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- [发明专利]硅片传输系统及方法-CN201811580631.X有效
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王刚
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上海微电子装备(集团)股份有限公司
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2018-12-24
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2023-09-29
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H01L21/677
- 本发明公开了一种硅片传输系统及方法,该硅片传输系统用于在片库、预处理机构和工件台之间传输硅片,该硅片传输系统包括:旋转机械手、垂直交接手和直线交接手,旋转机械手被配置为能够从片库取待预对准的硅片传送至预处理机构,旋转机械手还能够从直线交接手取检测完的硅片传送至片库;垂直交接手被配置为能够从工件台上方取检测完的硅片;直线交接手被配置为能够从预处理机构取完成预对准的待检测硅片至工件台,并从垂直交接手取检测完的硅片传送至旋转机械手。上述硅片传输系统能够节省硅片传输时间,提高硅片传输产率,能够与高速工件台、大视场镜头、双工件台等工况匹配,提高光刻机/检测机产率。相应地,本发明还提供一种硅片传输方法。
- 硅片传输系统方法
- [发明专利]一种掩膜张网焊接设备-CN202110172509.4有效
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孙启峰;张洪博;黄正隆
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上海微电子装备(集团)股份有限公司
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2021-02-08
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2023-08-15
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B23K26/21
- 本发明实施例公开了一种掩膜张网焊接设备,该焊接设备包括:框架,用于承载掩膜版,掩膜版包括相对的第一侧和第二侧以及相对的第三侧和第四侧;夹持拉伸装置,用于夹紧掩膜版的第一侧和第二侧,并带动掩膜版的第一侧和第二侧相向或相背运动;柔性圧触装置,柔性压触装置包括柔性压杆组件,且柔性压杆组件在第一方向、第二方向和第三方向均具备自由度,用于贴合掩膜版以将其第三侧和第四侧与框架压紧,第一方向平行于掩膜版的第一侧,第二方向平行于掩膜版的第三侧,第三方向垂直于掩膜版;激光器,用于将掩膜版焊接在框架上。本发明实施例中,掩膜版被柔性圧触装置圧触在框架上再焊接,可提高焊接过程中掩膜拉应力稳定性,提高焊接质量。
- 一种掩膜张网焊接设备
- [发明专利]一种清洁装置及曝光方法-CN201911174594.7有效
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赵文波;赵乾伟;闫法领
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上海微电子装备(集团)股份有限公司
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2019-11-26
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2023-07-25
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G03F7/20
- 本发明涉及光刻设备技术领域,公开一种清洁装置及曝光方法。所述清洁装置包括安装架、清洁石组件和快拆组件,清洁石组件用于清洁待清洁物,快拆组件可转动地设置于安装架上,清洁石组件与快拆组件可拆卸连接。通过转动快拆组件,进而带动清洁石组件转动,从而达到清洁待清洁物的目的。其中,快拆组件具有第一位置和第二位置,当快拆组件位于第一位置时,清洁石组件能够从快拆组件上拆卸,便于更换清洁石组件;当快拆组件位于第二位置时,清洁石组件能够限位于快拆组件上,以保证清洁石组件的正常使用。本发明中的快拆组件的设置,可实现清洁石组件快速地更换,使得该清洁装置在更换清洁石组件时更简单、快捷,提高了清洁效率。
- 一种清洁装置曝光方法
- [发明专利]一种硅片交接装置-CN202010258398.4有效
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张雯
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上海微电子装备(集团)股份有限公司
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2020-04-03
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2023-06-02
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H01L21/677
- 本发明涉及光刻设备技术领域,公开了一种硅片交接装置,包括接片装置和驱动件,驱动件用于驱动接片装置靠近硅片以吸附硅片;接片装置包括接片板、柔性机构和接片手,接片板与驱动件传动连接,柔性机构设置在接片板上,多个接片手安装在柔性机构上且与接片板间隔设置,当接片手受到向下的作用力时,柔性机构在垂向发生形变,接片手能够垂向向下运动。若多个接片手的吸附端所在平面与硅片存在倾角时,最先与硅片接触的接片手受到来自硅片垂向向下的作用力,接片手向下运动,接片板继续提升其余接片手向上运动,直至所有的接片手均与硅片接触并吸附硅片位置,从而能够保证硅片传输过程中的抗干扰性,提高硅片交接装置的可靠性。
- 一种硅片交接装置
- [发明专利]键合头、键合设备和键合方法-CN202010130971.3有效
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郭耸;朱鸷
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上海微电子装备(集团)股份有限公司
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2020-02-28
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2023-05-30
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H01L21/67
- 本发明公开了一种键合头、键合设备和键合方法。该键合头包括至少一个键合头组件;键合头组件包括压头、加压电极和压力检测单元,压头包括压电材料,压头用于压合芯片,加压电极与压头连接,加压电极用于为压头提供交流电压,以使压头在压合方向上产生变形,压力检测单元用于在芯片键合时检测压头对芯片的压力。通过调节加压电极为压头提供交流电压的大小可以调节压头压合芯片的压力,并通过压力检测单元检测压头对芯片的压力,从而可以降低键合头的成本,减小了键合头的质量和体积,有利于提高键合设备的产率和键合精度。而且,键合头组件的体积减小,可以有利于实现多个芯片的批量键合,提高键合设备的键合效率。
- 键合头设备方法
- [发明专利]一种片库装置-CN202011051862.9有效
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刘凯
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上海微电子装备(集团)股份有限公司
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2020-09-29
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2023-05-30
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G03F7/20
- 本发明公开了一种片库装置,其属于光刻机技术领域,片库装置包括机架、片盒和罩壳,机架具有容置腔,所述容置腔的一侧具有供取片的第一开口;片盒设置于所述容置腔内;罩壳设置于所述容置腔内且罩设于所述片盒的外侧,所述罩壳具有第二开口,所述罩壳能够绕第一轴线相对于所述机架转动以使所述第二开口朝向所述第一开口以使所述片盒能被存取。罩壳转动打开和关闭时占用空间较小,罩壳不仅可以对片盒进行密封,也能够防止外部的污染物进入光刻机内部,同时能够防止光刻机曝光时激光泄露。
- 一种装置
- [发明专利]一种套刻误差测量装置及测量方法-CN201911189360.X有效
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许翱鹏;周钰颖
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上海微电子装备(集团)股份有限公司
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2019-11-28
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2023-05-02
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G03F7/20
- 本发明实施例公开了一种套刻误差测量装置及测量方法。装置包括光源、光束传输模块、镜头及测量模块;测量模块包括第一成像单元、第二成像单元及处理单元;光源提供照明光束;光束传输模块将照明光束传输至镜头;接收待测物体衍射并经镜头透射后的信号光束并分束成第一信号光束和第二信号光束;第一信号光束包括待测物体的负级次衍射光,第二信号光束包括正级次衍射光,第一信号光束传输至第一成像单元,第二信号光束传输至第二成像单元;处理单元根据第一成像单元和第二成像单元获取的信号计算待测物体的套刻误差。本发明实施例的技术方案,可同时测量套刻标记的正/负级次衍射光,无需进行光阑切换,提高套刻误差测量效率,提高产率。
- 一种误差测量装置测量方法
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