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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]基板研磨系统-CN202111612199.X在审
发明人：蔡熙成;李承恩;尹勤植 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：根据一个实施例的基板研磨系统，可以包括：基板移送部，其支撑基板的下面，通过旋转运动形成圆形的移送轨道并移送基板；至少一个载体，其从基板移送部接收传递的基板并进行研磨；以及装载部，其使得安放于基板移送部的基板装载至载体或使得位于载体的基板卸载至基板移送部。
研磨系统

[发明专利]基板研磨系统及其方法-CN202210291777.2在审
发明人：郑熙澈;尹勤植;沈亨葉;申盛皓 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2022-03-23 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： B24B37/015 文献下载
摘要：根据一个实施例的通过研磨垫对基板进行研磨的基板研磨方法，可包括：预加热步骤，在对基板进行研磨之前，通过向研磨垫供给加热过的纯水来使得研磨垫的温度上升；以及温度控制步骤，在基板的研磨过程中，通过对向研磨垫供给的研磨液的温度进行调节来控制研磨垫的温度。
研磨系统及其方法

[发明专利]基板研磨装置-CN202210172001.9在审
发明人：申盛皓;尹勤植;郑熙澈;金泰贤;李康在;裵珍秀;金仙秀 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2022-02-24 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：根据一个实施例的基板研磨装置，可包括：基板载体，其夹住基板并使基板移动；研磨垫，其与基板的被研磨面相接触，并对基板的被研磨面进行研磨；以及喷射部，其包括向基板载体喷射流体的喷射部件。
研磨装置

[发明专利]基板研磨系统-CN202111611412.5在审
发明人：蔡熙成;李承恩;尹勤植 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：根据一个实施例的基板研磨系统，可包括：基板移送部，其包括轴承和至少一个移送臂，轴承以与地面垂直的旋转轴为中心进行旋转，移送臂支撑基板的下面，随着轴承的旋转，形成圆形的移送轨道，并移送基板；以及至少一个载体，其接收从基板移送部传递的基板并进行研磨。
研磨系统

[发明专利]基板移送系统-CN202111612318.1在审
发明人：赵玟技;蔡熙成;李承恩;尹勤植 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2021-12-27 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明公开了一种基板移送系统，根据本发明的一个实施例的基板移送系统，包括：第一移送部，其以与地面垂直的第一轴为中心进行旋转，沿圆形的第一轨道移送基板；及第二移送部，其以与地面垂直的第二轴为中心进行旋转，沿圆形的第二轨道移送基板；第一轨道及第二轨道在第一位置重叠，基板可以在第一位置从第一移送部移动至第二移送部，或从第二移送部移动至第一移送部。
移送系统

[实用新型]基板清洗线及包括该基板清洗线的基板清洗系统-CN202220354693.4有效
发明人：蔡熙成;李承恩;尹勤植 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2022-02-22 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：公开了一种基板清洗线及包括该基板清洗线的基板清洗系统。根据一个实施例的基板清洗线，包括：腔室部，其包括用于清洗基板的多个清洗腔室；以及第一搬运机器人，其将基板相对于多个清洗腔室搬入、搬出或移送；多个清洗腔室可分别沿垂直方向叠层。
清洗包括系统

[实用新型]基板处理线-CN202220353480.X有效
发明人：蔡熙成;李承恩;尹勤植 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2022-02-22 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：公开了一种基板处理线。根据一个实施例的基板处理线，可包括：腔室部，其包括沿垂直方向叠层的多个处理腔室；以及垂直搬运机器人，其包括多个抓取部，并且沿垂直方向同时对多个基板进行移送，将各个基板搬入或搬出各个处理腔室。
处理

[发明专利]基板工艺系统-CN202111171962.X在审
发明人：蔡熙成;李承恩;尹勤植 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2021-10-08 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：根据一个实施例的基板工艺系统，可包括：前端模块；第一工艺线，其包括第一研磨线及第一清洗线；第二工艺线，其包括第二研磨线及第二清洗线，并与第一工艺线并列配置；第一工作台，其位于第一工艺线及第二工艺线之间；第一搬运机器人，其将基板从前端模块移送至第一工作台。
工艺系统

