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[发明专利]有机聚硅氧烷和含有其的化妆料-CN202280014205.8在审
发明人： 今井太郎;宫内大;小西将幸 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2022-02-02 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C08G77/14 文献下载
摘要：在具有长链烷基、甘油基和分支链的有机硅基的、烷基‑甘油共改性分支状有机聚硅氧烷(在有机硅主链中有机硅链和烷基链分支的聚甘油改性有机硅)中限定了具有长链烷基的硅氧烷单元、具有甘油基的硅氧烷单元、具有分支链的有机硅基的硅氧烷单元的比例、有机聚硅氧烷的链长、硅氧烷单元的比率、长链烷基量、甘油基量的有机硅氧烷在含有粉体的组合物中配混的情况下分散性和分散稳定性良好，在化妆料中配混的情况下，即使含有油溶性紫外线吸收剂，也得到历时稳定性优异、同时铺展、肌肤亲和性良好的化妆料。
有机聚硅氧烷含有化妆

[发明专利]二嵌段共聚物、二嵌段共聚物的制造方法和二嵌段共聚物的用途-CN202180044086.6在审
发明人： 今井太郎;秦龙之介 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2021-05-11 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C08F293/00 文献下载
摘要：本发明提供赋予分散性、流动性和经时稳定性优异的分散体的用于粉体的表面处理剂、和包含通过该用于粉体的表面处理剂所处理的粉体的分散体。一种二嵌段共聚物，所述二嵌段共聚物由以式[I]表示的有机硅接枝共聚物嵌段和以式[II]表示的极性共聚物嵌段构成主链，主链一端的末端结构为以式[III]表示的结构，主链另一端的末端结构为以式[IV]表示的结构。(在式中，R1表示为氢原子或甲基，A表示为含有有机聚硅氧烷的基团，n1表示为1≤n1≤50，B表示为具有极性基团的碳原子数为1～20的一价烃基、氨基或羟基，n2表示为1≤n2≤50，R6表示为碳原子数为1～4的烷基，R7相互独立地表示为氢原子或碳原子数为1～4的烷基，X表示为以式[I]中的A或式[II]中的B表示的基团)。
二嵌段共聚物制造方法用途

[发明专利]乳化剂和含有乳化剂的乳化组合物-CN202180036045.2在审
发明人： 今井太郎 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2021-05-11 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： C09K23/54 文献下载
摘要：本发明提供一种在大范围的乳化组合中表现出高保存稳定性，且具有优异的乳化性能的乳化剂和含有该乳化剂的乳化组合物。一种包含二嵌段共聚物的乳化剂，所述二嵌段共聚物由以式[I]表示的有机硅接枝共聚物嵌段和以式[II]表示的极性共聚物嵌段构成主链，主链一端的末端结构为以式[III]表示的结构，另一端的末端结构为以式[IV]表示的结构。(在式中，R1表示为氢原子或甲基，A表示为含有有机聚硅氧烷的基团，n1表示为1≤n1≤50，B表示为具有极性基团的碳原子数为1～20的一价烃基、氨基或羟基，n2表示为1≤n2≤50，R6表示为碳原子数为1～4的烷基，R7相互独立地表示为氢原子或碳原子数为1～4的烷基，X表示为以式[I]中的A或式[II]中的B表示的基团)。
乳化剂含有乳化组合