专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种采用光学浮区法制备铝酸锶单晶体的工艺-CN202111546460.0在审
  • 芦宇辰;熊定康;陈龙;侯晶文;邓文;徐守磊;张群跃;黄彬;杨煜华 - 广西大学
  • 2021-12-16 - 2022-04-19 - C30B29/22
  • 本发明公开了一种采用光学浮区法制备铝酸锶单晶体的工艺,配料:将原料SrCO3、Al2O3按照化合反应比置于烧杯中;搅拌:将其加入原料的烧杯,加入无水乙醇后,混合;烘干:将搅拌好的样品进行烘干,致无水乙醇完全挥发;前驱料棒制备:上述样品粉末置于圆柱形模具中,并由等静压机高压下压致成型;烧结:将制备好的前驱料棒置于高温炉中烧结形成多晶陶瓷料棒;晶体生长:将多晶陶瓷料棒置于光学浮区炉中进行单晶体的生长;退火处理:将生长出的单晶体置于高温炉中进行退火处理以消除残余应力,光学基质材料铝酸锶熔点高达1500摄氏度以上,采用光学浮区法成功生长出无色、透明、大尺寸的高质量铝酸锶单晶,为长余辉基质材料带来了新的进展。
  • 一种采用光学法制备铝酸锶单晶体工艺

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