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[发明专利]位移测量设备-CN201911089327.X在审
发明人： 山根规义;滨雄一郎 -专利权人：株式会社基恩士
申请日： 2019-11-08 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： G01S17/48 文献下载
摘要：本发明提供一种位移测量设备。能够利用小型的位移测量设备来进行使用测量光的扫描。该位移测量设备包括用于使用从光投射透镜输出的测量光进行扫描的MEMS反射镜。光投射透镜在测量光的光轴上在MEMS反射镜处或该MEMS反射镜的附近具有使测量光聚光的焦点位置。在MEMS反射镜处被反射的测量光在该测量光接近测量区域时，以带状形式扩散。
位移测量设备

[发明专利]透射式尺寸测量装置-CN201010156904.5有效
发明人：鸟井友成;山根规义;津守良一;山崎健太郎 -专利权人：株式会社其恩斯
申请日： 2010-04-23 - 公布日： 2010-10-27 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种透射式尺寸测量装置，其中用户可以直观地、简单地调节投影仪和光学接收器的光轴，以及当投影仪的光投影表面和光学接收器的光接收表面上附着有污物时，用户可以立即采取合适的措施。光学接收器上设有入射光位置显示单元，它通过点亮与入射光位置对应的LED以虚拟方式表达光投影点，光投影点入射到光学接收器上，光学接收器被布置为与投射光的投影仪之间具有预定的间隔。入射光位置显示单元设在与底面相对的上表面侧，而光学接收器在底面上安装到基座上。
透射尺寸测量装置