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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备-CN202010590423.9有效
发明人：石田知仁;渡口要;川原正隆;关谷道代;牧角康平 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G03G5/047 文献下载
摘要：本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。提供一种可以抑制在端部产生的放电条纹的电子照相感光构件。电子照相感光构件依次包括圆筒状支承体、电荷产生层和电荷输送层。电子照相感光构件中，将在电子照相感光构件的轴向上的中央位置与位于从电子照相感光构件的中央位置到一端的长度的90％处的90％位置之间的区域定义为区域X，并且将在90％位置和所述电子照相感光构件的一端之间的区域定义为区域Z。在通过将所述区域X等分为5个而获得的区域和通过将所述区域Z等分为3个而获得的区域中的平均厚度满足特定的关系。
电子照相感光构件处理设备

[发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备-CN202010582343.9在审
发明人：牧角康平;渡口要;川原正隆;石田知仁;关谷道代 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-06-23 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： G03G5/047 文献下载
摘要：本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。提供使得能够减轻感光构件的曝光后电位分布不均匀并且减轻感光构件沿轴向的寿命不均匀的电子照相感光构件。一种电子照相感光构件，其依次包括圆筒状支承体、电荷产生层和电荷输送层，其中当将沿圆筒状支承体的轴向从电子照相感光构件的图像形成区域中央位置至图像形成区域端位置的区域等分为五个区域时，五个区域中的电荷产生层的平均膜厚度在电荷产生层的膜厚度方面满足特定的关系，并且五个区域中的电荷输送层的平均膜厚度在电荷输送层的膜厚度方面满足特定的关系。
电子照相感光构件处理设备

[发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备-CN202010583243.8在审
发明人：关谷道代;渡口要;川原正隆;石田知仁;牧角康平 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-06-23 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： G03G5/047 文献下载
摘要：本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。一种电子照相感光构件，其包括圆筒状支承体、形成于所述圆筒状支承体上的电荷产生层、和形成于所述电荷产生层上的电荷输送层，其中在所述电荷产生层中，当将沿所述圆筒状支承体的轴方向从所述图像形成区域的中央位置至所述图像形成区域的端位置的区域等分为5个区域时，在等分所得的各个区域中所述电荷产生层的膜厚度彼此满足特定的关系，并且在所述电荷输送层中，当将沿所述圆筒状支承体的轴方向从所述图像形成区域的中央位置至所述图像形成区域的端位置的区域等分为5个区域时，在等分所得的各个区域中所述电荷输送层的膜厚度彼此满足特定的关系。
电子照相感光构件处理设备

[发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备-CN202010590641.2在审
发明人：渡口要;石田知仁;川原正隆;关谷道代;牧角康平 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： G03G5/047 文献下载
摘要：本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。电子照相感光构件具有：圆筒状支承体；在圆筒状支承体上形成的电荷产生层；和在电荷产生层上形成的电荷输送层，电荷产生层包含具有特定的CuKα特征X射线衍射峰的羟基镓酞菁晶体、具有特定的CuKα特征X射线衍射峰的氧钛酞菁晶体、或具有特定的分光吸收光谱的氯镓酞菁晶体作为电荷产生材料，并且在电荷产生层中，关于电荷产生层的膜厚度，当将从图像形成区域的中央位置至图像形成区域的端位置的区域在圆筒状支承体的轴向上分成五个相等的区域，并且各区域中的电荷产生层的平均膜厚度满足特定的条件。
电子照相感光构件处理设备

[发明专利]电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备-CN201610109106.4有效
发明人：伊藤阳太;三浦大祐;日当翔马;友野宽之;姉崎隆志;山合达也;杉山和道;川原正隆;上杉浩敏;丸山晃洋;云井郭文;田中正人 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2016-02-26 - 公布日： 2020-09-01 - 主分类号： G03G5/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种电子照相感光构件、其制造方法、处理盒和电子照相设备。电子照相感光构件依次具有支承体、电荷产生层和电荷输送层，所述电荷输送层含有电荷输送材料。所述电荷输送层为所述电子照相感光构件的表面层，且含有具有选自A组的结构单元和选自B组的结构单元的聚碳酸酯树脂(说明书中定义A组和B组)。
电子照相感光构件及其制造方法处理设备

[发明专利]电子照相感光构件，处理盒和电子照相设备，以及氯镓酞菁晶体和其制造方法-CN201510713876.5有效
发明人：西田孟;田中正人;川原正隆 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2015-10-28 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： G03G5/02 文献下载
摘要：本发明涉及电子照相感光构件，处理盒和电子照相设备，以及氯镓酞菁晶体和其制造方法。一种电子照相感光构件依序包括支承体和感光层。所述感光层包含氯镓酞菁晶体。所述氯镓酞菁晶体在吸收光谱的波长范围为646nm以上且668nm以下和波长范围为782nm以上且809nm以下的各个范围内具有一个以上的峰。当将在646nm以上且668nm以下的波长范围内的峰之中具有最大吸光度的峰假定为第一峰并且将在782nm以上且809nm以下的波长范围内的峰之中具有最大吸光度的峰假定为第二峰时，所述第一峰的吸光度大于所述第二峰的吸光度。
电子照相感光构件处理设备以及氯镓酞菁晶体制造方法

[发明专利]电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备-CN201610108599.X有效
发明人： 川原正隆;上杉浩敏;丸山晃洋;云井郭文;田中正人;友野宽之;日当翔马;伊藤阳太;三浦大祐;姉崎隆志;山合达也;杉山和道 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2016-02-26 - 公布日： 2019-11-08 - 主分类号： G03G5/05 文献下载
摘要：本发明涉及电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备。一种电子照相感光构件，其依次具有支承体、电荷产生层和电荷输送层，其中所述电荷输送层含有电荷输送材料。电荷输送层是所述电子照相感光构件的表面层，并含有具有选自A组的结构单元和选自B组的结构单元(A组和B组在公开内容中定义)的聚碳酸酯树脂。
电子照相感光构件及其制造方法处理设备

