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[发明专利]制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法、由该方法获得的用于磁记录介质的玻璃基底、和使用该基底获得的磁记录介质-CN200580029014.5无效
发明人： 会田克昭;町田裕之;羽根田和幸 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2005-08-04 - 公布日： 2009-03-11 - 主分类号： C03C23/00 文献下载
摘要：制造用于磁记录介质的玻璃基底的方法，包括使用磨料粒抛光结晶玻璃基底，然后使用有机羧酸水溶液洗涤该基底；由该方法制成的用于磁记录介质的玻璃基底；和使用该基底获得的磁记录介质。制造了用于磁记录介质的玻璃基底，其中表面粗糙度低、且表面缺陷对于结晶玻璃基底抛光后的洗涤而言为最低程度，且其中当在用于制造用于磁记录介质的磁记录介质基底上形成包括磁膜的记录层时，读写性能不会受到损害。
制造用于记录介质玻璃基底方法获得使用

[发明专利]磁盘基底及其磁记录介质-CN200680046929.1无效
发明人： 会田克昭;町田裕之 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2006-11-29 - 公布日： 2008-12-24 - 主分类号： G11B5/73 文献下载
摘要：本发明涉及一种磁盘基底，其中通过使用用于通用盘的干涉仪在5.0mm的测量波长下测得的在表面上的波纹的振幅Wa在0.1nm至0.5nm的范围内，通过使用用于三维表面结构分析的显微镜方法在30μm至200μm的测量波长下测得的在波纹上产生的微波纹的平均振幅Wb为0.3nm以下，并且通过将微波纹的平均振幅Wb除以波纹的振幅Wa计算得到的值为0.6以上。
磁盘基底及其记录介质

[发明专利]磁盘基底以及其磁盘-CN200680043383.4无效
发明人：町田裕之;会田克昭 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2006-12-13 - 公布日： 2008-11-26 - 主分类号： G11B5/73 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种使用硅基底的磁盘基底，其中在所述硅基底的主表面和外周表面之间设置倒棱的表面；滑雪跳跃值H₀，其中H₀≤0μm，表示从基平面到点A₃的距离；滚降值H₁，其中H₁≥－0.2μm且H₁≤0.0μm，表示从所述基平面到点A₁的距离；标记值H₂，其中H₂≥0μm且H₂≤0.012μm，表示所述主表面的边界线相对于线A₁到A₂的最大偏移；在所述主表面和所述倒棱的表面之间设置曲面；且所述曲面的曲率半径R，其中R≥0.013mm且R≤0.080mm。
磁盘基底及其

[发明专利]用于磁记录介质的硅基底以及磁记录介质-CN200680034998.0无效
发明人： 会田克昭;町田裕之 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2006-09-12 - 公布日： 2008-09-17 - 主分类号： G11B5/73 文献下载
摘要：提供一种用于磁记录介质的硅基底，其中该基底在其具有包括磁性层的层的数据承载面(表面)与其外周端面(竖直面)之间具有倒棱面。该硅基底的特征在于，数据承载面的外周侧的dub－off值不大于120，其中，当第一位置(A)是在数据承载面上的与基底的外周端面相距1mm处在径向上向内设置的一个点时，第二位置(B)是在数据承载面上的与第一位置(A)进一步相距1.6mm的在径向上向内设置的一个点，此外，如果垂直线落到连接第一位置(A)和第二位置(B)的直线(A－B)，则第三位置(C)是该垂直线与数据承载面相交的点，以及第四位置(H)是该垂直线与直线(A－B)相交的点，dub－off值定义为第三位置(C)和第四位置(H)之间的距离(C－H)的最大值。使用这种硅基底，对于磁记录介质，可以获得用于较高记录密度的小的雪崩点。还提供一种使用这种硅基底的磁记录介质。
用于记录介质基底以及

[发明专利]磁记录介质的基底、磁记录介质以及磁记录和再现装置-CN200680022097.X有效
发明人：福岛正人;会田克昭;清水谦治 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2006-06-30 - 公布日： 2008-06-18 - 主分类号： G11B5/82 文献下载
摘要：本发明提供一种磁记录介质基底产品，该基底产品能够增强基底端面和软磁层之间的接触强度，并能抑制腐蚀的发生，还提供一种包含所述基底产品的磁记录介质，该磁记录介质显示出没有退化的电磁转换特性并具有非常好的耐用性，还提供一种包含所述磁记录介质的磁记录和再现装置。所述磁记录介质基底产品包括一种圆盘形非磁性基底，该基底在其中心部分有圆孔，并且在将要在上面形成磁性层的主表面与外端面之间的部分以及所述主表面与界定所述圆孔的内端面之间的部分中的至少一个部分处形成斜切面，其中，通过AFM测量到的所述斜切面的表面粗糙度(Ra)在4.0≤Ra≤100范围内，优选是落在4.0≤Ra≤50的范围内。
记录介质基底以及再现装置

