专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体器件-CN201880011999.6有效
  • 约亨·克拉夫特;乔治·帕特德尔;安德森·辛格拉尼;拉斐尔·科佩塔;弗朗兹·施兰克 - AMS有限公司
  • 2018-02-14 - 2023-07-07 - H01L23/48
  • 半导体器件包括半导体本体和导电通孔,该导电通孔延伸通过半导体本体的至少一部分,其中通孔具有在第一横向方向上给出的横向尺寸,该第一横向方向垂直于由通孔的主延伸轴线给出的垂直方向,并且其中通孔具有顶侧和背离顶侧的底侧。半导体器件还包括被布置在通孔的底侧处的平行于第一横向方向的平面中的导电蚀刻停止层,以及位于通孔的底部侧的平行于第一横向方向的平面中的至少一个导电接触层。蚀刻停止层在第一横向方向上的横向范围大于通孔的横向尺寸,并且接触层在第一横向方向上的横向范围小于通孔的横向尺寸。此外,蚀刻停止层在垂直方向上被布置在导电通孔与接触层之间。
  • 半导体器件
  • [发明专利]带有贯穿衬底通孔的半导体器件-CN201980029058.X在审
  • 约亨·克拉夫特;乔治·帕特德尔;安德森·辛格拉尼;拉斐尔·科佩塔;弗朗兹·施兰克 - AMS有限公司
  • 2019-03-20 - 2021-03-09 - H01L23/48
  • 本发明涉及一种半导体器件(10),包括半导体主体(11);延伸穿过该半导体主体(11)的至少一部分的导电通孔(12),其中所述通孔(12)具有顶侧(13)和背离该顶侧(13)的底侧(14);在平行于横向方向(x)的平面中被布置在通孔(12)的底侧(14)处的蚀刻停止层(15),其中横向方向(x)垂直于由通孔(12)的延伸主轴线给出的垂直方向(z);以及在平行于横向方向(x)的平面中被布置在通孔(12)的底侧(14)处的导电接触层(16)。蚀刻停止层(15)在竖直方向(z)上被布置在导电通孔(12)和接触层(16)之间,蚀刻停止层(15)在横向方向(x)上的横向范围为通孔(12)在横向方向(x)上的横向范围的至少2.5倍,并且接触层(16)的横向范围小于通孔(12)的横向范围,或者接触层(16)的横向范围是通孔(12)的横向范围的至少2.5倍。
  • 带有贯穿衬底半导体器件

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