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[发明专利]曝光机-CN202310889583.7在审
发明人：程强;项宗齐;汪涛 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-07-19 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光机，包括：壳体、驱动系统、吸附系统、曝光系统和数据处理系统，壳体上设有容纳空间；驱动系统设于容纳空间内；吸附系统用于吸附基板，吸附系统设于驱动系统的自由端；曝光系统与基板相对设置，曝光系统设于驱动系统上；数据处理系统与驱动系统连接，数据处理系统用于控制驱动系统上吸附系统和曝光系统的相对位置以实现对于基板的曝光处理。这样，在曝光机的工作过程中，能够直接通过数据处理系统控制驱动系统的使用以实现对于基板曝光处理，能够在曝光机的结构中节省掩膜板的设置，从而简化曝光机的结构，降低曝光机的生产成本。
曝光

[发明专利]一种特别是用于微光刻的光学系统以及用于操作光学系统的方法-CN202310316088.7在审
发明人： C·沃尔克;B·莫泽 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2023-03-28 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光学系统，特别是用于微光刻的光学系统，以及一种用于操作光学系统的方法。根据本发明的光学系统包括用于生成多个光脉冲的激光光源和控制单元，控制单元被配置为将激光光源控制成使得，对于由激光光源生成的光脉冲序列，各连续光脉冲之间存在的时间周期在光脉冲序列上变化。
一种特别是用于微光光学系统以及操作方法

[发明专利]一种多工位陶瓷滤波器激光刻印机-CN202310865210.6在审
发明人：严菲菲;程亮 -专利权人：苏州砺宏电子设备有限公司
申请日： 2023-07-14 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种多工位陶瓷滤波器激光刻印机，包括光刻机机箱、输送机构、定位机构、限位机构，输送机构设置在光刻机机箱的顶端，输送机构包括振动盘、输送板，光刻机机箱的顶端固定安装有振动机，振动盘固定安装在振动机的顶端，定位机构设置在光刻机机箱的顶端，输送板固定安装在光刻机机箱靠近振动盘的顶端，输送板位于振动盘和定位机构之间，所述光刻机机箱靠近定位机构的顶端固定安装有光刻设备主体，本发明一种多工位陶瓷滤波器激光刻印机，通过顶杆和压杆能够对光刻时的硅片进行限位，从而使得硅片光刻更加稳定，同时通过弹簧可以对夹持的硅片进行缓冲，避免加持力过大对硅片造成损伤，并且可以实现对不同型号的硅片进行光刻。
一种多工位陶瓷滤波器激光刻印

[发明专利]光刻设备-CN202310893295.9在审
发明人：杨凯;戴晓霖;陈东;何少锋 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-07-19 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻设备，包括：控制系统、激光系统、成像系统和运动系统，所述激光系统与所述控制系统连通，所述激光系统用于提供光斑图案；所述成像系统与所述激光系统连接，根据所述光斑图案提供激光到指定位置；所述运动系统的一端与所述成像系统连接，所述运动系统的另一端与所述控制系统连接，所述运动系统用于承载基板并调整所述基板与所述成像系统的相对位置。这样，通过使用控制系统、激光系统、成像系统和运动系统构成光刻设备，在光刻设备的结构设计过程中，光刻设备内能够节省掩膜板的设计，以让光刻设备的结构得到简化，以实现数字化生产，且由于节省了掩膜板的设计使用，能够减低光刻设备的生产成本。
光刻设备

[发明专利]使用各自进行多次扫描的多个写入列来制作准确的光栅图案的系统和方法-CN201980040002.4有效
发明人： D·马克莱;黄·J·郑 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-05-31 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种用于产生光栅结构的光刻系统，这种光刻系统具有多列成像系统，多列成像系统位于能够在交叉扫描方向中移动的桥上；掩模，具有位于成像系统的物平面中的具有固定空间频率的光栅图案；多线对准标记，与光栅图案对准并且具有固定空间频率；工作台，配置成用以保持和扫描基板；扫描系统，配置成用以使工作台在大于基板上的光栅图案的期望长度的距离内移动；纵向编码器刻度，附接至工作台并且在扫描方向中定向，和至少两个编码器刻度，附接至工作台并且排列于交叉扫描方向中，其中刻度包含具有固定空间频率的周期性间隔开的对准标记。
使用各自进行多次扫描多个写入列制作准确光栅图案系统方法

