本发明涉及一种聚电解质膜修饰高分子多孔支架材料及其制备方法和应用。所述制备方法包括如下步骤:S1:对高分子多孔支架表面进行PEI修饰;所述高分子多孔支架为PLGA、PLLA或PU;S2:将修饰后的高分子多孔支架材料依次浸入质量浓度为0.4~1mg/mL的oCS溶液和质量浓度为0.4~1mg/mL Col I溶液中6~15min和15~25min,重复所述浸入操作,使得oCS和Col I各3~7层交替吸附,即得所述聚电解质膜修饰高分子多孔支架材料。本发明提供的制备方法可成功制备得到聚电解质膜修饰高分子多孔支架材料。该材料具有较好的表面活性及热稳定性和更利于矿化过程中HAP的形成和沉积。