专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]曝光装置以及曝光方法-CN202211742610.X在审
  • 水端稔 - 株式会社斯库林集团
  • 2022-12-30 - 2023-09-12 - G03F7/20
  • 本发明的曝光装置以及曝光方法的目的在于,即使是没有形成对准标记的基板,也能够根据基板的形状适当地进行曝光。本发明的曝光装置具有:载物台,支撑处理对象的基板;曝光部,基于规定的曝光数据通过光束对基板的表面进行曝光并描画;移动机构,使载物台与曝光部相对移动;拍摄部,对被载物台支撑的未曝光的基板的边缘部进行拍摄;以及描画控制部,根据拍摄部的拍摄结果在多个部位检测基板的边缘位置,根据其检测结果,对光束入射到基板的入射位置进行控制。
  • 曝光装置以及方法
  • [发明专利]一种基于多排激光器的旋转成像设备以及激光成像方法-CN202210213240.4在审
  • 陈乃奇;金满军 - 深圳市先地图像科技有限公司
  • 2022-03-04 - 2023-09-12 - G03F7/20
  • 本发明实施例提供了一种基于多排激光器的旋转成像设备以及激光成像方法,用于提高激光成像的精度和效率。该设备可包括:加工平台、激光器位移平台以及控制器;其中,加工平台包含圆柱形壳体以及旋转驱动组件,圆柱形壳体在旋转驱动组件的驱动下绕圆柱轴线旋转;激光器位移平台设置在圆柱形壳体的外侧,其上设置有由多排激光器组成的激光器阵列以及横向移动组件;其中,同排激光器的出光孔沿横向直线分布,且横向直线与圆柱轴线平行,激光阵列中的各颗激光器在圆柱轴线上的相邻投影中心点之间的间距相等;横向移动组用于带动激光器阵列沿横向直线方向移动;控制器用于控制激光器阵列上的激光器对曝光面上的点选择性曝光。
  • 一种基于激光器旋转成像设备以及激光方法
  • [发明专利]一种光刻方法-CN202011563660.2有效
  • 吴敏;付婧媛;徐宁;陈文昱 - 浙江启尔机电技术有限公司
  • 2020-12-25 - 2023-09-12 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种光刻方法。本发明提供携带集成电路图案信息的激光束,使激光束穿过投影物镜后投射在具有多个曝光靶区的衬底上,激光束投射的目标区域为投影区;提供折射率大于空气的浸没液体,完全填充投影物镜与衬底之间的激光束经过的空间,形成浸没流场,浸没流场具有流场边界。本发明使浸没流场与尾迹中可能存在的残留液滴接触并融合,实现对尾迹中残留液滴的清扫和消除,从而降低残留液滴对衬底的污染风险,同时允许在曝光过程中使用更高的最大扫描速度,甚至可以采用高于弯液面破裂临界速度的最大扫描速度;有利于提高光刻机的产率和/或减少曝光缺陷的数量。
  • 一种光刻方法
  • [发明专利]一种半导体芯片生产用浸没式光刻机及其方法-CN201910744354.X有效
  • 郭志宏 - 大同新成新材料股份有限公司
  • 2019-08-13 - 2023-09-12 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种半导体芯片生产用浸没式光刻机及其方法,其一种半导体芯片生产用浸没式光刻机包括工作台,所述工作台的顶部固定安装有支撑架,所述支撑架的底部固定安装有探测头,所述工作台的顶部滑动连接有移动托盘,且移动托盘上固定连接有横向位置调节组件,所述工作台的顶部固定安装有顶部设置有开口的处理箱,所述处理箱的一侧转动铰接有密封门。本发明结构简单,可以机械化的对硅片进行清洗、烘干,无需人工操作,大大节省了人力,同时可以为满足对硅片的生产需要,同时可以对硅片的横向位置进行调节,使得此光刻机本体可以对不同硅片进行光刻,使用方便,具有较强的实用性。
  • 一种半导体芯片生产浸没光刻及其方法
  • [发明专利]套刻量测方法、半导体器件的制作方法-CN202111257832.8有效
  • 王海平;陈营 - 长江先进存储产业创新中心有限责任公司
  • 2021-10-27 - 2023-09-12 - G03F7/20
  • 本发明提供一种套刻量测方法、半导体器件的制作方法,包括:采用同一光罩,在第一层光刻工艺中在晶圆上形成阵列布置的多个第一标记,在第二层光刻工艺中在所述晶圆上形成阵列布置的多个第二标记,且所述第一标记与相对应的所述第二标记相互嵌套,通过获取相互嵌套的所述第一标记和所述第二标记的偏差值,以得到第一层和第二层的对准偏差。本发明针对第一层和第二层的结构相同的刻蚀工艺,采用相同的光罩,并分别在第一层和第二层刻蚀工艺依次在晶圆上形成多个第一标记和多个第二标记,利用第一标记和第二标记的相互嵌套,实现第一层和第二层对准的量测,解决了跨层的套刻量测问题,实现跨层光刻使用同一光罩,降低了光罩成本。
  • 套刻量测方法半导体器件制作方法
  • [发明专利]减少量测过程中光刻胶损伤的方法-CN202111408277.4有效
  • 曹爱;米琳;宁威;吴学 - 华虹半导体(无锡)有限公司
  • 2021-11-25 - 2023-09-12 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种减少量测过程中光刻胶损伤的方法,其包括以下步骤:步骤一,根据灵敏度和激光功率密度,形成不同模式的晶圆表面扫描方式;步骤二,在对应不同的偏振模式,形成多种扫描条件,然后对旋涂光刻胶的晶圆进行剂量试验;步骤三,同一个条件下一片晶圆的光刻胶重复扫描两次,并记录对应的Haze值,对比两次扫描后,最后得到每个条件的Haze变化值,Haze变化最小即为发生光刻胶损伤可能性最小,该条件为最佳扫描条件。本发明通过减少光刻胶对入射激光能量的吸收,从而降低激光对光刻胶的损伤。
