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[发明专利]一种光束透过率调节装置和光学照明系统-CN202011066021.5有效
发明人：吴飞;张洪博 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2020-09-30 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种光束透过率调节装置和光学照明系统。该光束透过率调节装置包括驱动单元和透过率调节单元，透过率调节单元包括至少一个旋转叶片和至少一个旋转轴；旋转叶片包括旋转中心区和圆环区，圆环区包括透过率调节区；透过率调节区的多个透光孔的面积占比沿顺时针或逆时针方向越来越小；至少一个旋转叶片与至少一个旋转轴一一对应同轴固定连接，旋转轴设置在光束的一侧且与光束的传播方向平行；驱动单元驱动旋转轴并带动旋转叶片旋转，以使光束从旋转叶片的透过率调节区中的不同区域透射。本发明实施例采用机械方式可实现透过率全档位连续调节，能够对光学照明系统中光源功率进行精准调节，避免多光源系统光源功率差异影响照明系统。
一种光束透过调节装置光学照明系统

[实用新型]曝光机的曝光灯水冷循环系统-CN202223119335.4有效
发明人：刘盼;曹之慧;郑炳达 -专利权人：广州美维电子有限公司
申请日： 2022-11-23 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种曝光机的曝光灯水冷循环系统，包括用于进冷冻液的进水管道、冷却管道、热交换器、曝光灯箱、循环管道和动力泵；冷却管道与进水管道连通；热交换器与冷却管道连通；曝光灯箱内装有曝光灯并具有用于冷却曝光灯的冷却水；循环管道与曝光灯箱内用于封装冷却水的空腔连通，于曝光灯工作的状态下，空腔内的冷却水的温度逐渐上升；动力泵设于循环管道上，用于使空腔内的冷却水进入循环管道内后回流于空腔内，使得在循环管道内流动的冷却水能够与自进水管道进入冷却管道后进入热交换器内的冷冻液进行热交换，如此即可有效地提高了曝光灯冷却循环水的冷却效果，显著地降低了曝光灯的工作环境温度，防止因冷却效果差而导致曝光灯炸灯。
曝光水冷循环系统

[实用新型]掩膜板提取工具及光刻机-CN202223051021.5有效
发明人：朱云飞 -专利权人：武汉新芯集成电路制造有限公司
申请日： 2022-11-16 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩膜板提取工具及其包括该掩膜板提取工具的一种光刻机，该掩膜板提取工具包括：支撑体；至少一吸附装置，设置在所述支撑体的一侧，所述吸附装置分别提供吸附力以吸附掩膜板；气管，一端与所述吸附装置相通，另一端用于光刻机的真空接口连接，通过所述光刻机的真空接口对所述气管和所述吸附装置进行气体抽取，以使所述吸附装置能够提供所述吸附力吸附所述掩膜板。本申请通过掩膜板提取工具提取掩膜板，使得掩膜板的拆卸方便操作，进而降低掩膜板取出过程中被划伤或磨损的风险。
掩膜板提取工具光刻

[实用新型]一种应用于LDI曝光机上的平台组件-CN202321338050.1有效
发明人：陈尧;魏童童 -专利权人：苏州东山精密制造股份有限公司
申请日： 2023-05-30 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种应用于LDI曝光机上的平台组件，包括平台及设置在平台上的垫板；所述平台与抽真空设备相连并为垫板提供真空吸附力；所述垫板上具有柔板吸附区域，所述柔板吸附区域的中间为普通区、边缘为次加密区、边角处为加密区；所述普通区内分布的吸附孔密度小于所述次加密区的吸附孔密度，所述次加密区内分布的吸附孔密度小于所述加密区的吸附孔密度。通过对平台上的吸气槽、及垫板上的吸附孔的分布状态调整，形成常规的普通区、针对荷叶边吸附的次加密区以及针对柔板靶孔的加密区，根据柔板不同区域调整垫板的吸附力，解决曝光时板角翘起而导致的对位不精及曝光短路。
一种应用于 ldi 曝光平台组件

[发明专利]记录有指示用程序或程序集的记录介质以及描绘系统-CN202310098847.7在审
发明人：鉈落信也;吉野公敏 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2023-02-08 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：描绘系统(7)具备设计用终端(2)、描绘装置(1)、中间存储部(3)和指示用终端(4)。设计用终端(2)用于设计图案的设计数据。描绘装置(1)基于由设计用终端(2)设计的设计数据，对基板上的感光材料进行图案描绘。中间存储部(3)存储由设计用终端(2)设计的设计数据。指示用终端(4)用于对描绘装置(1指示描绘处理。在描绘系统(7)中，进行：通过由指示用终端(4)执行指示用程序，进行从中间存储部(3)获取用于描绘的一个设计数据的工序；基于该一个设计数据，生成表示描绘装置(1)应执行的描绘处理的内容的描绘指示信息的工序；以及将该描绘指示信息从指示用终端(4)发送到描绘装置(1)的工序。由此，能够提高图案描绘的效率。
记录指示程序介质以及描绘系统

