“大胁寿树”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果15个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]抛光组合物-CN200610084745.6无效
发明人：神谷知秀;平野淳一;安福昇;横道典孝;大胁寿树 -专利权人：不二见株式会社
申请日： 2002-12-17 - 公布日： 2006-11-01 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：一种用于对磁盘基片进行抛光的抛光组合物，它包含(A)选自磷酸、磷酸盐和焦磷酸、膦酸、次膦酸、羟亚乙基二膦酸、次氮基三(亚甲基膦酸)、膦酰基丁烷三羧酸及其盐中的至少一种组分，(B)胶态二氧化硅，(C)水和(E)乙二胺四乙酸二铵铁。
抛光组合

[发明专利]抛光组合物和抛光方法-CN200410104484.0无效
发明人：宇野贵规;杉山博保;大胁寿树 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2004-12-24 - 公布日： 2005-07-20 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：一种抛光组合物，它包括热解法氧化铝、非热解法氧化铝、胶体二氧化硅、第一有机酸、第二有机酸、氧化剂和水。当第二有机酸是柠檬酸时，第一有机酸优选为苹果酸，而当第二有机酸是苹果酸时，第一有机酸优选为柠檬酸。当第二有机酸是琥珀酸、亚氨乙酰乙酸、衣康酸、马来酸、丙二酸、巴豆酸、葡糖酸、乙醇酸、乳酸或扁桃酸时，第一有机酸优选为柠檬酸或苹果酸。该抛光组合物适用于抛光磁盘基片的表面。
抛光组合方法

[发明专利]抛光组合物和抛光方法-CN200410097812.9无效
发明人：大桥圭吾;大胁寿树 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2004-11-24 - 公布日： 2005-07-13 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明的抛光组合物含有二氧化硅、碱性化合物和水。二氧化硅是例如胶体二氧化硅、热解法二氧化硅或沉淀法二氧化硅。碱性化合物是例如碳酸铵，碳酸钾，碳酸钠，碳酸氢铵，碳酸氢钾，碳酸氢钠，磷酸铵，磷酸钾，磷酸钠，磷酸氢铵，磷酸氢钾，或磷酸氢钠。该抛光组合物适用于抛光玻璃基片。
抛光组合方法

[发明专利]抛光组合物和抛光方法-CN200410092531.4有效
发明人：大桥圭吾;大胁寿树 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2004-11-04 - 公布日： 2005-06-15 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明的抛光组合物含有二氧化硅、酸和水。二氧化硅是例如胶体二氧化硅、热解法二氧化硅或沉淀法二氧化硅。酸是例如盐酸，磷酸，硫酸，膦酸，硝酸，亚磷酸，硼酸，乙酸，衣康酸，丁二酸，酒石酸，柠檬酸，马来酸，乙醇酸，丙二酸，甲基磺酸，甲酸，苹果酸，葡萄糖酸，丙胺酸，甘氨酸，乳酸，羟基亚乙基二磷酸，氮基三(亚甲基磷酸)，或磷酰基丁烷三羧酸。该抛光组合物的pH值优选在0.5～6范围内。该抛光组合物非常适用于抛光玻璃基片。
抛光组合方法

[发明专利]抛光组合物-CN200410062868.0无效
发明人：神谷知秀;横道典孝;大胁寿树 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2004-07-02 - 公布日： 2005-02-09 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种抛光组合物，它更适合用于磁盘基片的抛光。抛光组合物含有：研磨剂、微纹消除剂、氧化剂、抛光促进剂、以及水。微纹消除剂是一种还原剂，它含以下组中选出的至少一种：膦酸、亚膦酸、连二磷酸铵、硫酸铵、硫酸钠、对苯二酚、焦酚、异抗坏血酸、异抗坏血酸钠、L－抗坏血酸、蚁酸、蚁酸钠、蚁酸铵、草酸、草酸铵、碘酸铵以及五倍子酸。
抛光组合

[发明专利]抛光组合物-CN200410043511.8无效
发明人：石桥智明;大胁寿树 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2004-05-09 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种适合用于抛光磁盘基片的抛光组合物。该抛光组合物包括研磨剂，它至少含选自以下组分中的一种：氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、碳化硅、氮化硅；抛光促进剂，它至少含选自以下组分中的一种：羧乙基硫代琥珀酸、羧乙基硫代琥珀酸盐以及水。
抛光组合

[发明专利]抛光组合物-CN200410043512.2无效
发明人：宇野贵规;杉山博保;大胁寿树 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2004-05-09 - 公布日： 2004-12-01 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明设计一种适合用于抛光磁盘基片的抛光组合物。该抛光组合物包括含有α－氧化铝作为主要组分的氧化铝颗粒、热解法氧化铝、含有选自有机酸、无机酸和这些酸的盐中的至少一种组分的抛光加速剂以及水。
抛光组合

[发明专利]抛光组合物-CN200410034215.1无效
发明人：平野淳一;松波靖;横道典孝;大胁寿树 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2004-03-30 - 公布日： 2004-10-13 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及了一种更适于抛光磁盘基质的抛光组合物。此抛光剂抛光组合物含有二氧化硅，含有至少一种选自特殊组中化合物的含磷化合物，含有至少一种由每个具体的酸与氨发生中和反应生成盐的铵盐，过氧化氢和水。
抛光组合

