专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体装置-CN201210201462.0有效
  • 大鹤雄三;武田安弘;杉原茂行;井上慎也 - 半导体元件工业有限责任公司
  • 2012-06-15 - 2012-12-26 - H01L27/02
  • 一种半导体装置,即使在以包围与指形状的源电极、漏电极连接的各N+型源极层、N+型漏极层的方式构成P+型接触层的情况下,在施加浪涌电压时各指部的寄生双极晶体管也均匀地接通。以包围互相平行延伸的多个N+型源极层(9)、N+型漏极层(8)的方式形成P+型接触层(10)。在N+型源极层(9)上、N+型漏极层(8)上及向与N+型源极层(9)延伸的方向垂直的方向延伸的P+型接触层(10)上分别形成金属硅化物层(9a、8a、10a)。经由形成于在金属硅化物层(9a、8a、10a)上堆积的层间绝缘膜(13)的接触孔(14),形成与该各金属硅化物层连接的指形状的源电极(15)、漏电极(16)及包围该指形状的各电极的P+型接触电极(17)。
  • 半导体装置

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