专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光学装置及其制造方法和显示装置-CN201680048800.8有效
  • 吉田卓司;桑原美詠子 - 索尼公司
  • 2016-08-02 - 2020-11-17 - G02B27/02
  • 一种显示装置,设置有(A)佩戴在观看者的头部上的框架、和(B)安装至所述框架的图像显示装置100。所述图像显示装置设置有(B‑1)图像形成装置111、和(B‑2)基于从所述图像形成装置111发射的光形成虚拟图像的光学装置120。来自所述图像形成装置111的光经由所述光学装置120进入观看者20的瞳孔21。所述光学装置120至少设置有第一玻璃板121、面对所述第一玻璃板121的第二玻璃板122、和夹在所述第一玻璃板121与所述第二玻璃板122之间的震动吸收层123。
  • 光学装置及其制造方法显示装置
  • [发明专利]图像处理设备、方法和程序-CN201310264506.9无效
  • 吉田卓司 - 索尼公司
  • 2013-06-28 - 2014-01-22 - H04N9/04
  • 本发明涉及图像处理设备、方法和程序。提供一种图像处理设备,包括环境光白平衡增益生成部件,所述环境光白平衡增益生成部件被配置成根据在环境光下拍摄的图像,生成环境光白平衡增益,合成白平衡增益生成部件,所述合成白平衡增益生成部件被配置成合成与辅助光的色温对应的辅助光白平衡增益和环境光白平衡增益,从而生成合成白平衡增益,和白平衡增益校正部件,所述白平衡增益校正部件被配置成按照环境光和辅助光的比率,校正合成的白平衡增益。校正的合成白平衡增益被应用于在包括辅助光和环境光的混合光下拍摄的图像。
  • 图像处理设备方法程序
  • [发明专利]成像设备、成像控制方法和程序-CN201210018620.9无效
  • 吉田卓司 - 索尼公司
  • 2012-01-20 - 2012-08-01 - H04N5/225
  • 在此公开成像设备、成像控制方法和程序。所述成像设备包括:半镀银镜,其将来自对象的入射光分割为沿两个光程行进的光通量;第一成像器件,其接收由半镀银镜分割的入射光通量之一;第二成像器件,其接收由半镀银镜分割的入射光通量的另一个;第一对象亮度信息计算器,其基于来自第一成像器件的输出计算第一对象亮度信息;第二对象亮度信息计算器,其基于来自第二成像器件的输出计算第二对象亮度信息;以及对象亮度信息比较器,其将第一对象亮度信息与第二对象亮度信息进行比较。
  • 成像设备控制方法程序
  • [发明专利]雷达装置-CN201080001266.8无效
  • 竹谷晋一;川端一彰;大须贺万城;吉田卓司;吉田大广;丹羽雅人;后藤秀人 - 株式会社东芝
  • 2010-03-19 - 2011-02-23 - G01S13/44
  • 本发明包括:天线(10),具备被分割成第1收发兼用元件和第2收发兼用元件的收发兼用元件(11a)和被分割成第1接收专用元件和第2接收专用元件的接收专用元件(12a);波束成形部(34),将观测角度范围分割成多个,并通过天线的各元件以覆盖分割后的各个角度范围的方式形成发射波束,在接收中将天线的各元件的波束指向方向设为与第1收发兼用元件和第2收发兼用元件相同的方向,通过第1收发兼用元件和第1接收专用元件、第2收发兼用元件和第2接收兼用元件形成∑和Δ的相位单脉冲波束以覆盖多个角度范围的各个,并通过第1收发兼用元件、第2收发兼用元件、第1接收专用元件以及第2接收专用元件形成狭窄波束宽度的波束;以及测角部(37),基于在波束成形部所形成的波束来进行单脉冲测角。
  • 雷达装置
  • [发明专利]液晶显示装置及其制造方法-CN200610067375.5无效
  • 中堀正树;石贺展昭;长山显祐;吉田卓司 - 三菱电机株式会社
  • 2006-03-24 - 2006-11-29 - G02F1/136
