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[发明专利]一种柔性印版曝光温控结构-CN202310843669.6在审
发明人：丁甦勇;刘后来 -专利权人：荣冠达科技（深圳）有限公司
申请日： 2023-07-11 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请涉及印刷技术领域，尤其是涉及一种柔性印版曝光温控结构，包括相对密闭的外壳和控制器以及安装于外壳内的支撑架、光源组件、吸取印版的吸取组件和检测温度的温度组件；光源组件与外壳连接；温度组件与外壳滑移连接；吸取组件与支撑架转动连接，吸取组件位于光源组件与温度组件之间；外壳内安装有驱动组件；吸取组件具有负压部；支撑架上安装有均流件，均流件具有平衡气流的效果；控制器用于接收温度信号以及控制光源组件、驱动组件和均流件的工作状态，光源组件、温度组件、均流件和驱动组件分别与控制器电连接。采用上述方案,能够改善现有柔性印版曝光设备曝光印版时，印版受热不均匀，导致曝光不均匀以及图案或文字不清晰的问题。
一种柔性曝光温控结构

[发明专利]一种光刻机微反射镜阵列角位置计算方法-CN202310585227.6在审
发明人：黄振鑫 -专利权人：上海镭望光学科技有限公司
申请日： 2023-05-23 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请提供一种光刻机微反射镜阵列角位置计算方法，包括步骤：设置光瞳面与微反射镜阵列之间的位置约束条件，并基于位置约束条件设置微反射镜提取约束条件；根据提取半径和提取角度提取光瞳面上的光瞳点，并以象限为规则将提取的光瞳点归类至对应象限的光瞳面队列；提取半径和提取角度提取微反射镜阵列上的各微反射镜，并以象限为规则将提取的微反射镜归类至对应象限的微反射镜队列；将光瞳面队列与微反射镜队列进行赋值运算，根据赋值运算确定光瞳点对应角位置分布的微反射镜在微反射镜阵列上的角位置，微反射镜在微反射镜阵列上的角位置使其反射的光束经偏振转换组件入射至光瞳面后出射的光束满足远心度和偏振均匀性的要求。
一种光刻反射阵列位置计算方法

[发明专利]用于OCD计量的方法-CN202310858234.9在审
发明人：艾坦·A·罗思坦;金涌河;利娅·布比诺维奇;阿里耶尔·布罗伊特曼;奥尔加·克拉斯尼科夫;巴瑞克·布兰欧利兹 -专利权人：诺威有限公司
申请日： 2021-01-07 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种用于OCD计量的方法，包括接收用于训练OCD机器学习(ML)模型的训练数据，包括多对相应的散射数据集和参考参数集。对于每一对，无论给定对是否是离群对，都计算一个或多个相应的离群度量，并应用相应的离群阈值。然后用训练数据减去离群对，对OCD ML模型进行训练。
用于 ocd 计量方法

[发明专利]受引导的图案化装置的检查-CN201980014812.2有效
发明人： A·B·范奥斯滕;V·韦恩卡特森;J·N·威利;R·T·普拉齐 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2019-02-19 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本文中描述了一种用于图案化装置的检查的方法。该方法包括：获取(i)图案化装置制造工艺的图案化装置设备数据，(ii)基于图案化装置设备数据的图案化装置衬底图，以及(iii)基于图案化装置衬底图的、经预测的与图案化装置相对应的工艺窗口限制的图案位置；以及由硬件计算机系统基于工艺窗口限制的图案位置将图案化装置检查设备引导到工艺窗口限制的图案位置以进行缺陷检查。
引导图案化装检查

[发明专利]一种用于浸没式光刻机的浸液供给回收装置-CN202010055155.0有效
发明人：付新;李威锋;吴敏;苏芮;胡亮 -专利权人：浙江大学;浙江启尔机电技术有限公司
申请日： 2020-01-17 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于浸没式光刻机的浸液供给回收装置。所述装置具有第一抽排开口和第二抽排开口，使大部分浸液经第一抽排开口被抽吸，大部分密封气体经第二抽排开口被抽吸，使第一抽排开口和第二抽排开口中都具有较稳定的气液比例和流型；抽排开口和注气开口之间设置缓冲腔，使弯液面在向外运动时压缩缓冲腔；缓冲腔受压缩后会增强气密封压力，提高气密封对弯液面的约束效果。
一种用于浸没光刻浸液供给回收装置

