专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]183NM CW激光器及检验系统-CN201880015207.2有效
  • 勇-霍·亚历克斯·庄;陆晓旭;张百钢;约翰·费尔登;弗拉基米尔·德里宾斯基 - 科磊股份有限公司
  • 2018-01-02 - 2021-08-03 - H01S3/109
  • 一种激光器组合件通过下列步骤产生在约181nm到约185nm的范围中的连续波CW激光器输出光:从具有介于1μm与1.1μm之间的第一基频波长的第一基频CW光产生四次谐波光;通过混合所述四次谐波光与所述第一基频CW光而产生五次谐波光;及接着混合所述五次谐波光与具有介于1.26μm与1.82μm之间的第二波长的第二基频或信号CW光。使用使第一基频CW光循环通过第一非线性晶体的外部腔且通过引导所述四次谐波光通过所述第一非线性晶体而产生所述五次谐波光。使用使经循环第二基频或信号CW光通过第二非线性晶体的第二腔且引导所述五次谐波光通过所述第二非线性晶体而产生所述激光器输出光。
  • 183nmcw激光器检验系统
  • [发明专利]非线性光学晶体的钝化-CN201710438881.9有效
  • 勇-霍·庄;弗拉基米尔·德里宾斯基 - 科磊股份有限公司
  • 2012-10-05 - 2020-10-23 - G02F1/355
  • 本发明是关于非线性光学晶体的钝化。本发明的一实施例包括暴露室,其经配置以含纳具有选定氢浓度的钝化气体,所述暴露室进一步经配置以含纳供暴露于所述室内的所述钝化气体的至少一个NLO晶体;钝化气体源,其流体连接到所述暴露室,所述钝化气体源经配置以将钝化气体供应到所述暴露室的内部部分;及衬底,其经配置以将所述NLO晶体固持于所述室内,所述衬底进一步经配置以使所述NLO晶体的温度维持处于或接近选定温度,所述选定温度低于所述NLO晶体的熔化温度。
  • 非线性光学晶体钝化
  • [发明专利]非线性光学晶体的钝化-CN201710439378.5有效
  • 勇-霍·庄;弗拉基米尔·德里宾斯基 - 科磊股份有限公司
  • 2012-10-05 - 2017-10-17 - G02F1/355
  • 本发明是关于非线性光学晶体的钝化。本发明的一实施例包括暴露室,其经配置以含纳具有选定氢浓度的钝化气体,所述暴露室进一步经配置以含纳供暴露于所述室内的所述钝化气体的至少一个NLO晶体;钝化气体源,其流体连接到所述暴露室,所述钝化气体源经配置以将钝化气体供应到所述暴露室的内部部分;及衬底,其经配置以将所述NLO晶体固持于所述室内,所述衬底进一步经配置以使所述NLO晶体的温度维持处于或接近选定温度,所述选定温度低于所述NLO晶体的熔化温度。
  • 非线性光学晶体钝化
  • [发明专利]非线性光学晶体的钝化-CN201280059827.9有效
  • 勇-霍·庄;弗拉基米尔·德里宾斯基 - 科磊股份有限公司
  • 2012-10-05 - 2017-07-07 - G02F1/35
  • 本发明包括暴露室,其经配置以含纳具有选定氢浓度的钝化气体,所述暴露室进一步经配置以含纳供暴露于所述室内的所述钝化气体的至少一个NLO晶体;钝化气体源,其流体连接到所述暴露室,所述钝化气体源经配置以将钝化气体供应到所述暴露室的内部部分;及衬底,其经配置以将所述NLO晶体固持于所述室内,所述衬底进一步经配置以使所述NLO晶体的温度维持处于或接近选定温度,所述选定温度低于所述NLO晶体的熔化温度。
  • 非线性光学晶体钝化
  • [发明专利]183纳米激光器及检验系统-CN201580053715.6在审
  • 勇-霍·亚历克斯·庄;J·约瑟夫·阿姆斯特朗;弗拉基米尔·德里宾斯基;邓宇俊;约翰·费尔登 - 科磊股份有限公司
  • 2015-10-02 - 2017-06-13 - H01S3/00
  • 一种用于产生处于大约183nm的输出波长的激光器输出光的激光器组合件包含基频激光器、光学参数系统OPS、五次谐波产生器及混频模块。所述基频激光器产生处于基频频率的基频光。所述OPS产生处于经下变频频率的经下变频信号。所述五次谐波产生器产生所述基频光的五次谐波。所述混频模块混合所述经下变频信号与所述五次谐波以产生处于等于五次谐波频率与所述经下变频频率的和的频率的所述激光器输出光。所述OPS通过产生处于所述经下变频频率的经下变频种子信号且接着混合所述经下变频种子信号与所述基频光的一部分而产生所述经下变频信号。所述频率混合、频率转换或谐波产生中的至少一者利用经退火、经氘处理或经氢处理的CLBO晶体。
  • 183纳米激光器检验系统

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