[发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备-CN201480079826.X有效
发明人：渡口要;田中正人;川原正隆;久野纯平;西田孟 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2014-06-13 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： G03G5/05 文献下载
摘要：提供电子照相感光构件，其可以提供其中抑制了黑点和起雾并且能够输出抑制由于电荷产生层的涂布不均匀性导致的浓度不均匀的图像。所述电子照相感光构件的电荷产生层含有镓酞菁晶体、含氮杂环化合物和由式(1)表示的酰胺化合物。所述含氮杂环化合物的杂环中的氮原子具有取代基。
电子照相感光构件处理设备

[发明专利]电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备、和酞菁晶体及其制造方法-CN201510212933.1有效
发明人：久野纯平;西田孟;田中正人;川原正隆;渡口要 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2015-04-29 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： G03G5/06 文献下载
摘要：本发明涉及电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备、和酞菁晶体及其制造方法。提供一种能够输出抑制了正重影的图像的电子照相感光构件，和各自具有所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。所述电子照相感光构件具有感光层，所述感光层包括酞菁晶体，在所述酞菁晶体中含有由式(1)表示的化合物的，其中由式(1)表示的化合物的含量基于酞菁晶体为0.1质量％以上且1.7质量％以下。
电子照相感光构件及其制造方法处理设备晶体

[发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备、与氯镓酞菁晶体及其生产方法-CN201510714344.3在审
发明人：西田孟;田中正人;川原正隆;久野纯平;渡口要;平野秀敏 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2015-10-28 - 公布日： 2016-05-11 - 主分类号： G03G5/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备、与氯镓酞菁晶体及其生产方法。一种电子照相感光构件依序包括支承体和感光层。所述感光层包括通过将羟基镓酞菁晶体和盐酸水溶液混合而获得的氯镓酞菁晶体。
电子照相感光构件处理设备氯镓酞菁晶体及其生产方法

[发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备-CN201510736551.9在审
发明人： 川原正隆;田中正人;久野纯平;西田孟;渡口要 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2015-11-03 - 公布日： 2016-05-11 - 主分类号： G03G5/07 文献下载
摘要：本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。一种电子照相感光构件，其中电子照相感光构件的电荷产生层包括晶体内包含有机化合物的镓酞菁晶体，其中有机化合物为选自由二甲基亚砜、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N-丙基甲酰胺、N-乙烯基甲酰胺和N-甲基吡咯烷酮组成的组的至少一种化合物，有机化合物的含量基于镓酞菁晶体内的镓酞菁为0.1质量％以上且2.0质量％以下，和电子照相感光构件的电荷输送层包括具有由式(1)和(2)表示的结构单元的聚碳酸酯树脂。
电子照相感光构件处理设备

[发明专利]电子照相感光构件，处理盒和电子照相设备，以及氯镓酞菁晶体和其制造方法-CN201510713890.5无效
发明人：西田孟;田中正人;川原正隆 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2015-10-28 - 公布日： 2016-05-11 - 主分类号： G03G5/06 文献下载
摘要：本发明涉及电子照相感光构件，处理盒和电子照相设备，以及氯镓酞菁晶体和其制造方法。一种电子照相感光构件依序包括支承体和感光层。所述感光层包含由式(1)表示的氯镓酞菁晶体，其中包含选自N,N-二甲基甲酰胺和二甲亚砜的至少一种有机化合物。基于所述由式(1)表示的氯镓酞菁晶体的含量，包含于所述由式(1)表示的氯镓酞菁晶体中的所述有机化合物的含量是0.10质量％以上且0.80质量％以下。
电子照相感光构件处理设备以及氯镓酞菁晶体制造方法

[发明专利]电子照相感光构件、处理盒、电子照相设备和酞菁晶体-CN201480030896.6在审
发明人：田中正人;西田孟;川原正隆 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2014-05-22 - 公布日： 2016-01-13 - 主分类号： G03G5/06 文献下载
摘要：本发明提供一种电子照相感光构件，其包括：支承体和形成在所述支承体上的感光层，其中所述感光层包含其中含有由下式(1)表示的4-哌啶酮化合物的酞菁晶体。
电子照相感光构件处理设备晶体

[发明专利]电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备以及酞菁晶体及其生产方法-CN201510201490.6在审
发明人：久野纯平;西田孟;田中正人;川原正隆;渡口要 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2015-04-24 - 公布日： 2015-11-11 - 主分类号： G03G5/06 文献下载
摘要：本发明涉及电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备以及酞菁晶体及其生产方法。提供一种电子照相感光构件，其包括包含在晶体内含有由下式(1)表示的化合物的酞菁晶体的感光层：式(1)中，X表示乙烯基或丙基。
电子照相感光构件及其制造方法处理设备以及晶体生产

[发明专利]电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备、和羟基镓酞菁晶体-CN201510197882.X在审
发明人： 川原正隆;西田孟;久野纯平;田中正人;渡口要 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2015-04-23 - 公布日： 2015-11-11 - 主分类号： G03G5/14 文献下载
摘要：本发明涉及一种电子照相感光构件、电子照相感光构件的制造方法、处理盒和电子照相设备、和羟基镓酞菁晶体。电子照相感光构件包括支承体和在所述支承体上的感光层，并且所述感光层包含在CuKαX射线衍射中在布拉格角2θ±0.2°为6.9°、7.7°、16.4°、24.4°和26.5°处具有峰的羟基镓酞菁晶体。
电子照相感光构件及其制造方法处理设备羟基镓酞菁晶体

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