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN202310224692.7在审
发明人：大宅宗明;三林武;森井敬亮 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2023-03-07 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供能够对多个曝光装置进行灵活的搬运的基板处理装置以及基板处理方法。在接口部(20)中配置有多个搬运机械手和多个模块，所述接口部(20)将对基板进行曝光处理的前工序的处理的前处理部以及进行后工序的处理的后处理部与第一曝光装置(3a)以及第二曝光装置(3b)连接。多个模块的一部分层叠配置。作为通过接口部(20)搬运基板的模式，选择连续处理模式或交替处理模式，所述连续处理模式为将多个基板分别依次搬运至第一曝光装置(3a)以及第二曝光装置(3b)这两者的处理模式，所述交替处理模式为将多个基板交替地搬运至第一曝光装置(3a)或第二曝光装置(3b)的处理模式。在任意一种模式下，多个搬运机械手的访问次数均为4以下。
处理装置以及方法

[发明专利]基片处理方法、存储介质和基片处理装置-CN202310248758.6在审
发明人：山内刚 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2023-03-15 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供能够对使用含金属抗蚀剂形成的抗蚀剂图案的线宽进行控制的新的基片处理方法、存储介质和基片处理装置。本发明的基片处理方法为对基片进行用于形成含金属抗蚀剂的图案的处理的基片处理方法，其特征在于：在到所述含金属抗蚀剂的膜的显影处理之前的期间，使基片处理装置内的存在所述基片的基片存在空间的酸浓度变化。
处理方法存储介质装置

[发明专利]曝光装置以及曝光方法-CN202310288062.6在审
发明人：水端稔;秩父孝夫;藤泽泰充 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2023-03-22 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的曝光装置以及曝光方法能够提供一种在利用从多个光源生成的激光光束对基板进行曝光的技术中，还能够适当地应对描绘中可能产生的光源的经时变动的技术。在本发明的曝光装置以及曝光方法中，在激光光束的光路上检测激光光束。在执行描绘中检测出的激光光束的光斑尺寸偏离规定的适当范围时，执行规定的错误处理。
曝光装置以及方法

[发明专利]曝光设备和制造制品的方法-CN201910836678.6有效
发明人：本间将人;河原泉 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2019-09-05 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光设备，其在扫描原稿和基板的同时曝光基板，所述曝光设备包括：台，所述台包括第一表面，并且能够在保持所述原稿的同时移动，在所述第一表面中形成有待被供应净化气体的第一凹入部分和第二凹入部分；以及构件，所述构件包括面向所述第一表面的第二表面，其中，所述第一凹入部分设置于所述台的所述第一表面中，以便限定其中布置所述原稿的第一空间，并且至少一个第二凹入部分在所述台的所述第一表面中设置于所述第一凹入部分外部，以便限定具有比所述第一空间更小的容积的第二空间。本发明还涉及一种制造制品的方法。
曝光设备制造制品方法

[发明专利]一种光刻图形的优化方法及装置-CN202210071674.5有效
发明人：吴华标;叶甜春;朱纪军;罗军;李彬鸿;赵杰 -专利权人：锐立平芯微电子（广州）有限责任公司;广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
申请日： 2022-01-21 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种光刻图形的优化方法及装置，该方法用于集成电路器件；具体包括：获取光刻图形的样本数据，样本数据包括所述目标图形区的第一尺寸信息以及所述至少两个材料层的材料信息；基于样本数据生成的第一光罩图形对光刻胶图层进行光刻，生成第一目标图形，第一目标图形的图形尺寸误差大于误差阈值；基于第一目标图形的图形尺寸误差进行光学邻近OPC校正，获得矫正后的第二光罩图形。本方案可以对图形尺寸误差超过阈值的第一光罩图形进行图形优化，获得图形尺寸误差更小的第二光罩图形，不仅提高了光刻的精度，避免出现光刻胶残留，且提高了后续的工艺窗口，提高产品的良品率。
一种光刻图形优化方法装置

[发明专利]一种光刻方法及系统-CN202310752944.3有效
发明人：李海峰;张祥平;王恒;吕燕;何盼盼 -专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2023-06-26 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻方法及系统，属于集成电路制造领域。所述光刻方法包括以下步骤：依据掩模版上掩模图形的密度，将掩模版划分为多个曝光区域，每个所述曝光区域中掩模图形的密度在预设范围以内；获取所述掩模版上掩模图形的聚焦点范围；依据所述聚焦点范围获取最佳对焦范围；以及对每个所述曝光区域进行曝光，在曝光时，依据每个所述曝光区域中所述掩模图形的密度，调节所述掩模版至透镜的位置，使所述掩模图形的聚焦点位于所述最佳对焦范围。通过本发明提供的一种光刻方法及系统，可增大疏密程度不同的掩模图形的共同工艺窗口的大小。
一种光刻方法系统

