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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]光取向用偏振光照射装置-CN201610341906.9在审
发明人： 佐藤伸吾 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2014-01-23 - 公布日： 2016-07-27 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：提供一种光取向用偏振光照射装置，能够对板状构件进行光取向加工，能够实现高的生产率。照射单元(1)向照射区域(R)照射偏振光，台移动机构(3)使搭载了基板(S)的第一和第二台(21、22)交替地输送到照射区域(R)并返回。在位于第一基板搭载位置的第一台(21)与照射区域(R)之间确保第二台(22)上的基板(S)经过照射区域(R)的量以上的空间(L1)，在位于第二基板搭载位置的第二台(22)与照射区域(R)之间确保第一台(21)上的基板(S)经过照射区域的量以上的空间(L2)。
取向偏振光照射装置

[发明专利]光取向用偏振光照射装置-CN201610340993.6在审
发明人： 佐藤伸吾 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2014-01-23 - 公布日： 2016-07-20 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：提供一种光取向用偏振光照射装置，能够对板状构件进行光取向加工，能够实现高的生产率。照射单元(1)向照射区域(R)照射偏振光，台移动机构(3)使搭载了基板(S)的第一和第二台(21、22)交替地输送到照射区域(R)并返回。在位于第一基板搭载位置的第一台(21)与照射区域(R)之间确保第二台(22)上的基板(S)经过照射区域(R)的量以上的空间(L1)，在位于第二基板搭载位置的第二台(22)与照射区域(R)之间确保第一台(21)上的基板(S)经过照射区域的量以上的空间(L2)。
取向偏振光照射装置

[发明专利]光取向用偏振光照射装置-CN201610341924.7在审
发明人： 佐藤伸吾 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2014-01-23 - 公布日： 2016-07-20 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：提供一种光取向用偏振光照射装置，能够对板状构件进行光取向加工，能够实现高的生产率。照射单元(1)向照射区域(R)照射偏振光，台移动机构(3)使搭载了基板(S)的第一和第二台(21、22)交替地输送到照射区域(R)并返回。在位于第一基板搭载位置的第一台(21)与照射区域(R)之间确保第二台(22)上的基板(S)经过照射区域(R)的量以上的空间(L1)，在位于第二基板搭载位置的第二台(22)与照射区域(R)之间确保第一台(21)上的基板(S)经过照射区域的量以上的空间(L2)。
取向偏振光照射装置

[发明专利]光取向用偏振光照射方法-CN201610341961.8在审
发明人： 佐藤伸吾 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2014-01-23 - 公布日： 2016-07-20 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：提供一种光取向用偏振光照射方法，能够对板状构件进行光取向加工，能够实现高的生产率。照射单元(1)向照射区域(R)照射偏振光，台移动机构(3)使搭载了基板(S)的第一和第二台(21、22)交替地输送到照射区域(R)并返回。在位于第一基板搭载位置的第一台(21)与照射区域(R)之间确保第二台(22)上的基板(S)经过照射区域(R)的量以上的空间(L1)，在位于第二基板搭载位置的第二台(22)与照射区域(R)之间确保第一台(21)上的基板(S)经过照射区域的量以上的空间(L2)。
取向偏振光照射方法

[实用新型]光取向用偏振光照射装置-CN201420043416.7有效
发明人： 佐藤伸吾 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2014-01-23 - 公布日： 2014-07-09 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本实用新型提供一种光取向用偏振光照射装置和光取向用偏振光照射方法，能够对板状构件进行光取向加工，能够实现高的生产率。照射单元(1)向照射区域(R)照射偏振光，台移动机构(3)使搭载了基板(S)的第一和第二台(21、22)交替地输送到照射区域(R)并返回。在位于第一基板搭载位置的第一台(21)与照射区域(R)之间确保第二台(22)上的基板(S)经过照射区域(R)的量以上的空间(L1)，在位于第二基板搭载位置的第二台(22)与照射区域(R)之间确保第一台(21)上的基板(S)经过照射区域的量以上的空间(L2)。
取向偏振光照射装置

[发明专利]光取向用偏振光照射装置和光取向用偏振光照射方法-CN201410032760.0有效
发明人： 佐藤伸吾 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2014-01-23 - 公布日： 2014-04-16 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：提供一种光取向用偏振光照射装置和光取向用偏振光照射方法，能够对板状构件进行光取向加工，能够实现高的生产率。照射单元(1)向照射区域(R)照射偏振光，台移动机构(3)使搭载了基板(S)的第一和第二台(21、22)交替地输送到照射区域(R)并返回。在位于第一基板搭载位置的第一台(21)与照射区域(R)之间确保第二台(22)上的基板(S)经过照射区域(R)的量以上的空间(L1)，在位于第二基板搭载位置的第二台(22)与照射区域(R)之间确保第一台(21)上的基板(S)经过照射区域的量以上的空间(L2)。
取向偏振光照射装置方法

[发明专利]光照射装置-CN201110143534.6无效
发明人： 佐藤伸吾 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2011-05-31 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： G02F1/1333 文献下载
摘要：本发明涉及光照射装置，提供一种在并列地配置了多个准分子灯的光照射装置中，适当地配置用于测量准分子灯的照度的照度传感器，从而不遮挡来自准分子灯的照射光，而能够正确检测有效照射区域内的灯中央部的正常准分子放电的结构。其特征在于，对上述准分子灯的放射光进行受光的照度传感器被配置为与该准分子灯纵长方向的一侧的端部相对应，受光面朝向准分子灯的中央部地倾斜。
照射装置

[发明专利]紫外线照射装置-CN201110073302.8有效
发明人：竹添法隆;佐藤伸吾;远藤真一 -专利权人：优志旺电机株式会社
申请日： 2011-03-25 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本发明提供一种能够进行被处理对象物的光照射面内紫外线照度的面内均匀性高，而且被处理对象物的温度上升少、被处理对象物的光照射面内温度的面内均匀性高的紫外线照射处理的紫外线照射装置。该紫外线照射装置在包含光反应性物质的液晶面板的制造工序中使用，具备由多个光源元件与作为被处理对象物的液晶面板材料相对地并列排列构成的光源单元、以及向上述光源元件的每一个中的外套管的内部供给冷却风的冷却机构，所述多个光源元件的每一个由放射在300nm～400nm的波长上具有发光峰值的光的长条状的灯、以及在内部穿插有该灯的状态下设置的具有光透射性的长条状的外套管构成。
紫外线照射装置

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