[发明专利]套刻精度的控制方法和装置-CN202011101233.2有效
发明人：周晓方;章杏 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2020-10-15 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请实施例提供一种套刻精度的控制方法和装置，在确定当前层的套刻误差补偿值之前，先判断当前层是否存在相似层，其中，当前层和相似层均相对于同一基准层对准，且二者的套刻精度要求均相对于基准层；如果当前层存在相似层，则根据当前批次晶圆在相似层的套刻误差值，和/或之前批次晶圆在相似层的套刻误差值，确定当前批次晶圆在当前层的套刻误差补偿值；利用当前批次晶圆在当前层的套刻误差补偿值对当前批次晶圆的当前层进行光刻工艺。该方法能够将当前批次晶圆，和/或之前批次晶圆在相似层的套刻误差值作为参考数据进而丰富了参考数据，提高了套刻误差补偿值的准确度。
精度控制方法装置

[发明专利]一种卷对卷双面数字化激光直写曝光机及曝光对位方法-CN202110763479.4有效
发明人：白国梁;梅文辉;汪孝军;罗覃东;洪俊辉;麻秀芝 -专利权人：杭州新诺微电子有限公司
申请日： 2021-07-06 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种卷对卷双面数字化激光直写曝光机及曝光对位方法，方法包括：首次曝光时：标定三组对位相机的位置；捕捉曝光卷料边缘并确定三组标记点，通过三组标记点的坐标获取偏移角度和曝光区域；根据偏移角度和曝光区域进行曝光；标记两颗Mark点；第二次曝光时：重新标定三组对位相机的位置；捕捉上一次曝光标记的两颗Mark点并进行校对；捕捉曝光卷料其中一侧边的边缘并确定两组标记点，通过两组标记点和两颗Mark点的坐标获取偏移角度和曝光区域；比较偏移角度与可调角度和极限角度以确定曝光图形的偏转角度；根据偏转角度和曝光区域进行曝光操作；标记新的两组Mark点；后续曝光时重复第二次曝光时的步骤。本发明可实现对曝光卷料进行精确连续曝光。
一种双面数字化激光曝光对位方法

[发明专利]微光刻投射曝光设备-CN202010074574.9有效
发明人： B.克莱因 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2020-01-22 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：微光刻投射曝光设备(10；110)被配置为在曝光过程期间在扫描方向(28)上移动基板台(26)，并且包括：投射镜头(30)，用于在曝光过程期间将掩模结构成像到基板(24)上，具有操纵装置(36)，该操纵装置(36)被配置为在至少两个方向上彼此独立地改变投射镜头的成像比例；以及控制设备(46)，被配置为通过在扫描方向上和横向于扫描方向对操纵装置进行适当控制，来对成像比例执行不同的校正。
微光投射曝光设备

[实用新型]一种用于双面同时曝光机的升降片钉机构-CN202320341936.5有效
发明人：陈宁 -专利权人：深圳市研宝工业科技有限公司
申请日： 2023-02-28 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于双面同时曝光机的升降片钉机构，包括机构安装板，机构安装板上设置有片钉组件、压板固定杆和压板升降组件，压板固定杆两端为压板连接部和升降调节部，压板连接部上连接设置有压板，压板升降组件包括升降驱动装置和升降驱动块，升降调节部上设置有两组凸台。有益效果为：有效解决现有技术片钉结构在长时间使用出现压板压覆力度不够，导致在加工过程中PCB板在压板和片钉之间晃动影响加工准确性的问题，通过采用该结构，升降驱动装置驱动升降驱动块，根据升降驱动块不同的运动方向，两组凸台分别与升降驱动块抵接，从而实现对压板固定杆的定位固定，能够有效的降低了PCB板对位过程晃动的可能，提高了对位精度和加工效率。
一种用于双面同时曝光升降机构

[实用新型]一种玻璃制作支撑稳定框架-CN202321198203.7有效
发明人：刘二利;顾东波;王雷 -专利权人：汕尾翰博士柔性光电子技术有限公司
申请日： 2023-05-18 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及显示玻璃制作技术领域，具体为一种玻璃制作支撑稳定框架，包括曝光机玻璃台、亚克力定位框、玻璃原材以及曝光菲林，所述曝光机玻璃台上放置有亚克力定位框，所述亚克力定位框以玻璃原材外形尺寸进行镭射镂空，并在镂空槽内周壁上设置有缺口，所述玻璃原材卡设在亚克力定位框中，且玻璃原材的表面贴附有曝光菲林；本实用新型通过使用经镭射镂空的亚克力定位框，用于固定ito玻璃和曝光菲林，可以降低曝光对位时间，减小对位偏差，提高生产效率和制程精度，具有较低的成本和较简单的实现方式。
一种玻璃制作支撑稳定框架

