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[发明专利]硅酮橡胶粒子的水分散物及化妆料-CN202280020773.9在审
发明人：井口良范;小西将幸;堀口隆二 -专利权人： 信越化学工业株式会社
申请日： 2022-03-10 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C08L83/14 文献下载
摘要：[课题]本发明的目的在于提供一种对特定的油剂、特别是烃油或酯油的吸油性优异的硅酮橡胶球状粒子的水分散物、以及调配有所述硅酮橡胶球状粒子的水分散物的、使用感、完妆效果、密接性、耐皮脂性优异的化妆料。一种所述硅酮橡胶粒子的水分散物，包含：[技术手段](A)硅酮橡胶粒子：相对于水分散物整体的质量为5质量％～80质量％，所述硅酮橡胶粒子是作为(A‑1)有机氢聚硅氧烷与(A‑2)含有一价烯烃烃基的有机聚硅氧烷的加成反应物的硅酮橡胶粒子，其特征在于，所述(A‑1)成分及所述(A‑2)成分中的至少一者以相对于与硅原子键结的全部取代基的合计个数为5％～70％的量具有与硅原子键结的碳原子数6～30的一价脂肪族饱和烃基；(B)表面活性剂的至少一种：相对于水分散物整体的质量为0.01质量％～15质量％；以及(C)水：相对于水分散物整体的质量为19质量％～94质量％。[选择图]无。
硅酮橡胶粒子水分化妆

[发明专利]化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法-CN202310445090.4在审
发明人：小竹正晃;渡边聪;增永惠一;福岛将大;船津显之;松泽雄太 -专利权人： 信越化学工业株式会社
申请日： 2023-04-24 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题为提供可获得改善了图案形成时的分辨率且LER及CDU经改善的抗蚀剂图案，缺陷少且可使用300～400nm的短波长进行缺陷检查的化学增幅正型抗蚀剂组成物，以及提供抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，分别以预定量含有：(A)下式(A1)表示的鎓盐化合物，(B)基础聚合物，包含含有下式(B1)表示的重复单元且会因酸的作用而分解并增加在碱显影液中的溶解度的聚合物，但，不包含含有具内酯环的重复单元的聚合物，及(C)光酸产生剂。#imgabs0#
化学增幅正型抗蚀剂组成抗蚀剂图案形成方法

[发明专利]化妆品-CN202280020187.4在审
发明人：赤羽绘美;小西将幸 -专利权人： 信越化学工业株式会社
申请日： 2022-01-25 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： A61K8/891 文献下载
摘要：本发明为一种化妆品，其特征在于，包含(A)成分：芳香族基改性交联型有机硅氧烷，其为(A1)的有机氢(聚)硅氧烷与(A2)的有机(聚)硅氧烷的氢化硅烷化反应产物，且芳基和芳烷基的摩尔数的合计与硅原子的摩尔数的比为0.34以上。由此，可提供一种能够稳定地掺合高极性油、紫外线吸收剂，且具有良好的触感、使用感的化妆品。
化妆品

[发明专利]氧化物半导体膜及其成膜方法、半导体装置-CN202280019575.0在审
发明人：坂爪崇寛 -专利权人： 信越化学工业株式会社
申请日： 2022-03-09 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C23C16/40 文献下载
摘要：本发明为一种成膜方法，对经雾化的原料溶液进行热处理而进行成膜，其特征在于包含下述工序：将所述原料溶液雾化或液滴化而生成雾；利用载气将所述雾搬送至成膜部；以及在所述成膜部中从喷嘴向基板上供给所述雾，在所述基板上进行热处理而进行成膜，且在将所述喷嘴的开口面的面积设为S[cm2]，将所述开口面内的点与所述基板的表面的距离中达到最长的距离设为H[cm]，将从所述喷嘴供给的所述载气的流量设为Q[L/分]时，设为SH/Q≧0.015。由此，提供一种抑制异常成长而形成表面的平滑性良好的膜的成膜方法。
氧化物半导体及其方法装置

[发明专利]乳化组合物-CN202310438244.7在审
发明人：须藤贵音;新延信吾 -专利权人： 信越化学工业株式会社
申请日： 2023-04-21 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： A23L29/10 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种不含蛋以及过敏原物质并且能够作为冷冻食品的调味料使用的乳化组合物。上述目的通过如下乳化组合物等解决：乳化组合物，包含由粘度不同的两种以上的甲基纤维素组成的甲基纤维素混合物，所述甲基纤维素混合物的20℃下的2质量％水溶液的粘度为300mPa·s～10000mPa·s，并且在60℃下的频率1Hz以及应变1％的条件下测定的2质量％水溶液的损耗角正切为2.5以下。
乳化组合

