专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]质谱分析装置-CN201680091635.4有效
  • 山本英树;梅村佳克 - 株式会社岛津制作所
  • 2016-12-15 - 2022-02-11 - G01N27/62
  • 针对包含目标化合物的试样,由测定部(1)执行以源自该化合物的已知离子的m/z值为前体离子的产物离子扫描测定,获取轮廓谱数据。在数据处理部(2A)中,峰检测部(22)在轮廓谱上检测峰,产物离子m/z值获取部(23)针对检测到的每个峰获取最大强度所对应的m/z值来作为产物离子的m/z值。虚拟MRM测定数据提取部(24)将前体离子的m/z值、产物离子的m/z值作为MRM转变,并且提取源自产物离子的峰的最大强度作为MRM转变的信号强度值,将其作为虚拟MRM测定数据而保存到存储部(25)。由此,不执行MRM测定而仅通过产物离子扫描测定就能够得到反映了目标化合物的浓度的定量信息。
  • 谱分析装置
  • [发明专利]质谱分析装置-CN201580085349.2有效
  • 山本善丈;山本英树 - 株式会社岛津制作所
  • 2015-10-15 - 2021-03-02 - G01N30/02
  • 基于通过常规的质谱分析得到的质谱计算基于总离子电流信号等的信号强度,若该信号强度超过强度阈值,则根据该信号强度和过去最近的信号强度估计色谱峰的开始时间T0。然后,将基于根据LC分离条件估计出的峰半值宽度求出的延迟时间Tdelay加上开始时间T0来计算MS2执行允许开始时间Ts,在实际的时间过了Ts的时刻以后,在通过质谱分析得到的质谱中选择满足前体离子选择条件的峰。立即执行以与选择出的峰相对应的m/z为目标的MS2分析,获取MS2谱。通过适当决定延迟时间Tdelay,能够在目标成分的浓度变得充分高的时刻获取与该成分有关的灵敏度高的MS2谱,成分的鉴定和结构解析的准确性提高。
  • 谱分析装置
  • [发明专利]串联型质谱分析装置-CN201580083655.2有效
  • 山本英树;盐浜徹;小泽弘明;池田笃重;藤本穰 - 株式会社岛津制作所
  • 2015-10-07 - 2020-10-27 - G01N27/62
  • 在分析控制部(5)的控制下,质谱分析部(2)在导入测定对象试样中的目标成份的时间范围内针对该目标成份执行产物离子扫描测定,并且,在相同的时段执行包含源自标准成分的离子的m/z的m/z范围的扫描测定。质量校正信息计算部(42)根据在通过扫描测定所得到的MS谱上观测到的源自标准成分的离子的m/z的实测值和理论值来求出质量校正信息。质量校正部(43)利用该质量校正信息,来校正在通过在与该扫描测定相同的循环中执行的产物离子扫描测定所得到的MS/MS谱上观测到的源自目标成份的各离子峰的m/z。能够视作大致同时实施该循环中的MS测定与MS/MS测定,因此能够进行与内部标准法大致同等的质量校正。
  • 串联谱分析装置
  • [发明专利]色谱质谱联用仪-CN201480083489.1有效
  • 山本英树;小林裕子 - 株式会社岛津制作所
  • 2014-11-17 - 2019-11-05 - G01N27/62
  • 一种色谱质谱联用仪,具备:MSn‑1分析设定部(42),其用于使分析者设定执行MSn‑1分析的分析执行时间段、该MSn‑1分析的执行时间以及循环时间;分析时间段分割部(43),其根据在同一时间段内设定的MSn‑1分析的个数的差异或分析条件的差异来将整个分析时间段分割为多个部分分析时间段;MSn分析设定部(44),其执行MSn‑1分析来获取质谱数据,并设定将与满足预先设定的条件的质谱峰对应的离子设为前体离子的MSn分析;MSn分析执行时间分配部(45),其在多个部分分析时间段的每个部分分析时间段内将从循环时间减去事件执行时间所得到的剩余时间分配为MSn分析的执行时间;以及分析执行部(46),其在多个部分分析时间段的每个部分分析时间段内重复执行MSn‑1分析和MSn分析。