[发明专利]基板工艺系统-CN202111171332.2在审
发明人：蔡熙成;李承恩;尹勤植 -专利权人：凯斯科技股份有限公司
申请日： 2021-10-08 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： B24B1/00 文献下载
摘要：根据一个实施例的基板工艺系统可以包括：前端模块；第一工艺线，其包括第一研磨线及第一清洗线；第二工艺线，其包括第二研磨线及第二清洗线，和第一工艺线并列配置；第一工作台，其位于第一清洗线及第二清洗线之间；第一搬运机器人，其将基板从前端模块移送至第一工作台；第二工作台，其位于第一研磨线及第二研磨线之间；第二搬运机器人，其在第一清洗线、第二清洗线、第一工作台及第二工作台中至少任意两个位置之间对基板进行移送。
工艺系统

[实用新型]喷嘴单元及包括其的基板处理装置-CN201720131538.5有效
发明人： 尹勤植 -专利权人： K.C.科技股份有限公司
申请日： 2017-02-14 - 公布日： 2017-11-24 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种喷嘴单元及包括其的基板处理装置，喷嘴单元包括喷嘴体，其形成有混合室；气体供给流路，其将气体沿着第一方向供给于混合室；液体供给流路，其设置有多个液体供给通道，所述多个液体供给通道将液体沿着与第一方向相交叉的第二方向供给于混合室；排出流路，其与混合室相连通，并且将在混合室混合的混合流体排出至所述喷嘴体的外部，据此可得到的有利的效果在于，提高气体和液体的混合均匀度。
喷嘴单元包括处理装置

[实用新型]晶元处理装置-CN201520652693.2有效
发明人：朴钟文;李昇奂;徐埈成;李承恩;尹勤植;安俊镐;田英洙;崔光洛 -专利权人： K.C.科技股份有限公司
申请日： 2015-08-26 - 公布日： 2016-03-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种晶元处理装置，其涉及一种进行化学机械研磨工艺和清洗工艺的晶元处理装置，所述晶元处理装置包括化学机械研磨模块和清洗模块，所述化学机械研磨模块包括：第一研磨盘群，其为排列两个以上研磨盘的第一列；第二研磨盘群，其为与所述第一列隔离排列两个以上研磨盘的第二列，在所述第一研磨盘群和所述第二研磨盘群分别对晶元进行化学机械研磨工艺，所述清洗机模块包括：第一清洗机群，其为在所述化学机械研磨模块的一侧排列两个以上的清洗机而成的第三列；第二清洗机群，其为在所述化学机械研磨模块的一侧排列两个以上的清洗机而成的第四列。从而，所述晶元处理装置具有根据多种处理工艺能够进行不同选择的配置结构。
处理装置

[发明专利]基片清洗用二流体喷射模块及利用其的基片清洗装置-CN200610110689.9无效
发明人： 尹勤植;蔡熙成 -专利权人： K.C.科技股份有限公司
申请日： 2006-08-08 - 公布日： 2007-07-04 - 主分类号： B08B3/00 文献下载
摘要：本发明涉及基片清洗用二流体喷射模块及利用该二流体喷射模块的基片清洗装置，所提供的基片清洗用二流体喷射模块包含：主体内部的用于接收干燥空气的第一接收部；所述主体内部的用于接收清洗液的第二接收部；喷射通道，该喷射通道一端与所述第一接收部连通，另一端露在所述主体外部，而侧方具有流入所述第二接收部的清洗液的混入口。依据本发明，由于向基片表面喷射混合而生成的均匀的二流体，因此大幅度提高基片的清洗效率。而且，由于本发明通过各种方式以最简单的结构进行制造，因此易于制造和维护。
清洗流体喷射模块利用装置

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