[发明专利]固化性氟聚醚系橡胶组合物和光学部件-CN201980074543.9有效
发明人：越川英纪 -专利权人： 信越化学工业株式会社
申请日： 2019-10-24 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C08L71/00 文献下载
摘要：提供能形成具有良好的光透过性并且橡胶强度优异的固化物的固化性氟聚醚系橡胶组合物、和具有该组合物的固化物层的光学部件。固化性氟聚醚系橡胶组合物，其含有：(A)在1分子中具有2个以上的烯基并且在主链中具有全氟聚醚结构的直链状多氟化合物，(B)在1分子中具有1价的全氟烷基或1价的全氟氧烷基或者具有2价的全氟亚烷基或2价的全氟氧亚烷基、还具有2个以上的与硅原子直接键合的氢原子(SiH基)的含氟有机氢硅氧烷，(C)氟化钠，(D)铂族金属系催化剂：相对于(A)成分，以铂族金属原子的质量换算计，为0.1～2000ppm。
固化性氟聚醚系橡胶组合光学部件

[发明专利]自由基固化型有机硅组合物及固化物-CN202010591585.4有效
发明人：朝仓爱里 -专利权人： 信越化学工业株式会社
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C08L83/06 文献下载
摘要：本发明提供一种自由基固化型有机硅组合物，其中分散有量子点，且其能够在低温下固化。所述自由基固化型有机硅组合物含有(A)下述式(1)所表示的直链状有机聚硅氧烷及(B)聚合引发剂。(R1R22SiO1/2)a(R3R22SiO1/2)b(R22SiO2/2)c(R3R2SiO2/2)d(R1R2SiO2/2)e(1)式中，R1为C2～8的烯基，R2为C1～8的烷基或C6～12的芳基，且全部R2的10mol％以上为芳基，R3为下述式(2)所表示的基团；a～e分别为0以上且满足a+b＞0、b+d＞0、a+b+c+d+e＝1的数。[化学式1]#imgabs0#式中，R4为C1～8的二价烃基，R5为H原子、C1～8的烷基、C6～12的芳基中的任一种；＊表示与硅原子的键。
自由基固化有机硅组合

[发明专利]制备4-甲基-5-壬酮和4-甲基-5-壬醇的方法-CN201911326920.1有效
发明人：三宅裕树;金生刚;小松棱 -专利权人： 信越化学工业株式会社
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C07C45/45 文献下载
摘要：本发明提供了一种制备下式(3)的4‑甲基‑5‑壬酮的方法：该方法至少包括使下式(1)的戊酸酐和以下通式(2)的2‑戊基亲核试剂进行亲核取代反应从而生成4‑甲基‑5‑壬酮(3)的步骤，其中M代表Li、MgZ1或ZnZ1，其中Z1代表卤原子或2‑戊基，还提供了一种制备下式(7)的4‑甲基‑5‑壬醇的方法，该方法至少包括制备4‑甲基‑5‑壬酮以及使所获得的4‑甲基‑5‑壬酮和还原剂进行还原反应从而生成4‑甲基‑5‑壬醇(7)的步骤。#imgabs0#
制备甲基壬酮壬醇方法

[发明专利]羟丙基甲基纤维素邻苯二甲酸酯及其制造方法-CN202011173019.8有效
发明人：北口太志;松原纯一;吉田光弘 -专利权人： 信越化学工业株式会社
申请日： 2020-10-28 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C08B13/00 文献下载
摘要：本发明提供一种用于制造羟丙基甲基纤维素邻苯二甲酸酯(HPMCP)的方法，所述方法包括在配备有两个或更多个围绕它们自己的轴自转并沿轨道公转的搅拌桨叶的捏合机反应器中在脂肪族羧酸的存在下使羟丙基甲基纤维素与羧基苯甲酰化剂反应以获得包含HPMCP的反应产物溶液的酯化步骤；通过使所述反应产物溶液与水混合来沉淀HPMCP以获得沉淀的HPMCP的悬液的沉淀步骤；以及洗涤所述悬液中的HPMCP并回收洗涤后的HPMCP的洗涤回收步骤。此外，本发明还提供20℃时在丙酮中的10质量％的HPMCP溶液中测定的黄度为10.0或更小的HPMCP。
丙基甲基纤维素邻苯二甲酸及其制造方法

[发明专利]成膜装置、成膜方法、氧化镓膜及层叠体-CN202280019526.7在审
发明人：坂爪崇寛;桥上洋 -专利权人： 信越化学工业株式会社
申请日： 2022-03-10 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明的成膜装置对经雾化的原料溶液进行热处理而在基板上进行成膜，所述成膜装置包括：雾化部，将所述原料溶液雾化而产生雾；载气供给部，供给载气，所述载气搬送所述雾化部中所产生的所述雾；成膜部，在内部包括载置所述基板的载置部，将由所述载气搬送的所述雾供给至所述基板上；以及排气部，从所述成膜部排出废气，且在所述成膜部内的所述载置部的上方进而包括：喷嘴，向所述基板上供给所述雾；以及顶板，将从所述喷嘴供给的所述雾进行整流。由此，提供一种能够应用雾CVD法、能够形成膜厚的面内均一性优异的膜的成膜装置、及成膜方法。
装置方法氧化层叠

