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- [发明专利]半导体装置-CN201210201462.0有效
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大鹤雄三;武田安弘;杉原茂行;井上慎也
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半导体元件工业有限责任公司
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2012-06-15
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2012-12-26
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H01L27/02
- 一种半导体装置,即使在以包围与指形状的源电极、漏电极连接的各N+型源极层、N+型漏极层的方式构成P+型接触层的情况下,在施加浪涌电压时各指部的寄生双极晶体管也均匀地接通。以包围互相平行延伸的多个N+型源极层(9)、N+型漏极层(8)的方式形成P+型接触层(10)。在N+型源极层(9)上、N+型漏极层(8)上及向与N+型源极层(9)延伸的方向垂直的方向延伸的P+型接触层(10)上分别形成金属硅化物层(9a、8a、10a)。经由形成于在金属硅化物层(9a、8a、10a)上堆积的层间绝缘膜(13)的接触孔(14),形成与该各金属硅化物层连接的指形状的源电极(15)、漏电极(16)及包围该指形状的各电极的P+型接触电极(17)。
- 半导体装置
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