[发明专利]一种基于边缘光抑制阵列的并行直写装置和方法-CN202011638382.2有效
发明人：匡翠方;杨顺华;刘旭;李海峰;丁晨良;魏震;徐良 -专利权人：之江实验室;浙江大学
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种基于边缘光抑制阵列的并行直写装置和方法，该装置可产生N×N强度独立可控的高质量PPI阵列，每个PPI刻写点由干涉点阵暗斑和激发光重合而成，具有高通量超分辨刻写的能力。装置主要包括两路光：一路光通过四光束干涉产生等强度等间距的光斑点阵，点阵暗斑用作涡旋抑制光；另一路光通过MLA产生N×N激发光点阵，同时通过SLM和DMD分别调控各激发光的位置和强度，实现涡旋光阵列与激发光点阵精密重合且刻写点大小独立可控。该装置与方法通过产生相同刻写点大小的PPI阵列，可进行高均匀度三维结构的高通量超分辨直写加工，控制刻写点大小使其具有特定分布，还可并行加工任意曲面结构，可应用于超分辨光刻等领域。
一种基于边缘抑制阵列并行装置方法

[实用新型]一种ITO玻璃生产用紫外线曝光装置-CN202223492498.7有效
发明人：范亨建;蔡海鸥 -专利权人：湖北亿佳光电有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种ITO玻璃生产用紫外线曝光装置，包括紫外线曝光机箱、集尘箱、侧挡板和第一凸架，所述紫外线曝光机箱的外壁安装有集尘箱，所述集尘箱的顶部安装有抽风机，所述集尘箱的内部顶壁安装有滤板，所述集尘箱的底部通过合页安装有箱门。本实用新型通过安装有集尘箱用于储存灰尘，吸尘管用于输送灰尘，通过集尘斗方便对灰尘进行收集，通过抽风机可以将透明载物台表面灰尘吸入集尘箱，滤板用于防止较大灰尘对抽风机造成伤害，螺栓穿过第一凸架并相对第二凸架进行旋紧，即可将箱门固定住，螺栓相对第二凸架旋下，即可打开箱门以便对集尘箱内的灰尘进行处理，实现对载物台表面灰尘进行处理，提高曝光效果。
一种 ito 玻璃生产紫外线曝光装置

[实用新型]一种具有精密调整结构的曝光镜头-CN202320885929.1有效
发明人：刘华;邰赛;钱琪 -专利权人：苏州点赞光学科技有限公司
申请日： 2023-04-19 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种具有精密调整结构的曝光镜头，包括曝光镜头与安装架，安装架包括连接板、主支架、副支架、固定轴、第一减速齿轮、第二减速齿轮与第三减速齿轮，连接板的侧壁安装有主支架与副支架，主支架与副支架的内侧壁均安装有固定轴，主支架上的固定轴贯穿主支架的侧壁与曝光镜头的侧壁转动安装，曝光镜头的侧壁转动安装有连接杆的一端，连接杆的另一端与第二减速齿轮的侧壁安装，本装置通过设置第一减速齿轮、第二减速齿轮、第三减速齿轮，通过三个减速齿轮之间的配合，使其对曝光镜头的角度进行调节时，曝光镜头每次转动的角度变小，从而提高角度转动的精确度，使其能够对曝光镜头进行精密调节。
一种具有精密调整结构曝光镜头

[实用新型]一种可提高曝光精度的曝光机-CN202320639377.6有效
发明人：张杰;曾一鑫;朱雁 -专利权人：信利光电股份有限公司
申请日： 2023-03-27 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种可提高曝光精度的曝光机，其应用于曝光机，其包括掩膜组件，所述掩膜组件的顶面设有稳定机构；所述掩膜组件的一侧侧壁上固定设有间隙传感器；所述稳定机构包括一号稳定组件与二号稳定组件，所述一号稳定组件位于掩膜组件的一侧上方，所述二号稳定组件位于掩膜组件的另一侧上方。本实用新型在掩膜板的顶面贴合稳定机构，使得稳定机构的吸板在负压设备的作用下稳定吸附在掩膜板上，使得在掩膜板因重力导致下垂时，通过设置的间隙传感器检测后，通过控制设备控制稳定机构的驱动设备启动拉动吸板移动，从而拉动掩膜板的四角移动，从而对掩膜板的下垂量进行调整，调整方便，从而通过调整掩膜板的下垂量提高曝光机的曝光精度。
一种提高曝光精度