  • 减少过程光刻损伤方法
  • [发明专利]光源衰减监测方法和装置、光源寿命测定方法和装置-CN202110690615.1有效
  • 郭超;金乐群;姚振海;姜冒泉;费志平;肖翔 - 华虹半导体(无锡)有限公司
  • 2021-06-22 - 2023-09-12 - G03F7/20
  • 本申请涉及半导体集成电路制造技术领域,具体涉及一种光源衰减监测方法和装置、光源寿命测定方法和装置。其中监测方法包括:获取n个预备晶片组,每个预备晶片组中包括m张晶片,其中n和m均为大于1的正整数;使用被测光源以第一光辐射能量,对n个预备晶片组,按照先后顺序依次进行曝光操作,确定对各个预备晶片组进行曝光操作的时刻为使用时间点;获取平均曝光各个预备晶片组中每张晶片的预备片曝光时长;确定由各个预备片曝光时长组成的预备片曝光时长变量,与由各个使用时间点组成的使用时间之间的对应关系。本申请可以解决相关技术中定时进行光源光辐照度测试,以确定该光源衰减的的方法费时费力,不利于机台产能的问题。
  • 光源衰减监测方法装置寿命测定
  • [发明专利]一种基于双柔性副的三自由度精密调节并联机构-CN201711337382.7有效
  • 付新;朱春;徐宁 - 浙江启尔机电技术有限公司
  • 2017-12-14 - 2023-09-12 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种基于双柔性副的三自由度精密调节并联机构。本发明包括三组以并联方式连接结构相同的运动支链,三组运动支链以浸没单元中心孔为中心圆周不均匀分布在浸没单元三个伸出端。所述的每组运动支链均包括直线运动组件、双柔性副连杆组件、机械防撞组件、Z向位移测量组件、重力补偿组件。本发明用以实现浸没式光刻机浸没单元的安装固定和空间位姿调节,实现浸没单元亚微米级定位;采用双柔性副,结构简单紧凑,具有无摩擦、不需润滑的优点;整体采用并联机构,刚度高、响应快、调节范围大,采用模块化设计装配,能用于浸没式光刻机以外其它场合下的三自由度精密调节。
  • 一种基于柔性自由度精密调节并联机构
  • [发明专利]一种用于浸没式光刻机的两级气液分离回收装置-CN201711338005.5有效
  • 付新;陈文昱;徐宁 - 浙江启尔机电技术有限公司
  • 2017-12-14 - 2023-09-12 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种用于浸没式光刻机的两级气液分离回收装置。本发明包括气液分离器、气液分离罐、液体流量控制器、气体和液体分离前的两相流回路、气体和液体分离后的排气回路、气体和液体分离后的排水回路;气液分离器与气体和液体分离前的两相流回路、气液分离罐上部入口相连,气液分离罐与气体和液体分离后的排气回路、液体流量控制器的入口相连,液体流量控制器、气液分离器合与气体和液体分离后的排水回路相连。本发明能够在负压抽吸的作用下对气液两相流实现连续的分离过程,并且较之前的解决方案在分离回收的效率和效果上均有明显的提升。同时避免了对系统负压造成的干扰,且能在故障条件下将系统内的气体和液体排出及时泄压。
  • 一种用于浸没光刻两级分离回收装置
  • [实用新型]一种LCD屏生产用的曝光装置-CN202320943603.X有效
  • 唐德通;李红艳;张喜欢 - 瑞金市德宇开智能科技有限公司
  • 2023-04-24 - 2023-09-12 - G03F7/20
  • 本实用新型涉及一种LCD屏生产用的曝光装置,包括曝光机,所述曝光机主要分为输送机、若干掩膜版和紫外线灯,所述输送机外框的顶端相对固定装设有第一支撑板和第二支撑板,所述第一支撑板与第二支撑板之间相对设有两个支撑架,所述紫外线灯水平设于两个支撑架之间,若干所述掩膜版呈圆周整列排布于紫外线灯的外周侧。本实用新型涉及LCD屏曝光装置的技术领域。本实用新型本改进型曝光机,通过支撑架与驱动组件相互配合由若干掩膜版的两端将若干掩膜版稳定的支撑限位在紫外线灯的外周侧,且不会影响若干掩膜版在紫外线灯外周侧的转动,几乎不会发生在曝光机装置长时间使用后掩膜版产生倾角影响曝光机使用的情况。
  • 一种lcd生产曝光装置
  • [发明专利]一种贵金属表面的新型全息图文信息光刻设备及其操作方法-CN202310687778.3在审
  • 余荫俊 - 深圳市传代金文化有限公司
  • 2023-06-12 - 2023-09-08 - G03F7/20
  • 本发明涉及贵金属光刻技术领域,且公开了一种贵金属表面的新型全息图文信息光刻设备及其操作方法,包括运输台,所述运输台的内部设置有夹持机构,所述夹持机构包括有双向电机、第二伸缩杆、滑动板、连接弹簧和抵接板,所述运输台的内部开设有矩形槽。该种贵金属表面的新型全息图文信息光刻设备及其操作方法,通过运输台的内部开设的矩形槽,在通过运输台的上表面固定安装的固定板,将固定板的底部固定安装的抵接块与双向电机的外表面抵接,双向电机的底部与矩形槽的内部固定连接,通过双向电机的动力,可以带动双向电机输出轴固定连接的第二伸缩杆伸缩,有效的解决了如何稳定加工的问题,可以达到在加工时不会产生晃动的效果。
  • 一种贵金属表面新型全息图文信息光刻设备及其操作方法

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