[发明专利]醋酸羟丙甲纤维素琥珀酸酯的制造方法-CN202310428206.3在审
发明人：松末慎太朗 -专利权人： 信越化学工业株式会社
申请日： 2023-04-20 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C08B13/00 文献下载
摘要：本发明提供一种醋酸羟丙甲纤维素琥珀酸酯的制造方法。在所述制造方法中，即使减少脂肪族羧酸的使用量，也能够高生产率地制造出与减少脂肪族羧酸的量之前同等的分子量的醋酸羟丙甲纤维素琥珀酸酯(HPMCAS)。所述制造方法至少包含：在脂肪族羧酸和多元醇的存在下，通过进行羟丙基甲基纤维素与乙酰化剂以及琥珀酰化剂的酯化反应，从而得到含有醋酸羟丙甲纤维素琥珀酸酯的反应溶液的酯化反应工序。
醋酸羟丙甲纤维素琥珀酸制造方法

[发明专利]外延生长用种子基板及其制造方法、和半导体基板及其制造方法-CN202280020112.6在审
发明人：久保田芳宏;久保埜一平 -专利权人： 信越化学工业株式会社;信越半导体株式会社
申请日： 2022-03-04 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C30B29/38 文献下载
摘要：目的是获得几乎没有晶体缺陷的高品质且价廉的包含如AlN、AlxGa1‑xN(0X1)和GaN等第III族氮化物的外延及无垢的外延生长用种子基板。该外延生长用种子基板包括支承基板，设置在支承基板的上表面上的0.5～3μm的平坦化层，和设置在所述平坦化层的上表面上的晶种层。支承基板包括包含第III族氮化物多晶陶瓷的芯和包封芯的0.05～1.5μm的包封层。通过使氧化诱导堆垛层错为10个/cm2以下的Si111单晶的0.1～1.5μm的表面层进行薄膜转印而设置晶种层。
外延生长种子及其制造方法半导体

[发明专利]有机聚硅氧烷和含有其的化妆料-CN202280014205.8在审
发明人：今井太郎;宫内大;小西将幸 -专利权人： 信越化学工业株式会社
申请日： 2022-02-02 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C08G77/14 文献下载
摘要：在具有长链烷基、甘油基和分支链的有机硅基的、烷基‑甘油共改性分支状有机聚硅氧烷(在有机硅主链中有机硅链和烷基链分支的聚甘油改性有机硅)中限定了具有长链烷基的硅氧烷单元、具有甘油基的硅氧烷单元、具有分支链的有机硅基的硅氧烷单元的比例、有机聚硅氧烷的链长、硅氧烷单元的比率、长链烷基量、甘油基量的有机硅氧烷在含有粉体的组合物中配混的情况下分散性和分散稳定性良好，在化妆料中配混的情况下，即使含有油溶性紫外线吸收剂，也得到历时稳定性优异、同时铺展、肌肤亲和性良好的化妆料。
有机聚硅氧烷含有化妆

[发明专利]抗蚀剂材料及图案形成方法-CN202310054083.1在审
发明人：畠山润;福岛将大 -专利权人： 信越化学工业株式会社
申请日： 2023-02-03 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供为高感度且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：包含具有由键结于聚合物主链的磺酸阴离子与下式(1)表示的锍阳离子构成的盐结构的重复单元a的基础聚合物。#imgabs0#
抗蚀剂材料图案形成方法

[发明专利]反射型光掩模坯料，制造反射型光掩模的方法和反射型光掩模-CN202310388811.2在审
发明人：樱井敬佑;三村祥平;石井丈士 -专利权人： 信越化学工业株式会社
申请日： 2023-04-12 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G03F1/24 文献下载
摘要：本发明涉及一种反射型光掩模坯料，制造反射型光掩模的方法和反射型光掩模。所述反射型光掩模坯料包括：衬底，在衬底上形成且反射曝光光(即极紫外范围内的光)的多层反射膜，在多层反射膜上形成的保护多层反射膜的保护膜，在保护膜上形成并吸收曝光光的吸光膜，以及硬掩模膜，其形成于所述吸光膜上并与所述吸光膜接触，且在通过干刻蚀图案化所述吸光膜中充当硬掩模膜。所述硬掩模膜由多层构成，该多层包括第一层和第二层，所述第一层设置在离衬底最远的一侧，并由含硅且不含铬的材料组成，且第二层由含铬且不含硅的材料组成。
反射型光掩模坯料制造方法

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