专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]作为NK-3受体拮抗剂的吡咯烷衍生物-CN201080057625.1有效
  • 亨纳·努斯特;安德烈亚斯·克布雷特;马蒂亚斯·内特科文;哈萨内·拉特尼;克劳斯·里默尔;沃特·维凡 - 霍夫曼-拉罗奇有限公司
  • 2010-12-14 - 2012-09-05 - C07D401/06
  • 本申请涉及式(I)的化合物,在式(I)中,R1是氢,卤素,氰基,低级烷基或卤素取代的低级烷基;n是1,2或3,如果n是2或3,则R1可以是不同的;R2是C2-7-烷基或C3-6-环烷基;R3是基团(II),其中X是CH或N;R5是氢,-C(O)-低级烷基,-C(O)O-低级烷基,S(O)2-低级烷基,-C(O)CH2O-低级烷基,-C(O)-CH2-CN,或是-C(O)-环烷基,环烷基或-CH2-环烷基,其中所述环烷基任选被低级烷基,-CH2-O-低级烷基,低级烷氧基,CF3,卤素或氰基取代,或是-C(O)-杂环烷基或杂环烷基,或是-C(O)-杂芳基或是杂芳基或是-C(O)-芳基或芳基,所述杂环烷基,杂芳基或芳基任选被以下基团取代:卤素,低级烷基,=O,低级烷氧基,卤素取代的低级烷基,羟基取代的低级烷基,-C(O)-CH2-N(二-低级烷基),C(O)NH-低级烷基,C(O)NH2,-O-C(O)-低级烷基,C(O)-低级烷基,S(O)2-低级烷基或氰基;R4是芳基,其任选被卤素,羟基,低级烷基,卤素取代的低级烷基,S(O)2-低级烷基,氰基或低级烷氧基取代;或其药物活性盐。已经发现本发明化合物是高潜力的NK-3受体拮抗剂,用于治疗抑郁,疼痛,精神病,帕金森病,精神分裂症,焦虑和注意缺陷多动障碍(ADHD)。
  • 作为nk受体拮抗剂吡咯烷衍生物

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