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[发明专利]励磁元件及具有励磁元件的电动机-CN202080105117.X在审
发明人：乙坂纯香;稻垣龙太郎;东松拓实;若山裕史;扎伊尼·阿里夫;坂本裕介;元吉研太 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2020-09-24 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： H02K1/27 文献下载
摘要：一种励磁元件，其特征在于，具有：多个主磁极永磁铁(41、51)，它们在与后轭(5)的主面(5a)正交的方向被磁化，以磁化方向成为交替的方式排列；多个副磁极永磁铁(61、71)，它们在与主磁极永磁铁(41、51)的磁化方向不同的方向进行磁化，以磁化方向成为交替的方式排列，并且在与主磁极永磁铁(41、51)的排列方向相同的方向与主磁极永磁铁(41、51)彼此差异地设置；以及非磁性层(6)，其是非磁性的区域，副磁极永磁铁(61、71)的至少一部分在与主面(5a)正交的方向隔着非磁性层(6)而与主面(5a)相对，副磁极永磁铁(61、71)的与主面(5a)相对的面的位置是与从主面(5a)最远离的主磁极永磁铁(41、51)的面的位置相同的位置，副磁极永磁铁(61、71)的长度是比非磁性层(6)的长度长或相同的长度。
元件具有电动机

[发明专利]治疗计划装置及放射线治疗系统-CN201580084494.9有效
发明人： 坂本裕介;花川和之 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 2015-11-17 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：治疗计划装置包括：预测根据假定的X射线强度得到的X射线图像的鲜明度并对患部的位置不确定性进行运算的X射线图像位置不确定性运算部；基于运算得到的患部的位置不确定性对治疗用放射线的照射参数进行运算的治疗用放射线照射参数运算部；根据假定的X射线强度对X射线拍摄装置照射于患者的X射线照射量进行运算的X射线照射量运算部；利用运算得到的治疗用放射线的照射参数对照射于患者的治疗用放射线的剂量分布进行运算的治疗用放射线剂量分布运算部；及对运算得到的X射线照射量和运算得到的治疗用放射线剂量分布进行显示的显示器。
治疗计划装置放射线系统

[发明专利]剂量分布运算装置、粒子射线治疗装置及剂量分布运算方法-CN201580081260.9有效
发明人： 坂本裕介;西泽博志;林真照;东哲史;山本和男;平野有希子;前田奈津子;服部绘理;本田泰三;岸井保人 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 2015-07-01 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：本发明的目的在于，无需具有高位置分辨率的剂量检测器，且能实现既排除了静态不确定性又排除了动态不确定性的患者QA。本发明的剂量分布运算装置(10)的特征在于，包括：在对治疗对象的替代物即模体(21)照射粒子射束(20)的确认照射中，利用测定装置测定粒子射线治疗装置(50)所产生的粒子射束(20)的粒子射束信息，对该测定粒子射束信息进行存储的射束信息存储部(测定能量存储部(14)、测定电荷存储部(12)、测定射束中心轴存储部(13))；及基于测定粒子射束信息(测定能量(E)、测定射束量(测定电荷数(Q))、测定射束中心轴位置(Px、Py))运算照射剂量分布(合计剂量分布(Di))的合计剂量运算部(15)。
剂量分布运算装置粒子射线治疗方法

[发明专利]粒子射线照射装置-CN201610914852.0有效
发明人：井上启;坂本裕介;山本和男 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2016-10-20 - 公布日： 2019-07-16 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：本发明的粒子射线照射装置具备：加速器(2)，其射出脉冲状的粒子射束；屏蔽构件(5)，其具备将从该加速器(2)射出的脉冲状的粒子射束向照射对象物(4)的照射进行屏蔽的功能；数据库(7)，其与加速器(2)的驱动条件对应地存储粒子射束的1个脉冲中的粒子数量的时间依存性；运算构件(8)，其根据向照射对象物(4)照射的目标累积粒子数量和被存储在数据库(7)中的粒子射束的1个脉冲中的粒子数量的时间依存性，算出屏蔽构件(5)的屏蔽动作的时机；和屏蔽控制构件(6)，其根据由运算构件(8)运算的屏蔽构件(5)的屏蔽动作的时机，控制屏蔽构件(5)。
粒子射线照射装置

[发明专利]粒子射线照射装置-CN201480077893.8有效
发明人： 坂本裕介;蒲越虎;原田久;本田泰三 -专利权人：株式会社日立制作所
申请日： 2014-04-10 - 公布日： 2019-02-26 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：粒子射线照射装置(50)对一个照射位置(12)多次照射粒子射线(10)。存储部(3)存储各次应照射的剂量(分割目标剂量)。剂量监视器(5)测量照射至照射位置(12)的粒子射线(10)的剂量。第1次照射时，利用剂量监视器(5)测量的剂量到达分割目标剂量后，控制部(4)发出遮断信号(15)。剂量监视器(5)测量从发出遮断信号(15)后至实际遮断粒子射线(10)的期间内照射的剂量(过剩剂量)(14)。然后设为校正剂量值＝分割目标剂量‑过剩剂量。也可以改设为校正剂量值＝分割目标剂量‑过剩剂量预测值。第2次照射时，利用剂量监视器(5)测量的剂量到达校正剂量值后，控制部(4)发出遮断信号(15)。通过该校正，减少点扫描法中超出所计划的剂量的照射剂量。
粒子射线照射装置

[发明专利]粒子射线照射室-CN201480020418.7有效
发明人：春名延是;坂本裕介;片寄雅 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2014-03-20 - 公布日： 2017-07-18 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：粒子射线照射室(1)包括具有内壁侧的第一开口部(7)和外壁侧的第二开口部(8)的通路，室内具有等中心点(6)，连结第一开口部(7)的中心和第二开口部(8)的中心的第一线段(9)通过通路(3)的内部，连结第一开口部(7)的中心和等中心点(6)的第二线段(10)与第一线段(9)之间所成的角度为180度以下，使通路(3)的宽度比第一开口部(7)的开口宽度要小。
粒子射线照射

[发明专利]粒子射线治疗计划装置、及粒子射线照射的仿真方法-CN201480076701.1在审
发明人：蒲越虎;坂本裕介;山田由希子;池田昌广;富士英辉 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2014-04-07 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：本发明包括：副射束近似步骤，所述副射束近似步骤使用分别具有高斯分布的多个副射束的集合对粒子射线进行近似；以及副射束剂量分布运算步骤，所述副射束剂量分布运算步骤通过对利用扫描装置将多个副射束的各自的副射束偏转而前进的状态进行仿真，从而运算各自的副射束在患者内部形成的各自的副射束剂量分布，通过将运算出的各自的副射束剂量分布进行累计，从而求出粒子射线在患者内部形成的剂量分布。
粒子射线治疗计划装置照射仿真方法

[发明专利]粒子射线照射装置-CN201480072776.2在审
发明人： 坂本裕介;蒲越虎;原田久;本田泰三 -专利权人：三菱电机株式会社
申请日： 2014-01-10 - 公布日： 2016-08-31 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：本发明提供一种粒子射线照射装置，其对扫描装置实施如下控制，即将对照射对象的所有照射位置照射粒子射线的照射重复重新扫描次数，对各照射位置照射重新扫描次数的粒子射线，该粒子射线照射装置具备运算部，该运算部被输入重新扫描次数(n)和粒子射线的单位时间的剂量即射束强度(J)中的一方，求出对于所有照射位置满足下述条件(P1)的另一方的值中的最大值，并提示给用户。J*ti<＝di/n (条件P1)。
粒子射线照射装置

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