  • 色谱联用
  • [发明专利]膜的真空层压装置-CN201510929321.4有效
  • 高桥一雄;大泽睦;山本英树 - 日立成套设备机械股份有限公司
  • 2015-12-15 - 2019-07-16 - B32B37/10
  • 本发明提供一种能够例如在真空度为0.5kPa以下的高真空中进行层压的膜的真空层压装置。为了与投入的基板(14a)的长度相应地改变粘贴的层叠膜(21)的长度,在层压前测定基板(14a)的长度,并具有膜长度调整机构(23),所述膜长度调整机构(23)在半切位置与设置于层压辊(26)附近的刀口部(24)之间,根据测定出的基板(14a)的长度改变层叠膜(21)的保持长度,在粘贴的层叠膜(21)的长度位置对通过该膜长度调整机构(23)改变了层叠膜(21)的保持长度的、剥离保护膜(27)前的层叠膜(21)进行半切,利用膜搬运机构(20、29)将层叠膜(21)在通过保护膜(27)而连接的状态下搬运至刀口部(24)。
  • 真空层压装置
  • [发明专利]串联四极型质谱仪-CN201410535497.7有效
  • 山本英树 - 株式会社岛津制作所
  • 2014-10-11 - 2018-11-02 - G01N30/72
  • 本发明涉及一种串联四极型质谱仪。在进行多反应监测测量条件优化即MRM测量条件优化之前,分析操作人员针对目标化合物的各前体离子在产物离子选择条件设置画面(200)上准备以下两个列表,即示出要优先选择作为需要进行优化的产物离子的离子的列表(203)和示出要从优化中排除的离子的列表(202)。在进行测量的情况下,进行针对目标化合物的前体离子的产物离子扫描测量,并且获得谱。在从该谱所提取的离子中,将排除离子列表(202)中所登记的离子排除,而优先选择优先离子列表(203)中所登记的离子作为产物离子。对于如此确定的前体离子和产物离子的m/z值的各组合,搜索MRM测量的最佳条件。
  • 串联四极型质谱仪
  • [发明专利]切削机床-CN201510266512.7在审
  • 山本英树;镰仓弘贵 - 株式会社神崎高级工机制作所
  • 2015-05-22 - 2016-02-10 - B23F5/12
  • 本发明涉及的切削机床包括:对工件进行加工的加工工具;支撑所述加工工具的主轴;以使所述主轴的轴线沿着上下方向延伸的方式支撑该主轴的支撑体;支撑所述工件的基座;沿上下方向延伸且将所述支撑体以能够上下移动的方式加以支撑的立设部;使所述主轴在所述支撑体中沿着该主轴的轴向往复移动的主轴驱动机构;以及驱动机构,其是使所述支撑体沿着所述立设部上下移动而使所述加工工具靠近或离开所述工件的驱动机构,且能够将所述支撑体的上部配置于比所述立设部的最上部低的位置。
  • 切削机床
  • [实用新型]切削机床-CN201320879368.0有效
  • 山本英树 - 株式会社神崎高级工机制作所
  • 2013-12-27 - 2014-07-16 - B23D3/00
  • 本实用新型提供一种切削机床。其不需要特别增大凸轮的刚性就能够在使用凸轮的情况下提高加工精度。本实用新型的切削机床具备:加工工件的加工工具;支承加工工具的主轴;支承主轴的支承体;以使其可自由摆动的方式对支承体进行支承的基部;在支承体中,使主轴在该主轴的轴方向上往复运动且绕该主轴周围旋转的主轴驱动机构;安装于基部,使支承体从基准位置进行摆动的支承体摆动机构,支承体摆动机构包括:能够在与处于基准位置的主轴平行的基准方向上往复运动的滑块;以使其能够往复运动的方式支承滑块的引导部件;一端部可摆动地与滑块连结,另一端部可摆动地与支承体连结的连结部件;使滑块往复运动的凸轮机构。
