专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]显微镜装置-CN201910920538.7有效
  • 冈田昌也;岩永茂树 - 希森美康株式会社
  • 2019-09-27 - 2023-08-11 - G02B21/36
  • 本发明公开显微镜装置。可靠地抑制光从外部进入到试样设置部,对微弱的光精度良好地进行摄像,并且抑制热所致的向试样的影响。该显微镜装置(100)具备:试样设置部(11),用于设置试样;摄像部10d,对设置于试样设置部(11)的试样进行摄像;框体部(10),试样设置部(11)被设置于框体部,并且在框体部的内部配置有摄像部(10d);第1照明(13),对试样设置部(11)照射荧光用的光;第1罩(20),能够移动到覆盖试样设置部(11)的第1位置和敞开试样设置部(11)的第2位置;以及第2罩(22),在第1罩(20)内以绝热的方式覆盖试样设置部(11)。
  • 显微镜装置
  • [发明专利]光学仪器、相位板及像形成方法-CN201710138918.6有效
  • 冈田昌也;岩永茂树 - 希森美康株式会社
  • 2017-03-09 - 2021-06-15 - G02B21/00
  • 本发明提供一种能够以简单的结构对复数个荧光的相位进行调制的光学仪器、相位板和像形成方法。所述光学仪器10具有:对以第1波长为中心波长的第1荧光施以第1相位调制并对以第2波长为中心波长的第2荧光施以第2相位调制的通用的相位调制掩膜50、让第1荧光和第2荧光入射相位调制掩膜50的同一入射区域的照射光学系统30、聚集经第1相位调制后的第1荧光和经第2相位调制后的第2荧光并形成与点扩展函数相应的像的聚光光学系统60。
  • 光学仪器相位形成方法
  • [发明专利]粒子拍摄装置和粒子拍摄方法-CN201610827528.5有效
  • 冈田昌也;岩永茂树 - 希森美康株式会社
  • 2016-09-18 - 2020-08-25 - G01N15/14
  • 粒子拍摄装置10具有:供含有粒子的试样在其中流动的流动室40、光源20、用光源20射出的光对流动室40形成片状光11的照射光学系统30、聚集从粒子产生的光的聚光光学系统50、接受聚光光学系统50所聚集的光的拍摄元件60。片状光11的片状面相对于光源20射出的光所入射的流动室40的外侧面40a来说是垂直的。此外,片状光11的片状面相对于试样的流动方向来说不垂直,而是以一定角度倾斜。
  • 粒子拍摄装置方法

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