  • 提供一种能够不降低反射率、不增加步骤数、以较低成本、并且抑制电池腐蚀的产生而以较高的成品率制造出来的不产生闪烁或者液晶烧毁的液晶显示装置。以相同的掩模图形对反射像素电极(11)(第3金属膜)和其上层的第2透明导电膜(12)进行构图,使用相同的刻蚀液一并进行湿法刻蚀处理。将第2透明导电膜(12)的膜厚制作成大于等于5nm而小于等于15nm,由此,可防止显影液对反射像素电极的侵蚀,防止基底的像素电极发生电池反应所引起的腐蚀,以高成品率进行制造。并且,可减小与对置电极衬底的透明公共电极的功函数差,无需增加步骤数并以较低成本即可制造出不产生闪烁或者液晶烧毁的液晶显示装置。
  • 液晶显示装置及其制造方法
  • [发明专利]止回阀-CN200510102709.3有效
  • 成川文太;吉田卓司 - 株式会社不二工机
  • 2005-09-09 - 2006-07-26 - F16K15/06
  • 插入于冷冻循环的配管(5)内的止回阀(100),其具有:阀座构件(110)、球状阀体(120)、以及与阀体(120)成一体的阀支承构件(130)。将棒状阀支承构件(130)滑动自如地插入导向构件(140)中。螺旋弹簧(150),对阀支承构件(130)和阀体(120)在与制冷剂流动方向(F1)呈水平的方向上施力。防振弹簧(160)弹性支承阀支承构件(130)的外周部,从而实现在与制冷剂的流动方向(F1)垂直的方向上的防振。因此,可实现防止插入于冷冻循环的配管内的止回阀的振动。
  • 止回阀
  • [发明专利]蚀刻剂和蚀刻方法-CN200480014911.4无效
  • 齐藤范之;吉田卓司;井上和式;石川诚;上原口好夫 - 先进显示股份有限公司;三菱化学株式会社
  • 2004-11-09 - 2006-07-05 - C23F1/16
  • 仅通过一次蚀刻操作,同时蚀刻构成多层膜的两层而形成精度令人满意的微细配线形状,同时防止上方层形成悬伸物;所述多层膜包括由铝合金制成的第一层和形成在该第一层上的由钼-铌合金制成的第二层。对于包括形成在基板上的铝合金层和形成在所述铝合金层上的铌含量为2重量%~19重量%的钼-铌合金层的多层膜,用于蚀刻该多层膜的蚀刻剂包含磷酸、硝酸和有机酸的酸混合物的水溶液;以及使用该蚀刻剂实施所述蚀刻方法。优选所述蚀刻剂的磷酸浓度Np为50重量%~75重量%,硝酸浓度Nn为2重量%~15重量%,由Np+(98/63)Nn定义的酸成分的浓度为55重量%~85重量%。
  • 蚀刻方法
  • [发明专利]薄膜晶体管阵列衬底及其制造方法-CN200510089557.8有效
  • 石贺展昭;吉田卓司;升谷雄一;永野慎吾 - 三菱电机株式会社
  • 2005-07-27 - 2006-02-01 - G02F1/1368
  • 不需要增加掩模枚数而能够提供一种具备薄膜晶体管的薄膜晶体管阵列衬底,其中,所述薄膜晶体管是将由含有铝的上层和下层金属层的叠层加工形成的漏极电极兼作反射电极并且漏极电极和象素电极间的接触电阻低。在构成下层的金属膜和上层的铝膜的叠层结构的漏极进行曝光时,通过改变仅一部分区域的曝光量,形成抗蚀剂厚度比其他区域薄的区域之后,与通常相同地形成图案。此后,完全去除该区域的抗蚀剂,仅对露出的铝膜进行选择性蚀刻去除。在该区域设置接触孔,通过该接触孔使得与象素电极电连接,其中,该接触孔形成于漏极电极上的层间绝缘膜。
  • 薄膜晶体管阵列衬底及其制造方法
  • [发明专利]固体摄像装置-CN200410057935.X无效
  • 岩井嘉男;木村胜治;吉田卓司 - 夏普株式会社
  • 2004-08-26 - 2005-03-09 - H04N5/335
  • 本发明涉及一种固体摄像装置,具有对摄像信号进行信号处理的信号处理单元,该摄像信号从对入射光进行光电变换的固体摄像元件输出,其中,该信号处理单元具备:暂时存储单元,暂时存储该摄像信号;以及传送时序调整单元,对传送时序控制信号进行输出调整并供给该暂时存储单元,以使在从该固体摄像元件输出的摄像信号的图像数据期间外的期间内,输出存储在该暂时存储单元中的摄像信号。
  • 固体摄像装置

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