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- [发明专利]一种用于直写光刻设备的照明系统-CN202310850734.8在审
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张琦
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合肥芯碁微电子装备股份有限公司
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2023-07-11
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2023-10-20
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G03F7/20
- 本发明涉及直写光刻技术领域，具体公开了一种用于直写光刻设备的照明系统，包括LD空间合束光源，以及依次设置的第一偏振棱镜、准直透镜组、匀光器件、照明透镜组、转接反射镜、DMD微镜阵列。本发明提供的用于直写光刻设备的照明系统通过双棱镜结构将发光灯珠所出椭圆偏振光快慢轴拆分，形成快轴线偏振光和慢轴线偏振光，快轴线偏振光和慢轴线偏振光通过空间合束、偏振合束后，直接经过匀光系统调制成能量均匀的矩形光斑，投射到DMD微镜阵列表面。有效利用了LD线偏振光特性，提高了光学系统能量，结构合理、布局紧凑美观，解决了现有直写光刻设备大多使用光纤合束激光器作为光源，存在限制产能提高的问题，具有广阔的应用前景。
- 一种用于光刻设备照明系统
- [发明专利]图案描绘装置及图案描绘方法-CN202110922904.X有效
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加藤正纪;中山修一
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株式会社尼康
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2017-05-15
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2023-10-20
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G03F7/20
- 本发明的图案描绘装置(EX)具备：位置计测部(MU)，其计测应藉由多个描绘单元(Un)描绘的基板(P)上的被曝光区域的位置；第1调整构件(HVP)，其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案相对于被曝光区域的位置误差减少，而根据利用位置计测部(MU)计测出的位置对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中于第2方向上进行调整；及第2调整构件(AOM1)，其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案于第2方向上的接合误差减少，而对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中以高于第1调整构件(HVP)的响应性在第2方向上进行调整。
- 图案描绘装置方法
- [发明专利]一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统-CN201811206269.X有效
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张方德;钟靖;邬惠锋;谢桂平
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浙江欧珑电气有限公司
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2018-10-17
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2023-10-20
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G03F7/20
- 本发明提供了一种用于曝光机的混合波段扫描光源系统，其包括可与曝光台面构成滑移配合的光源，所述光源包括若干阵列设置的紫外LED灯组，其中紫外LED灯组包括灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D，所述灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D的波长均不相同，且所述紫外LED灯组以首行ABCD排列，第二行以BCDA排列，第三行以CDAB排列，第四行以DABC排列，每行以各自的排列方式循环设置，其构成以任意一灯珠为中心，其周向分布数量一致的灯珠A、灯珠B、灯珠C以及灯珠D，通过特殊的排列方式，使得最小的四边形的照射范围内，各个光源占的比例基本一致，从而实现不同波段的光源在移动时产生最均匀的光源，从而能实现同一光源不同波段的曝光要求。
- 一种用于曝光混合波段扫描光源系统
- [发明专利]一种具有辅助散热装置的光刻机-CN202211656660.6有效
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庄荣坤
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上海凯矜新材料科技有限公司
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2022-12-22
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2023-10-20
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G03F7/20
- 本发明公开了一种具有辅助散热装置的光刻机，包括光刻机和光刻机下方活动连接的散热柜，散热柜前方表面开设有散热窗，散热柜左右两侧开设有活性散热窗，活性散热窗包括有固定杆，固定杆固定连接于散热柜左右两壁内，固定杆内部设置有活动轴，活动轴表面活动连接有窗叶。该具有辅助散热装置的光刻机通过设置散热装置来对内部进行散热，通过内部的固定柱来进行对散热扇的固定，通过设置两个双轴电机为同步运转，来带动固定柱两边的扇轴与转动轴，扇叶的形状呈不规则形状，当转动时所带动的气流随着扇叶的形状吹出来，形成不规则的气流，从而带动光刻机内部的各方向气流，避免散热不完整出现散热死角。
- 一种具有辅助散热装置光刻
- [实用新型]一种局部曝光显影工装-CN202321362673.2有效
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王兴立;罗小华
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东莞市志兴电子五金有限公司
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2023-05-31
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2023-10-20
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G03F7/20
- 本实用新型公开了一种局部曝光显影工装，包括放置块，所述放置块设有用于放置异形产品的放置凹槽，所述放置块上方装设有用于将异形产品进行固定的固定块，所述固定块上开设有固定凹槽，所述放置块和固定块相互盖合；所述异形产品的顶部穿过固定凹槽，并位于固定块上部；所述固定块上部装设有用于将异形产品进行遮盖的菲林片，所述菲林片设有透明透光部分；所述透明透光部分与异形产品的顶部相对应，本实用新型提供一种局部曝光显影工装，使得异形产品可以批量快速装夹，定位精度高，可以对异形面进行精确的局部曝光显影，从而实现同一产品表面存在不同的表面显示效果。
- 一种局部曝光显影工装
- [实用新型]一种曝光机用升降工作台结构-CN202321023293.6有效
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官帅
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青岛彩硕图像有限公司
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2023-04-28
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2023-10-20
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G03F7/20
- 本实用新型涉及曝光机技术领域，且公开了一种曝光机用升降工作台结构，解决了目前工作台的高度一定导致曝光效果较差的问题，其包括底座，所述底座的顶部固定安装有U型架，U型架上安装有曝光设备，曝光设备的下方设有工作台，工作台的底部安装有升降机构，升降机构上安装有平移机构，升降机构包括位于底座上方的底板；本实用新型，通过U型杆和升降块以及内杆和U型框之间的配合，便于对工作台进行支撑并限位，并通过旋转盘一和双向丝杆以及滑套和滚轮一之间的配合，便于两个滑套移动，并通过驱动杆和安装板之间的配合，从而便于工作台进行升降，提高工作台上曝光材料的曝光效果。
- 一种曝光升降工作台结构
- [实用新型]光刻系统-CN202320295220.6有效
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赵家琦;严子深;赵鹏;李屹
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深圳光峰科技股份有限公司
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2023-02-14
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2023-10-20
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G03F7/20
- 本申请提供一种光刻系统，包括：可移动的运动台、投影光刻系统、干涉光刻系统以及控制器。投影光刻系统包括第一投影物镜，干涉光刻系统包括第二投影物镜以及第三投影物镜。控制器与投影光刻系统、干涉光刻系统以及运动台电连接。通过设置可移动的运动台承载基片，并在控制器的控制下带动基片移动，使得投影光刻系统以及干涉光刻系统能够在基片上的多个区域进行曝光，通过投影光刻系统和干涉光刻系统叠加曝光，即可在基片指定区域内光刻衍射波导结构，而基片指定区域外不存在衍射波导结构，提高了光波导制造的精度。
- 光刻系统
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