[发明专利]全自动曝光系统-CN202310480838.4有效
发明人：王华;陈志特;何增灿;黄海浩 -专利权人：广东科视光学技术股份有限公司
申请日： 2023-04-28 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请涉及自动装载台曝光系统技术领域，尤其涉及一种全自动曝光系统，包括工作台、第一移载机构、第二移载机构、第一开合框装置、第二开合框装置以及曝光装置。工作台设置有第一上下料区、第二上下料区、第一曝光区和第二曝光区。通过一个曝光装置依次对不同位置曝光区处的待曝光件进行曝光，降低成本，保证产品的一致性。通过第一移载机构与第二移载机构分别对待曝光件进行移载，并且设置多个曝光区分别进行曝光，实现对待曝光件的高效移载、曝光，提高生产效率。在对待曝光件的运载过程中，既完成对装载台的移动，又完成对装载台的开框与合框，无需引入额外的动力以及复杂的结构，无需占用额外的开合框时间，提高生产效率。
全自动曝光系统

[实用新型]一种晶圆光刻设备-CN202321094699.3有效
发明人：郝让峰 -专利权人：厦门吉顺芯微电子有限公司
申请日： 2023-05-09 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及晶圆光刻技术领域，具体为一种晶圆光刻设备，包括工作箱，所述工作箱内置工作空腔，所述工作空腔底端设置定位座，所述定位座顶端设置定位装置，所述工作空腔顶端设置光刻机，所述定位装置包括蜗轮、蜗杆、定位柱以及定位块，所述定位座内置定位空腔，所述定位空腔顶端设置多组定位通孔，所述定位空腔底端与定位通孔对应位置设置定位槽，所述定位槽与定位通孔之间设置定位柱，所述定位柱分别与定位槽槽底以及定位通孔侧壁滑动连接，通过定位装置的设置，便于通过定位块的移动对晶圆进行夹持定位，从而使得晶圆与光刻机进行对齐，从而提升晶圆的光刻效果。
一种圆光设备

[发明专利]一种柔性印版曝光设备内灯管结构-CN202310842584.6在审
发明人：丁甦勇;刘后来 -专利权人：荣冠达科技（深圳）有限公司
申请日： 2023-07-11 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请涉及柔性印版的制造技术领域，尤其是涉及一种柔性印版曝光设备内灯管结构，其包括多条子灯条，所述子灯条的表面安装有至少一块光源板，所述光源板用于曝光；所述子灯条的两端分别设置有第一倾斜部以及第二倾斜部，相邻所述子灯条的第一倾斜部用于与第二倾斜部相配合。本申请具有提高曝光设备对柔性印版曝光的均匀性的效果。
一种柔性曝光设备灯管结构

[发明专利]一种柔性印版洗版设备热量输出结构-CN202310842589.9在审
发明人：丁甦勇;刘后来 -专利权人：荣冠达科技（深圳）有限公司
申请日： 2023-07-11 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请涉及一种柔性印版洗版设备热量输出结构，属于印刷制版技术领域，其包括：热量光照输出件，所述热量光照输出件用于对洗版物料本身进行热量输出，更优的，所述热量光照输出件在使用过程中用于对洗版物料与柔性印版抵接部位进行热量输出；以及热量罩，所述热量罩用于最大化热量光照输出件的热量输出以及部分残存热量的保留输出；所述热量光照输出件可拆卸式安装在热量罩底部。为了更好地应对洗版过程中最适宜洗版物料的温度区间问题，提高洗版物料在清洁柔性版过程中的效率，本申请提供一种柔性印版洗版设备热量输出结构。
一种柔性印版洗版设备热量输出结构

[发明专利]一种柔性印版均匀曝光设备-CN202310843549.6在审
发明人：丁甦勇;刘后来 -专利权人：荣冠达科技（深圳）有限公司
申请日： 2023-07-11 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请涉及曝光设备的技术领域，尤其是涉及一种柔性印版均匀曝光设备，其包括基座，基座包括外壳和置物容腔，外壳把置物容腔进行覆盖；曝光辊筒，曝光辊筒设置在置物容腔内，曝光辊筒的两端对应与外壳的两相对内侧壁进行转动连接，柔性印版卷绕铺设在曝光辊筒的表面；辊筒驱动机构，辊筒驱动机构安装在置物容腔内，辊筒驱动机构的输出端与曝光辊筒的一端相装配，辊筒驱动机构用于驱使曝光辊筒进行转动；定位机构，定位机构转动安装在置物容腔内，定位机构的一侧抵压在柔性印版的表面；紫外线灯，紫外线灯安装在曝光辊筒的一侧，紫外线灯对准曝光辊筒，可以提高柔性印版整体的曝光质量。
一种柔性均匀曝光设备