[发明专利]制造用于磁记录介质的硅基底的方法、用于磁记录介质的硅基底、磁记录介质以及磁记录装置-CN200580027648.7无效
发明人： 会田克昭 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2005-08-16 - 公布日： 2007-11-07 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：一种用于磁记录介质的硅基底的制造方法具有以下步骤：形成通过其间的隔离物层叠的许多硅基底的层叠体，其中各硅基底具有在所述基底的中心处的圆孔；将所述硅基底的所述层叠体浸入其中颗粒悬浮的抛光液中；以及抛光所述硅基底的所述圆孔的内周端面，其中在抛光时，抛光刷接触所述端面，同时在所述端面与所述抛光刷之间进行相对旋转，以及在抛光期间倒转所述硅基底的所述层叠体。所述抛光所述内周端面的步骤可以在对所述硅基底的内和外周进行倒棱之后进行。优选地，所述抛光刷由聚酰胺树脂制成。
制造用于记录介质基底方法以及装置

[发明专利]用于磁记录介质的硅衬底和磁记录介质-CN200580030953.1无效
发明人： 会田克昭;町田裕之;羽根田和幸 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2005-09-16 - 公布日： 2007-08-15 - 主分类号： G11B5/851 文献下载
摘要：一种即使当衬底是由易碎材料制成的硅衬底时在衬底端面上也基本不碎裂或者开裂的衬底，并提供一种衬底，其防止从衬底端面生成粉尘和防止由于与处理盒摩擦而造成的粉尘。通过将衬底主面和外周侧端面之间斜切部分的长度L设置为0.1±0.03mm，以及将主面与在主面和外周侧端面之间的斜切部分的角α设置为45度±5度，而形成用于磁记录介质的硅衬底。还可能在主面和衬底外周侧斜切部分之间插入半径大于等于0.01mm且小于0.3mm的弯曲部分。
用于记录介质衬底

[发明专利]抛光浆料，用于信息记录介质的玻璃基材的制造方法和信息记录介质的制造方法-CN200580028933.0有效
发明人： 会田克昭;町田裕之;羽根田和幸 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2005-08-29 - 公布日： 2007-08-01 - 主分类号： C09K3/14 文献下载
摘要：本发明提供了一种就待抛光表面的缺陷和光滑度而言具有优异效果的低成本抛光浆料。该抛光浆料包含氧化硅磨料和氧化铈磨料，其中基于全部抛光浆料，氧化硅磨料含量低于3质量％，氧化铈磨料含量低于1质量％。此外，本发明提供了一种用于信息记录介质的结晶玻璃基材的制造方法，其中该方法使用本发明的浆料。此外，本发明提供了一种信息记录介质的制造方法，包括在通过本方法制得的用于信息记录介质的结晶玻璃基材上形成记录层。
抛光浆料用于信息记录介质玻璃基材制造方法

[发明专利]磁盘基材和磁盘的制造方法-CN200580028742.4有效
发明人：町田裕之;会田克昭 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2005-08-26 - 公布日： 2007-08-01 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：本发明可以提供能够减少玻璃基材表面缺陷数的磁盘基材的制造方法。当使用所得磁盘基材制造磁盘时，产率以及可靠性可以得到改善。在磁盘基材表面抛光后对其进行洗涤时，在经抛光的玻璃基材表面保持润湿状态的同时，将玻璃基材浸到洗涤溶液中。玻璃基材表面的润湿状态包括浸入可以包含表面活性剂的水中的状态和其中液膜形成在几乎整个表面上的状态。
磁盘基材制造方法

