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- [实用新型]方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪-CN200520041075.0无效
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周德林;应永伟
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上海申菲激光光学系统有限公司
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2005-04-22
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2006-10-18
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G01B5/28
- 本实用新型涉及一种方形掩膜版玻璃基片平面度检测仪，包括：一个三角形工作台面(3)，在所述的三角形工作台面(3)上分别安置三个圆座(1)，每个圆座(1)上安置一个可转动的小钢球(11)；在所述的三角形工作台面(3)的边缘三角位置，分别均布一组小滚珠轴承连固定座(2)；一个圆盘(6)，所述的圆盘(6)与小滚珠轴承连固定座(2)滚动连接，并在中部分别有安置方形玻璃基片(5)的槽座(61)；在所述的三角形工作台面(3)的中心位置孔下方安置了一台千分表(4)；克服了各类规格方形玻璃基片由于玻璃自重而产生的变形影响测量精度的不利因素，使测量精度大大提高：达到0.001mm；十几秒钟即可从千分表中读出数值。
- 方形掩膜版玻璃平面检测
- [实用新型]圆形光盘母盘玻璃基片平面度检测仪-CN200520041095.8无效
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应永伟;周德林
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上海申菲激光光学系统有限公司
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2005-04-22
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2006-09-06
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G01B5/28
- 本实用新型涉及一种圆形光盘母盘玻璃基片平面度检测仪，包括：一个三角形工作台面(3)，在所述的三角形工作台面(3)上分别安置三个圆座(1)，每个圆座(1)上安置一个圆球(11)；在所述的三角形工作台面(3)的边缘三角位置，分别均布一组小滚珠轴承连固定座(2)；在所述的三角形工作台面(3)的中心位置孔下方安置了一台千分表(4)；克服了各类规格圆形光盘母盘基片由于玻璃自重而产生的变形影响测量精度的不利因素，使测量精度大大提高：达到0.001mm；特别适应于常用大面积(如φ160～φ240mm)超薄型易变形的圆形光盘母盘玻璃基片(外经/厚度＝10∶1～200∶1)；不仅操作方便，检查直观，而且工作效率极高，十几秒种即可从千分表中读出数值。
- 圆形光盘母盘玻璃平面检测
- [发明专利]高精度超薄基片的制备方法-CN200410054084.3无效
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应永伟;周德林;曹沛其
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上海申菲激光光学系统有限公司
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2004-08-27
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2006-03-01
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C03B19/00
- 本发明涉及一种高精度超薄基片的制备方法，精磨浆料筛选和配制是通过以下步骤实现的：将精磨粉和水的重量比为1/3放入储液桶；浸泡10－20分钟；用孔径8－12um的筛网过筛；再用孔径4－6um筛网过筛；抛光浆料筛选和配制是通过以下步骤实现的：将抛光粉和水的重量比为1/33放入储液桶；添加2.5－3.5％的悬浮剂和1.5－2.5％的硝酸锌溶液；浸泡10－15小时；用孔径为1.8－2.5um的筛网过筛；再用0.8－1.2um的过滤器过滤；磨盘压力转速程序运用：采用轻～重～轻结合慢～快～慢组合程序；精磨后平面度的测量控制：采用了基片抛光前工序平面度检测仪；抛盘压力转速程序运用：采用轻～重～轻结合慢～快～慢组合程序运用；抛光后表面质量检验控制：采用了高亮度超光洁检测装置；使得质量合格率达到100％。
- 高精度超薄制备方法
- [发明专利]高亮度超光洁检测装置-CN03128908.8无效
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应永伟;周德林
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上海申菲激光光学系统有限公司
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2003-05-28
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2004-12-08
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G01N21/84
- 本发明涉及一种高亮度超光洁检测装置，本发明包括发光源(1)，非球面聚光镜(2)，球面聚光镜(6)，投影物镜(3)；所述的发光源(1)经非球面聚光镜(2)和球面聚光镜(6)通过投影物镜(3)指向被照物体；所述的非球面聚光镜(2)的截面X和Y满足方程式Y2＝AX－BX2+CX3；本发明的有益效果是：如果采用的灯泡是250W/24V，有效光通量为2500流明以上；150W/24V，有效光通量为2000流明以上；而局部的光照度可达到200000勒克斯，光线均匀度为60％以上，能清晰地观察不同大小工件的表面质量，如玻璃表面划痕，气泡，条纹，麻点，油迹，以及集成电路模块的各类疵病一览无遗，达到了检测的目的。
- 亮度光洁检测装置
- [实用新型]高亮度超光洁检测装置-CN03231617.8无效
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应永伟;周德林
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上海申菲激光光学系统有限公司
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2003-05-28
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2004-05-12
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G01N21/84
- 本实用新型涉及一种高亮度超光洁检测装置，本实用新型包括发光源(1)，非球面聚光镜(2)，球面聚光镜(6)，投影物镜(3)；所述的发光源(1)经非球面聚光镜(2)和球面聚光镜(6)通过投影物镜(3)指向被照物体；所述的非球面聚光镜(2)的截面X和Y满足方程式Y2＝AX－BX2+CX3。本实用新型的有益效果是：如果采用的灯泡是250W/24V，有效光通量为2500流明以上；150 W/24V，有效光通量为2000流明以上；而局部的光照度可达到200,000勒克斯，光线均匀度为60％以上，能清晰地观察不同大小工件的表面质量，如玻璃表面划痕，气泡，条纹，麻点，油迹，以及集成电路模块的各类疵病一览无遗，达到了检测的目的。
- 亮度光洁检测装置
- [发明专利]低品位辉钼矿堆浸回收钼的新工艺-CN02113699.8无效
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邹平;赵有才;杜强;周德林;邓之福;阎森
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云南省冶金研究设计院
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2002-04-30
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2002-12-25
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C22B3/04
- 一种低品位辉钼矿堆浸回收钼的新工艺,用低浓度次氯酸钠NaClO溶液在碱性介质下进行氧化浸出处理,通过直接堆浸处理破碎原矿而制取钼产品,避免了传统浮选－焙烧－浸出工艺中昂贵的磨矿费用,该工艺中堆浸、离子交换、尾水再生为一贯通的闭合循环系统,对低钼浸出液通过离子交换进行提纯、富集、结晶,最终制取钼酸铵产品,本发明同时还提供经济实用的尾水再生步骤,尾水电氧化再生次氯酸钠可以减少原料消耗,降低成本,并形成溶液的闭路循环,减少次氯酸钠的运输和储存,减少废液外排,此工艺制备的工业钼酸铵产品质量稳定,成本低,对环境的污染小,易实现工业化。
- 品位辉钼矿堆浸回收新工艺
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