[发明专利]一种曝光光源装置及非接触式曝光设备-CN202310947535.9在审
发明人：谢淑俊;杨鹏;陈曦;邢吉文;薛峰 -专利权人：苏州天准科技股份有限公司
申请日： 2023-07-31 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种曝光光源装置及非接触式曝光设备，属于镀铜的图形化领域中曝光光源领域，装置包括光源安装架、驱动模组和光源，光源通过驱动模组转接至光源安装架上，驱动模组用于受控的按照设定路线驱动光源移动，光源用于提供平行出射的曝光光源；在光源的前方设置一个相机模组，用于定位和复查。通过本装置，可以实现曝光用光源的快速驱动和精确定位，保证了曝光设备的运行精度，便于在图形化的曝光领域推广应用。
一种曝光光源装置接触设备

[发明专利]自由形式畸变校正-CN202310822557.2在审
发明人：塔纳·科斯坤;托马斯·L·莱蒂格;建峰·陈 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在一些实施方式中提供了打印并处理层的方法和系统。所述层可以在晶片上或在应用面板上。之后，测量实际打印并处理的特征的位置。基于这些特征的测量差异与设计位置之间的差异，创建至少一个畸变模型。反演每个畸变模型以创建相应的校正模型。当有多个区段时，可以为每个区段创建畸变模型和校正模型。可以组合多个校正模型以创建全局校正模型。
自由形式畸变校正

[发明专利]一种掩膜支撑装置和非接触式曝光设备-CN202310947539.7在审
发明人：薛峰;邢吉文;杨鹏;谢淑俊;陈曦;曹葵康 -专利权人：苏州天准科技股份有限公司
申请日： 2023-07-31 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩膜支撑装置和非接触式曝光设备，属于掩膜版支撑定位领域或镀铜的图形化领域，掩膜支撑装置包括掩膜基座、载台侧边定位组件、掩膜载台和掩膜版；掩膜载台包括内设气道的载台体，在载台体的中部开设掩膜窗口；在载台体的侧边开设侧气孔，用于设置气阀；在载台体的底面开设多个底面定位孔，用于设置掩膜定位销；在载台体的底面还开设一个气槽孔和一个闭环气槽，气槽孔与闭环气槽和载台体的内设气道连通，用于抽真空吸附下方的掩膜版。通过本申请的掩膜支撑装置，可以快速更换掩膜版，并实现快速高精度的定位，便于在掩膜应用领域推广应用。
一种支撑装置接触曝光设备

[发明专利]产品上的叠加目标-CN202280016524.2在审
发明人： A·玛纳森;V·莱温斯基;I·多列夫;Y·于齐耶尔 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2022-01-07 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种产品，其包含半导体衬底，具有至少第一及第二薄膜层，所述薄膜层安置于所述衬底上，且被图案化以界定由切割道分隔且含有由所述切割道外切的有源区域的裸片的矩阵。多个叠加目标形成于所述有源区域中的每一者内的所述第一及第二薄膜层中，每一叠加目标在平行于所述衬底的平面中具有不大于10μm×10μm的尺寸。所述多个叠加目标包含形成于所述第一薄膜层中且具有第一光栅向量的第一线性光栅，及形成于所述第二薄膜层中、靠近所述第一线性光栅且具有平行于所述第一光栅向量的第二光栅向量的第二线性光栅。
产品叠加目标

[发明专利]一种水箱组件及光刻机浸液供给系统-CN202310911241.0在审
发明人：王鹏;李刚 -专利权人：世源科技工程有限公司;中国电子工程设计院有限公司
申请日： 2023-07-24 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及光刻机浸液供给技术领域，公开一种水箱组件及光刻机浸液供给系统，水箱组件包括:第一水箱和第二水箱，第二水箱位于第一水箱内，第一水箱的顶部具有溢流口，第二水箱的顶部具有浸液降流口，且第一水箱的溢流口高于第二水箱的浸液降流口；第一水箱的底部与浸液进液口连通，第二水箱的底部与浸液出液口连通。进入第一水箱内的浸液升流并分成两股水流，一股浸液在浸液降流口K1开始降流，进入第二水箱，另一股浸液经溢流口向第一水箱外溢流。浸液折返出流过程中，进行逆流式换热和温度补偿，温度控制精准、稳定，并减少细微气泡的产生，减少氧气等气体溶入，降低溶解氧、气泡、细菌、颗粒、有机物等二次污染，降低压力、温度、流量波动。
一种水箱组件光刻浸液供给系统