专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]蚀刻设备的反应槽装置的上电极-CN201210230622.4无效
  • 周峙丞;唐国樑;吴建德 - 周业投资股份有限公司
  • 2012-07-05 - 2014-01-22 - C03C15/00
  • 一种蚀刻设备的反应槽装置的上电极,包含一个电极板体,以及一个陶瓷熔射膜。该电极板体包括一个本体层、一个设置在该本体层上的缓冲层,以及数个上下贯穿该本体层与该缓冲层的通气孔。通过该缓冲层缓冲该本体层与该陶瓷熔射膜的热膨胀系数的差值,且该缓冲层与该陶瓷熔射膜间具有良好的结合力,因此两者间可紧密地结合而不易剥落。同时该缓冲层与该陶瓷熔射膜都具有抗腐蚀功效,以提供该本体层双重保护,所以该电极板体可重复使用,并能降低设备成本。
  • 蚀刻设备反应装置电极

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