射效率光谱测量仪器中的光栅单色器,由于棱镜单色器造价非常便宜,这使得本实用新型专利构建的测量系统具有较低的成本。
  • 新型光栅衍射效率光谱测量装置
  • [发明专利]基于电光效应的硬X射线单色器-CN202210430718.9在审
  • 王圣浩;吴福林;刘世杰;徐学科 - 恒迈光学精密机械(杭州)有限公司
  • 2022-04-22 - 2022-06-24 - G01N23/223
  • 本发明公开了一种基于电光效应的硬X射线单色器,包括若干晶体、与晶体数量相同的电压产生装置,相邻两个晶体平行设置,射入硬X射线单色器的复色X射线和晶体之间形成有夹角,电压产生装置与晶体相连并对晶体施加一个电场,通过同步调节各电压产生装置施加在晶体上的电压,使得电场强度变化的同时X射线在晶体中折射率随之改变,从而使得硬X射线单色器射出的单色X射线的波长实现微秒量级切换至目标波长。本发明具有X射线的输出波长切换速度快达到微秒量级切换,X射线吸收谱的测量速度快达到毫秒量级测量等优点。
  • 基于电光效应射线单色
  • [实用新型]新型透反射光谱测量仪-CN202123285673.0有效
  • 王圣浩;吴福林;刘世杰 - 恒迈光学精密机械(杭州)有限公司
  • 2021-12-24 - 2022-05-10 - G01J3/12
  • 本实用新型公开了一种新型透反射光谱测量仪,涉及透反射光谱测量仪技术领域,在传统测量过程中,单色器内部的机械结构需要断断续续的完成不连续的间歇运动,探测器需要进行间歇的数据采集,他们之间的动作是分时间先后顺序完成的,因而样品透反射光谱的测试速度比较缓慢,包括光源,光源的光束输出方向依次是光阑、偏振片,所述光源和光阑之间设置有液晶可调谐滤波器,偏振片的光束出射方向是待测样品、探测器,本实用新型专利采用液晶可调谐滤波器替换现有透反射光谱测量仪器中的光栅单色器,由于液晶可调谐滤波器的波长切换速度极快,远远快于现有技术中采用的光栅单色器,因此本实用新型专利构建的测量系统具有极快的测量速度。
  • 新型反射光谱测量仪
  • [发明专利]一种轮式抛光装置及加工方法-CN202010979167.2在审
  • 徐学科;吴福林;嵇文超;陈军;张宝安 - 恒迈光学精密机械(杭州)有限公司
  • 2020-09-17 - 2021-01-05 - B24B13/01
  • 本发明属于机械加工的技术领域,公开了一种轮式抛光装置,包括设置在运动机构上的柱状支架,所述柱状支架上设置有旋转机构和抛光气囊,所述旋转机构用于带动抛光气囊同时做公转和自转运动,借助运动机构带动柱状支架连同抛光气囊按照加工设定路线移动,同时利用旋转机构带动抛光气囊做公转和自转运动,实现对待加工部件的抛光加工。还公开了一种基于轮式抛光装置的加工方法,利用本发明的装置可以最大程度上实现了抛光轨迹和路径的随机化、均匀化,从而使在抛光加工时中高频等周期性误差不会遗留在待加工部件的表面。
  • 一种轮式抛光装置加工方法

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