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- [发明专利]套刻误差的量测方法、其装置及光刻系统-CN202311051509.4在审
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杨学人
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合肥晶合集成电路股份有限公司
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2023-08-21
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2023-09-15
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G03F7/20
- 本发明提供了一种套刻误差的量测方法、其装置及光刻系统。该量测方法包括:获取半导体器件中第一材料层的第一图像和第二材料层的第二图像,其中,第一材料层和第二材料层中分别具有对位标记,第一图像中具有预设图形以及与第一材料层中对位标记对应的第一图形,第二图像中具有与第二材料层中对位标记对应的第二图形;确定第一图形在第一图像中的第一目标位置;根据第一目标位置与第一图像中的第一预设位置,得到第一距离,其中,第一预设位置处具有预设图形;确定第二图形在第二图像中的第二目标位置;根据第二目标位置与第一目标位置,得到第二距离;根据第一距离和第二距离,确定第二目标位置与第一预设位置之间的目标距离。
- 误差方法装置光刻系统
- [发明专利]一种图像处理方法及设备-CN202311050086.4在审
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陈乃奇;陈钢
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深圳市先地图像科技有限公司
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2023-08-21
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2023-09-15
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G03F7/20
- 本发明公开了一种图像处理方法及设备,运用于激光直写技术领域,图像处理方法包括:将M幅灰度图像全部处理成M幅二值图像,其中,M幅灰度图像由F颗激光器分别曝光同样大小区域的感光涂层得到,每颗激光器曝光同样大小区域的感光涂层后共得到R幅灰度图像,M=R*F;对每一幅初始二值图像中可能存在的噪点进行处理后,得到第一二值图像;求出F颗激光器对应的F个像素密度均值。将根据本图像处理方法及设备处理得到的F颗激光器重新根据像素密度均值排序并依次安装在激光直写设备上,以使得这F颗激光器曝光感光涂层后得到的图像的色差在整体上更加均匀。
- 一种图像处理方法设备
- [发明专利]一种图像处理方法及装置-CN202311050100.0在审
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陈乃奇;陈钢
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深圳市先地图像科技有限公司
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2023-08-21
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2023-09-15
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G03F7/20
- 本发明公开了一种图像处理方法及装置,运用于激光直写技术领域,方法包括:将M幅灰度图像全部处理成M幅二值图像,其中,所述M幅灰度图像由F颗激光器、每颗激光器分别曝光R块同样形状和大小的感光涂层后得到,M=R*F;求出任意第S颗激光器对应的R幅二值图像的像素密度均值,得到F个像素密度均值,以使得按像素密度均值从大到小或者从小到大排序F颗激光器后曝光感光涂层得到的图像的色差更加均匀。利用本图像处理方法及装置对F颗激光器根据像素密度均值按从大到小或者从小到大顺序排序并依次安装在激光直写设备上,曝光得到的图像的色差分布更加均匀。
- 一种图像处理方法装置
- [发明专利]一种引线框架竖直式双面曝光机-CN202310772545.3在审
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高小平
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安徽立德半导体材料有限公司
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2023-06-28
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2023-09-15
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G03F7/20
- 本发明公开了一种引线框架竖直式双面曝光机,涉及引线框架曝光技术领域,包括支撑架,所述支撑架上布设有曝光箱体,曝光箱体中布设有曝光机本体;曝光箱体一侧开设有进料口,另一侧开设有出料口,进料口一侧呈竖向布设有输入辊,出料口一侧呈竖向布设有收卷辊,输入辊与收卷辊可转动布设于支撑架上;收卷辊与驱动电机输出端固定连接;所述输入辊两侧相对固定布设有调节轮,调节轮上绕设有第一片基带,第一片基带一端固定,另一端与涨紧机构连接,采用竖直的方式对铜带进行输送,使得铜带在输送的过程中,不会因为铜带自身重力的影响导致其不处于完全水平的状态,垂直输送的方式也可以有效避免外界灰尘附着于铜带表面而影响曝光精度。
- 一种引线框架竖直双面曝光
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