[实用新型]一种PIN针自动修正式卷对卷曝光机-CN202321310886.0有效
发明人：刘保华;徐小龙;管燕彬 -专利权人：昆山建高远自动化科技有限公司
申请日： 2023-05-28 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种PIN针自动修正式卷对卷曝光机，包括支架、上框、下框、曝光机构，支架上安装有水平拉料器和张力器，支架表面中部设有安装台，上框上表面安装有上气缸，上气缸与安装台连接，且上框内部安装有上玻璃片，下框，下框下表面设有下气缸；下气缸与支架连接，且下框内部安装有下玻璃片，下玻璃片表面安装有四组PIN针，PIN针对料带进行定位，PIN针受到下气缸的控制而上移，使得PIN针插进料带表面的定位孔中，可以对偏移的料带进行修正，使得料带与曝光机构精准对齐，提高料带曝光精度，对于料带自动放料、曝光、自动收料，均不需要人工参与，自动化程度高，减少人为因素导致产品不良。
一种 pin 自动修正曝光

[发明专利]光学系统，特别是用于EUV光刻-CN202280016218.9在审
发明人： T·席克坦茨;T·格鲁纳;M·施瓦布;J·哈吉斯 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2022-01-17 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明关于一光学系统，特别是用于EUV光刻的光学系统，包含：用于使用照明辐射来照明一照明表面的照明源、用于照明辐射的空间分辨检测的具有检测表面(36)的检测器(35)、构造为将照明表面成像到检测表面(36)上的投射系统、以及构造为基于检测表面(36)处的照明辐射的强度(I)来推断在照明表面和检测表面(36)之间的射束路径(29)中的光学元件(M6)上的污染物(36)的评估装置(37)。光学系统配置为设定从照明表面传递到检测表面(36)的照明辐射的不同角度分布，且评估装置(37)构造为基于针对不同角度分布的检测表面(36)上的照明辐射强度(I)，推断出光学元件(M6)上的污染物，特别是污染物在光学元件(M6)上的位置。
光学系统特别是用于 euv 光刻

[发明专利]一种针对晶圆的曝光方法及曝光装置-CN202310872926.9在审
发明人：李显杰;钱文欢;袁征;钱聪 -专利权人：江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-07-14 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种针对晶圆的曝光方法及曝光装置，属于半导体领域。所述方法通过利用多边形交叠算法计算出待曝光的晶圆图形同每个条带相交的最高点和最低点，进而确定每个条带需曝光的块的个数，进而使得聚焦位置能够沿着圆形边缘移动，只对需曝光的部分进行曝光，针对晶圆图形的曝光产能将提升20～30％。
一种针对曝光方法装置

[发明专利]外围切割道曝光区域面积确定方法-CN202310937511.5在审
发明人：郭海玲 -专利权人：长鑫科技集团股份有限公司
申请日： 2023-07-26 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开提供了一种外围切割道曝光区域面积确定方法，涉及半导体技术领域。方法包括：调取脚本数据库，脚本数据库包括切割道标记的摆放规则和切割道标记的数量；根据切割道标记的摆放规则和切割道标记的数量，将至少一个切割道标记摆放到外围切割道，外围切割道包括位于外侧的呈环状的第一外围切割道；获取与第一外围切割道相对应的填充层，并通过填充层填充第一外围切割道除切割道标记所在区域外的其他区域，得到第一掩膜层，第一掩膜层为第一外围切割道用填充层填充的区域；利用第一掩膜层进行曝光操作，得到外围切割道的曝光区域。本公开可以解决人工摆放mark有重叠以及mark漏更新的问题。
外围切割曝光区域面积确定方法

[发明专利]一种液晶光控任意取向打印系统及其打印方法-CN202310731277.0在审
发明人：韦齐和;江淼;朱佑阳;员海;马钟杰;陈浩;蒋松旭 -专利权人：南方科技大学
申请日： 2023-06-19 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种液晶光控任意取向打印系统及其打印方法，系统包括：光源模块、空间光调制器、投影曝光组件以及精密位移台；空间光调制器对光源模块产生的激光光束进行调控，得到携带预设偏振信息的偏振光；精密位移台将待打印区域移动至曝光区域；投影曝光组件将偏振光照射到待打印区域，以在待打印区域打印取向化图案。本发明采用光配像原理控制液晶分子取向实现液晶聚合物薄膜图案化打印，通过一次曝光即可实现取向化图案的打印，以空间光调制器作为动态掩膜版，可以快速更换打印图案，提高打印效率，降低打印成本，通过精密位移台将待打印区域移动到曝光区域，能够实现多幅取向化图案的连续打印，适用于大面积液晶聚合物薄膜的取向化制备。
一种液晶光控任意取向打印系统及其方法