[发明专利]磁盘基底以及磁盘的制造方法-CN200580028744.3有效
发明人：町田裕之;会田克昭;羽根田和幸 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2005-08-26 - 公布日： 2007-08-01 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：本发明涉及一种磁盘玻璃基底，其能够在磁盘制造过程中防止出现灰尘以及颗粒粘附到磁盘表面，并涉及一种制造方法和一种磁盘。一种用于磁盘的玻璃基底具有以下结构，其中在主表面的圆周边缘部分附近形成的外周缘形状在以该主表面的另外的平坦部分作为参考时具有以下特征：外周缘部分的滑雪跳跃值不大于0μm；外周缘部分的滚降值是－0.2至0.0μm；以及外周缘部分的dub－off值是0至120；该玻璃基底具有在主表面(数据面)和外周缘表面(竖直表面)之间的斜面，并且具有在玻璃基底的数据面和斜面之间的曲率半径为0.013至0.080mm的R表面。
磁盘基底以及制造方法

[发明专利]用于磁记录介质的玻璃基底和磁记录介质-CN200580029272.3有效
发明人：羽根田和幸;会田克昭;町田裕之 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2005-08-30 - 公布日： 2007-08-01 - 主分类号： G11B5/73 文献下载
摘要：一种用于磁记录介质的玻璃基底，具有位于基底表面(数据面)和基底外周端面(直面)之间的斜面，基底表面用于在其上形成包括磁性层的薄膜，其中外周斜面在径向上具有120或更小的突起值。
用于记录介质玻璃基底

[发明专利]使用刷子抛光用于记录介质的基底的内边缘端面的方法-CN200580028721.2无效
发明人： 会田克昭;町田裕之 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2005-08-24 - 公布日： 2007-08-01 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本发明的目的是提供抛光基底的内边缘端面、并在抛光多个用于记录介质的盘状基底的内边缘端面时保持足够高的加工精度的方法。根据本发明，提供了使用刷子抛光用于记录介质的盘状基底的内边缘端面的方法，包括：提供多片在其中心部分具有圆孔、由此形成内边缘端面的用于记录介质的盘状基底，将它们叠置同时使圆孔对齐以形成在其中心部分具有圆孔的抛光对象；使含有抛光材料的抛光材料浆与所述抛光对象接触；和在使所述浆液与所述抛光对象接触的情况下，将在杆状柄的周围布有刷毛的抛光刷插入所述抛光对象的圆孔中，并以柄为中轴旋转抛光刷以抛光基底的内边缘端面；其中控制所述抛光材料浆以保持恒定温度。
使用刷子抛光用于记录介质基底边缘端面方法

[发明专利]磁盘基底以及磁盘的制造方法-CN200580029275.7无效
发明人：町田裕之;会田克昭;羽根田和幸 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2005-08-26 - 公布日： 2007-08-01 - 主分类号： G11B5/84 文献下载
摘要：本发明提供一种磁盘基底的制造方法，它能够只用一个抛光步骤来控制表面粗糙度并能减少表面缺陷，以及提供一种磁盘的制造方法。当玻璃基底被抛光时，该玻璃基底用含磨料的研磨浆来抛光。接着，该玻璃基底用不含磨料的水性清洗液来作进一步的抛光，使得该玻璃基底的表面粗糙度Ra为4到8埃。
磁盘基底以及制造方法

[发明专利]磁盘基底以及磁盘的制造方法-CN200580029285.0无效
发明人：町田裕之;会田克昭 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2005-08-29 - 公布日： 2007-08-01 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种磁盘基底的制造方法，其能够减少在玻璃基底表面上存在的滑痕的数量并增大玻璃基底的合格率。当通过利用每个都具有衬垫的抛光盘对玻璃基底的表面进行抛光时，通过将加工速率设定为0.15μm/分或更低并且将衬垫槽宽设定为2至4mm来对非晶或晶化玻璃基底进行抛光。而且，通过将加工速率设定为0.15μm/分或更低来对化学钢化玻璃基底进行抛光。
磁盘基底以及制造方法

[发明专利]用于磁记录介质的玻璃基底以及磁记录介质-CN200580029283.1无效
发明人：羽根田和幸;会田克昭;町田裕之 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2005-08-29 - 公布日： 2007-08-01 - 主分类号： G11B5/73 文献下载
摘要：一种用于磁记录介质的玻璃基底，在所述基底的用来形成有含磁性层的薄膜的表面(数据面)和所述基底的外周端面(竖直面)之间有一个斜切面，其中，在所述玻璃基底的所述数据面和所述斜切面之间有一个曲率为0.013到0.080mm的R面。
用于记录介质玻璃基底以及

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