  • 切削机床
  • [发明专利]分析系统及其控制方法-CN201310669805.0有效
  • 山本英树 - 株式会社岛津制作所
  • 2013-12-10 - 2014-06-18 - G01N30/02
  • 本发明的目的在于提供一种可防止在使用条件设定装置设定的条件与使用各单元的操作部设定的条件之间产生不一致的分析系统及其控制方法。至少在条件设定装置(3)和控制装置(2)之间正进行数据收发时,对于由该控制装置(2)控制的各单元(1),限制使用操作部(12)的条件设定。由此,在正向控制装置(2)发送使用条件设定装置(3)设定的条件的数据时,不会使用各单元(1)的操作部(12)设定不同条件。因此,可防止在使用条件设定装置(3)设定的条件和使用各单元(1)的操作部(12)设定的条件之间产生不一致。
  • 分析系统及其控制方法
  • [发明专利]图像记录设备-CN201110070632.1有效
  • 山本英树;坂野雄治 - 兄弟工业株式会社
  • 2011-03-17 - 2012-01-11 - B41J13/00
  • 图像记录设备包括:第一输送器,沿由其限定的第一输送路径输送记录介质;第一记录头,朝被第一输送器输送的记录介质喷射液体;第二输送器,沿由其限定的第二输送路径输送记录介质;第二记录头,朝被第二输送器输送的记录介质喷射液体;第三输送器,沿由其限定的除了第二输送路径之外的第三输送路径输送的记录介质;姿态改变器,改变第一输送器的至少下游侧部的姿态,由此使至少下游侧部采取包括第一和第二角度姿态的多个角度姿态中的选定的一个,当采取第一角度姿态时,第一输送路径的由至少下游侧部限定的至少下游侧部分被导向至第二输送路径,当采取第二角度姿态时,至少下游侧部分被导向至第三输送路径。
  • 图像记录设备
  • [发明专利]光学装置和投影装置-CN201110128555.0有效
  • 岩根哲晃;爱甲祯久;山本英树;本间圭佑 - 索尼公司
  • 2011-05-18 - 2011-11-30 - G02B27/18
  • 本发明涉及一种光学装置,其包括:光合成棱镜,合成向多个入射面入射的入射光束、并输出合成的光束;光调制单元,包括光学补偿元件和反射型光调制器件;和固定构件,将反射型偏振元件和所述光调制单元固定至所述光合成棱镜,以对应于入射面中的一个,其中,所述光调制单元包括:遮光构件,遮挡光到达所述光调制单元,并将照射所述光学补偿元件和所述反射型光调制器件的光限制为通过开口部的光;和隔热构件,与所述遮光构件和所述固定构件发生接触。本发明还涉及包括该光学装置的投影装置。
  • 光学装置投影
  • [发明专利]喷墨记录设备-CN201010292962.0有效
  • 山本英树 - 兄弟工业株式会社
  • 2010-09-25 - 2011-05-11 - B41J2/21
  • 一种喷墨记录设备,包括:第一和第二记录头,每个记录头具有多个喷射口,墨被从多个喷射口喷射;和输送机构,限定输送路径,记录介质通过输送路径被输送从而经过第一和第二位置,在第一位置处,记录介质与第一记录头的喷射口相对,在第二位置处,记录介质与第二记录头的喷射口相对。喷墨记录设备进一步包括:旁通输送机构,限定旁通路径,旁通路径在输送路径的处于第一和第二位置之间的位置处连接到输送路径,用于允许记录介质绕过第二位置。当通过仅从第一记录头喷射墨而在记录介质上执行打印操作时,记录介质能通过旁通路径输送以绕过第二位置。因此,诸如纸灰的杂质更不可能附着到第二记录头,从而能抑制由于第二记录头的维护而造成的墨消耗。
  • 喷墨记录设备

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