专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]保护图形的形成方法-CN200710141631.5有效
  • 北村和宪;佐藤清;井上荣一 - 山荣化学株式会社
  • 2007-08-17 - 2008-02-20 - G03F1/14
  • 提供可以以短时间进行阻焊材料的曝光,而且可以使用与以往相同的阻焊材料利用激光进行曝光的保护图形的形成方法。在印刷配线板3上形成表面被遮盖膜6覆盖的紫外线感光性的阻焊膜7,在阻焊膜7的上方形成遮蔽紫外线且可见光感光性的保护膜8,利用可见光激光10进行曝光,在保护膜8上使保护图形11曝光,用水显像而形成是保护膜8的固化膜、由保护图形11产生的掩膜图形,接着,利用紫外线,以上述掩膜图形作为掩膜,在阻焊膜7上使阻焊膜5曝光,用弱碱显像液进行显像,在印刷配线板3上形成由阻焊膜7的固化膜产生的阻焊图形5。
  • 保护图形形成方法

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