专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]载人压力舱侧开门结构-CN202222838014.3有效
  • 赵文刚;张士仁;麻云龙 - 烟台宏远氧业股份有限公司
  • 2022-10-27 - 2023-01-24 - E06B5/00
  • 本实用新型属于载人压力舱的侧向开门技术领域,具体涉及载人压力舱侧开门结构,包括舱体,所述舱体上设置有第一舱门固定结构,所述第一舱门固定结构上设置有第一舱门,所述第一舱门上设置有第一舱门密封结构,所述第一舱门密封结构与舱体接触,所述舱体上固定连接有安装座,所述安装座上设置有锁紧机构。本实用新型通过第一舱门、第二舱门、第三舱门的位置设置在载人压力舱正前方位置,以合理规划舱室大厅尺寸,充分利用房间面积,有效节省相关土建费用支出,且该技术可安装不同的舱门形式,以满足不同的舱门开启方式,适应各类不同的使用场景和应用需求。
  • 载人压力开门结构
  • [实用新型]一种反射全景成像观察装置-CN202122502221.7有效
  • 张士仁;张润杰 - 上海画文教育科技有限公司
  • 2021-10-18 - 2022-04-05 - B60R1/08
  • 本实用新型涉及汽车后视镜技术领域,具体的说是一种反射全景成像观察装置,包括反光镜,所述反光镜包括平面镜、弧面镜a、弧面镜b和过渡弧面镜,所述弧面镜a一体设置在平面镜的底部,所述弧面镜b一体设置在平面镜的右侧,所述过渡弧面镜一体设置在平面镜的右下角,且分别与弧面镜a的右侧和弧面镜b的底部一体设置。本实用新型所述的一种反射全景成像观察装置,水平垂直方向可以做到上下左右全方位无死角盲区成像,广泛地拓展视野,该成像观察装置含有三个功能成像区域,传统后视成像区域、水平四周成像区域、垂直上下成像区域,可以显示全景,且三个区域成像具有平滑连续过渡,全部成像能够严格地成比例缩放不失真。
  • 一种反射全景成像观察装置
  • [实用新型]一种轧机用挡水装置-CN201320705491.0有效
  • 张士仁 - 宝钢特钢有限公司
  • 2013-11-08 - 2014-06-04 - B21B27/06
  • 本实用新型提供一种轧机用挡水装置,包括:固定挡水板,分别设置于上工作辊切水板与上工作辊相对一侧,其包括固定部和连接部,所述固定部一端抵接于轧机导卫上表面,另一端与连接部连接;活动挡水板,其一端枢轴连接于所述固定挡水板的连接部,另一端搭接于所述上工作辊切水板上表面;汽缸,汽缸体固定于轧机导卫上,活塞杆自由端与所述活动挡水板连接。所述装置在轧制高合金比特殊钢种及工模具钢等时既能确保支撑辊、工作辊冷却需求,又能有效充分屏蔽冷却水对轧件及轧制过程的影响并可保证轧制成品的精度和板型质量。
  • 一种轧机用挡水装置
  • [发明专利]BPSG中硼、磷含量测量的校正方法-CN200710042391.3有效
  • 肖建军;宋国宁;张士仁;杨洪春 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2007-06-22 - 2008-12-24 - G01N23/223
  • 本发明公开一种硼磷硅玻璃(BPSG)中硼(B)、磷(P)含量测量的校正方法,以对诸如X射线荧光仪(XRF)等BPSG的B、P含量测定仪器进行校正。主要利用湿化学方法测定BPSG中的B、P含量,并与XRF测定的结果进行对比,求出差异数值,通过差异数值调节XRF的准确性,具体步骤包括:用XRF测量BPSG薄膜的硼、磷浓度;将所述BPSG薄膜溶解于蚀刻液,用元素定量分析设备测定其硼、磷浓度;以及利用XRF和元素定量分析设备分别测定的硼、磷浓度形成一用于校正所述XRF的浓度校正曲线。然后利用该浓度校正曲线来校正XRF,或者根据该浓度校正曲线制作XRF标准片来校正XRF。
  • bpsg含量测量校正方法
  • [实用新型]一种晶圆正面污染物的检测样品制备治具-CN200720073816.2有效
  • 肖建军;宋碧波;张士仁;吕秋玲 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2007-08-20 - 2008-08-06 - G01N1/28
  • 本实用新型提供了一种晶圆正面污染物的检测样品制备治具。现有技术在制备检测样品时将晶圆放置在晶圆盒中且用吸管向其正面滴制样溶液且转移反应后的溶液存在着操作不便的问题。本实用新型的治具包括放置晶圆的本体、罩设在本体上的罩体和设置在罩体顶部用于供制样者向晶圆正面喷洒制样溶液或水的进样喷头,该本体为与锥线分别成直角和预设锐角的第一和第二平面截倒立椎面所得,该第一和第二平面在倒立锥面上形成了第一和第二截圆,该第二截圆为直接与操作台接触的椭圆且其低于第一截圆,该晶圆的直径介于第二截圆的短轴和第一截圆的直径间,该本体在放置晶圆且距操作台最近的位置上设置有供制样溶液流出本体的开口。本实用新型可使制样便利精准且安全。
  • 一种正面污染物检测样品制备
  • [实用新型]半导体检测设备的进样器-CN200720070547.4有效
  • 肖建军;张士仁;吕秋玲 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2007-06-01 - 2008-04-23 - G01N27/62
  • 本实用新型公开了一种半导体检测设备的进样器,涉及半导体检测领域的装置。该进样器包括进样管及套接于进样管的进样口上的选择性过滤接头。进一步地,该选择性过滤接头包括筒状本体、安装于筒状本体上部的密封接头以及可拆卸地安装于筒状本体底面选择性半透膜。与现有技术相比,本实用新型进样器通过在进样管的进样口处设置具有选择过滤性功能的选择性过滤接头,将检测样品中不需要检测或者影响检测结果的杂质从源头上进行阻止,提高了检测设备的灵敏度;对大分子有机物或者高浓度无机物,可以避免对进样管的阻塞,增加了其使用寿命,降低了检测成本。
  • 半导体检测设备进样器

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