[发明专利]抛光组合物-CN200410007656.2无效
发明人：神谷知秀;横道典孝;大胁寿树 -专利权人：福吉米株式会社
申请日： 2004-02-26 - 公布日： 2004-09-29 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种更适合用于抛光磁盘基片表面的抛光组合物。该抛光组合物包括用作研磨剂的二氧化硅、甲磺酸、过氧化氢和水。
抛光组合

[发明专利]研磨用组合物及漂洗用组合物-CN99124888.0有效
发明人：儿玉一志;大胁寿树;谷克己;横道典孝;德植孝;藤冈则夫;佐山哲也 -专利权人：不二见株式会社;东邦化学工业株式会社
申请日： 1999-11-17 - 公布日： 2004-04-21 - 主分类号： C08J5/14 文献下载
摘要：1种包含(a)水，(b)至少一种选自聚苯乙烯磺酸及其盐的化合物，(c)选自除组分(b)的无机酸、有机酸及它们的盐类的化合物，(d)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅及二氧化锰的研磨材料，在对用于存储器硬盘的基片进行抛光时研磨速度更快、消泡性更好、并可防止微细凹痕、微小突起及其他表面缺陷产生的研磨用组合物；1种包含以上(a)～(c)组分，在对基片进行抛光的前处理及(或)后处理时消泡性更好，并可充分除去基片表面附着物和研磨粉等的漂洗用组合物。
研磨组合漂洗

[发明专利]制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法-CN00131712.1无效
发明人： W·S·雷德;D·M·谢姆;大胁寿树 -专利权人：不二见美国股份有限公司
申请日： 2000-09-27 - 公布日： 2004-01-14 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于存储器硬盘的抛光组合物，它包含以下组分(a)至(d)：(a)以抛光组合物总量计的0.1-50％(重量)至少一种磨料，选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅、二氧化锰，(b)以抛光组合物总量计的0.001-10％(重量)至少一种铁盐，选自硝酸铁、硫酸铁、硫酸铁铵、高氯酸铁、氯化铁、柠檬酸铁、柠檬酸铁铵、草酸铁、草酸铁铵和乙二胺四乙酸的铁螯合物配盐，(c)以抛光组合物总量计的0.01-30％(重量)至少一种过二硫酸盐，选自过二硫酸铵、过二硫酸钾和过二硫酸钠，(d)水。
制造存储器硬盘抛光组合方法

[发明专利]抛光组合物-CN00131713.X无效
发明人： D·M·谢姆;W·S·雷德;大胁寿树 -专利权人：不二见美国股份有限公司
申请日： 2000-09-27 - 公布日： 2004-01-14 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于抛光存储器硬盘的抛光组合物，包含以下组分(a)至(d)：(a)以抛光组合物总量计的0.1-50％(重量)的至少一种磨料，选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅、二氧化锰，(b)以抛光组合物总量计的0.0001-3.0％(重量)的至少一种抛光减阻剂，选自表面活性剂、水溶性聚合物和聚电解质，(c)以抛光组合物总量计的0.001-40％(重量)的至少一种抛光促进剂，选自无机酸、有机酸，以及它们的铝、铁、镍和钴盐，(d)水。
抛光组合

[发明专利]制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法-CN01104764.X无效
发明人： D·M·谢姆;W·S·雷德;大胁寿树 -专利权人：不二见美国股份有限公司
申请日： 2001-02-23 - 公布日： 2004-01-14 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：公开了一种用于存储器硬盘的抛光组合物，该组合物至少包含以下组分(a)至(d)：(a)以抛光组合物总量计的0.1-50％(重量)至少一种磨料，选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰，(b)以抛光组合物总量计的0.001-10％(重量)至少一种高碘酸(盐)，选自高碘酸、高碘酸钾、高碘酸钠和高碘酸锂，(c)以抛光组合物总量计的0.01-30％(重量)至少一种过二硫酸盐，选自过二硫酸铵、过二硫酸钾和过二硫酸钠和(d)水，所述抛光组合物的pH值为2-7。
制造存储器硬盘抛光组合方法

[发明专利]抛光组合物-CN02157402.2无效
发明人：神谷知秀;平野淳一;安福昇;横道典孝;大胁寿树 -专利权人：不二见株式会社
申请日： 2002-12-17 - 公布日： 2003-07-02 - 主分类号： C09G1/18 文献下载
摘要：一种用于对磁盘基片进行抛光的抛光组合物，它包含(A)选自磷酸盐和磷化合物中的一种组分，或者选自磷酸、磷酸盐和磷化合物中的两种组分，(B)二氧化硅和(C)水，其特征在于：当(A)化合物只含有膦酸时，不含(D)硝酸铝。
抛光组合

[发明专利]制造存储器硬盘用的抛光组合物和抛光方法-CN01104762.3无效
发明人： D·M·谢姆;W·S·雷德;大胁寿树 -专利权人：不二见美国股份有限公司
申请日： 2001-02-23 - 公布日： 2001-10-10 - 主分类号： C09G1/02 文献下载
摘要：一种用于存储器硬盘的抛光组合物，该组合物至少包含以下组分(a)至(d)(a)以抛光组合物总量计的0.1－50%(重量)至少一种磨料，选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅和二氧化锰，(b)以抛光组合物总量计的0.001－10%(重量)至少一种高碘酸(盐)，选自高碘酸、高碘酸钾、高碘酸钠和高碘酸锂，(c)用来将所述抛光组合物的pH值调节至2－5的缓冲组分，(d)水。
制造存储器硬盘抛光组合方法

1
共 15 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top