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[发明专利]滑动构件及包覆膜-CN201880040572.9有效
发明人：冈崎孝弘;伊东义洋;杉浦宏幸;金泽信哉;森口秀树;柴田明宣;大城竹彦 -专利权人：日本活塞环株式会社;日本ITF株式会社
申请日： 2018-06-15 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明的课题是提供具有示出一定且稳定的抗削性和耐磨损性、并且耐剥离性(密合性)优异的包覆膜的滑动构件、及该包覆膜。其解决方法是滑动构件(10)，其在基材(11)的滑动面(16)具有由硬质碳层形成的包覆膜(1)，上述包覆膜(1)如下所述地构成：通过明视野TEM图像观察包覆膜(1)的剖面时，包含相对地由黑色表示的黑色硬质碳层(B)和相对地由白色表示的白色硬质碳层(W)的重复单元在厚度方向上层叠，且具有1μm～50μm的范围内的厚度，包覆膜(1)具有设置于基材侧的倾斜区域(2)和设置于滑动构件(10)的表面侧的均质区域(3)，在上述倾斜区域(2)，重复单元中的白色硬质碳层(W)的厚度在厚度方向上逐渐变大，在上述均质区域(3)，重复单元中的白色硬质碳层(W)的厚度在厚度方向上相同或大致相同，从而解决了上述问题。
滑动构件包覆膜

[发明专利]被覆膜与其制造方法、PVD装置及活塞环-CN201680073541.4有效
发明人：森口秀树;柴田明宣;大城竹彦;伊东义洋;冈崎孝弘;杉浦宏幸 -专利权人：日本ITF株式会社;日本活塞环株式会社
申请日： 2016-12-16 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：提供一种技术，其为PVD法，却可将耐久性优异的厚膜的硬质碳膜成膜，并且可使经成膜的硬质碳膜的耐碎片性与耐磨损性并存，并且可改善低摩擦性与耐剥离性。一种被覆膜，其为被覆于基材的表面上的被覆膜，且在利用明视场TEM图像观察截面时，在厚度方向上交替层叠有相对地以白显示的白色的硬质碳层、与以黑显示的黑色的硬质碳层且具有超过1μm且50μm以下的总膜厚，并且白色的硬质碳层具有在厚度方向上呈扇状成长的区域。一种被覆膜的制造方法，其为使用PVD法在基材的表面上将所述被覆膜成膜的制造方法。一种PVD装置，其为所述的被覆膜的制造方法中使用的电弧式物理气相沉积装置。一种活塞环，其至少在外周滑动面上具有所述的被覆膜。
被覆与其制造方法 pvd 装置活塞环

[发明专利]被覆膜及其制造方法-CN201480082001.3有效
发明人：森口秀树;斋藤乔士;田中祥和;柴田明宣;荒樋彻美;小川胜明;冈崎孝弘;杉浦宏幸;伊东义洋 -专利权人：日本ITF株式会社;日本活塞环株式会社
申请日： 2014-09-17 - 公布日： 2020-07-28 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明提供一种不仅充分地改善低摩擦性与耐磨损性的并存且改善耐碎片性或耐剥离性的被覆膜及其制造方法以及PVD装置。一种被覆膜，被覆在基材的表面上，且具有在通过明视场TEM图像对截面进行观察时相对地以黑白显示的硬质碳，白色的硬质碳在厚度方向上相连成网格状、黑色的硬质碳分散在网格的间隙中的网格状硬质碳层是使用PVD法而形成，在利用拉曼分光法对网格状硬质碳层进行测定时，拉曼分光光谱的D频带与G频带的波峰的面积强度比ID/IG比为1～6。本发明使用电弧式PVD法，以将基材温度维持于超过200℃且为300℃以下的方式控制偏向电压、电弧电流、加热器温度等，并且一面使基材自转和/或公转一面在基材的表面上被覆硬质碳膜。
被覆及其制造方法

[发明专利]被覆膜及其制造方法以及PVD装置-CN201480082002.8有效
发明人：森口秀树;斋藤乔士;田中祥和;荒樋彻美;小川胜明;冈崎孝弘;杉浦宏幸;伊东义洋 -专利权人：日本ITF株式会社;日本活塞环株式会社
申请日： 2014-09-17 - 公布日： 2019-10-01 - 主分类号： C23C14/06 文献下载
摘要：本发明提供一种不仅充分地改善低摩擦性与耐磨损性的并存而且也改善耐碎片性(耐缺损性)或耐剥离性的被覆膜及其制造方法以及PVD装置。一种被覆膜，被覆在基材的表面上，并且形成有在通过明视场TEM图像对截面进行观察时在相对于基材垂直的方向上相连呈柱状的硬质碳层，硬质碳层是使用PVD法而形成，在利用拉曼分光法对硬质碳层进行测定时，拉曼分光光谱的D频带与G频带的波峰的面积强度比ID/IG比为1～6。本发明的被覆膜的制造方法及装置使用电弧式PVD法，以将基材温度维持于250℃～400℃的方式控制偏向电压、电弧电流、加热器温度和/或炉内压力，并且一面使基材自转和/或公转一面在基材的表面上被覆硬质碳膜。
被覆及其制造方法以及 pvd 装置