专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2021-05-07 公布专利
2021-05-04 公布专利
2021-04-30 公布专利
2021-04-27 公布专利
2021-04-23 公布专利
2021-04-20 公布专利
2021-04-16 公布专利
2021-04-13 公布专利
2021-04-09 公布专利
2021-04-06 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]无掩模激光直写系统及无掩模激光直写方法-CN202110004223.5在审
  • 江苏- 无锡物联网创新中心有限公司
  • 2021-01-04 - 2021-05-07 - G03F7/20
  • 一种无掩模激光直写系统及无掩模激光直写方法,无掩模激光直写系统包括:W个光纤阵列,各光纤阵列均包括若干M行*N列排布的光纤;样品台,样品台上适于承载待光刻晶圆,待光刻晶圆包括至少V个芯片区;版图数据转化模块,版图数据转化模块适于根据光纤阵列的参数将所述目标刻蚀版图转换为模块化图形,模块化图形包括若干目标图形模块,各目标图形模块包括M行*N列排布的若干目标图形单元,各目标图形单元包括k行*j列排布的若干网格,第w光纤阵列中任一根光纤适于加工第i×w个芯片区的每个目标图形模块中的一个目标图形单元;控制模块。所述无掩模激光直写系统能提高图形化的效率。
  • 无掩模激光系统方法
  • [发明专利]一种挡板装置和曝光机-CN202110035248.1在审
  • 广东- TCL华星光电技术有限公司
  • 2021-01-12 - 2021-05-07 - G03F7/20
  • 本发明提供一种挡板装置和曝光机,所述曝光机包括位于所述挡板装置上方的掩模版,所述挡板装置包括多个挡板装置,所述多个挡板装置围成位于所述掩模版下方的透光区,所述挡板装置上具有高度调整机构。所述挡板装置根据要形成的遮光区域在水平方向移动,由于挡板装置在不同的位置时其边缘与所述掩模版的纵向距离可能不同,而所述纵向距离越大则产生的灰区范围越大。所述高度调整机构可以控制所述挡板装置的边缘在水平移动的过程中与所述掩模版的纵向距离大于零且小于第一预设距离,这样不会使挡板装置刮伤掩模版,而且还可以使掩模版到挡板装置边缘的纵向距离保持在较小范围,进而可以减小灰区范围,从而提高挡板装置的精度。
  • 一种挡板装置曝光
  • [发明专利]用于测量标记的位置的设备和方法-CN201980063872.3在审
  • --- ASML荷兰有限公司
  • 2019-09-05 - 2021-05-07 - G03F7/20
  • 一种用于测量衬底上的标记的位置的设备,所述设备包括:照射系统,所述照射系统被配置成调节至少一个辐射束以形成在空间上串联地分布的多个照射斑,使得在所述衬底的扫描期间所述多个照射斑顺序地入射到所述标记上;和投影系统,所述投影系统被配置成投影由来自所述衬底的所述标记衍射的辐射,通过由所述标记对所述多个照射斑的衍射来产生衍射辐射;其中所述投影系统还被配置成调制所述衍射辐射并且将经调制的辐射投影到检测系统上,所述检测系统被配置成产生与所述多个照射斑中的每个照射斑相对应的信号,所述信号被组合以确定所述标记的位置。
  • 用于测量标记位置设备方法
  • [发明专利]一种多焦点激光并行直写密排纳米结构的光刻曝光系统及方法-CN202011488606.6在审
  • 广东- 暨南大学
  • 2020-12-16 - 2021-05-07 - G03F7/20
  • 本发明提出一种多焦点激光并行直写密排纳米结构的光刻曝光系统,包括激光器、空间光调制器、位相调制器、透镜组、物镜、衬底、位移台和上位机,其中衬底上表面涂覆设置有光刻胶,衬底放置在位移台上;上位机分别与空间光调制器、位相调制器和位移台连接;上位机中预设有空间振幅分布设计,并根据预设的空间振幅分布设计控制空间光调制器中产生目标多焦点阵列分布光束;上位机中预设有三维空间扫描轨迹,上位机根据其预设的三维空间扫描轨迹控制位移台的移动,使多焦点阵列分布光束对光刻胶进行扫描曝光,得到密集排列的纳米结构。本发明还提出了一种多焦点激光并行直写密排纳米结构的光刻曝光方法。
  • 一种焦点激光并行直写密排纳米结构光刻曝光系统方法
  • [发明专利]极紫外光产生装置及方法-CN202011597091.3在审
  • 广东- 广东省智能机器人研究院
  • 2020-12-29 - 2021-05-07 - G03F7/20
  • 本申请涉及一种极紫外光产生装置和方法,该装置包括控制器,以及分别连接控制器的沿目标液滴的运动路径依次设置的目标液滴产生器、液滴检测装置、预脉冲激光光源、云雾团检测装置、轨迹调节装置和主脉冲激光光源。上述装置中,配置液滴检测装置以检测目标液滴的存在,反馈给控制器以用于确定主脉冲激光的主脉冲触发时间。同时配置云雾团检测装置获取目标云雾团的监测信号并发送给控制器,以便于控制器求得目标云雾团的运动轨迹。在目标云雾团的运动轨迹与主打靶位置不相交时,控制器控制轨迹调节装置调节目标云雾团的运动轨迹,减小目标云雾团与主脉冲激光的离焦距离,使目标云雾团和主脉冲激光充分作用,有利于提高打靶激光的能量利用率。
  • 紫外光产生装置方法
  • [发明专利]一种激光直写光刻机长辊式压板机构-CN202011626210.3在审
  • 安徽- 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
  • 2020-12-30 - 2021-05-07 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种激光直写光刻机长辊式压板机构,包括压板部,压板部包括支撑翼板以及设置于支撑翼板下方的胶辊组件;胶辊组件包括转轴以及套接于转轴上的胶辊,转轴两端均通过线性导向轴与支撑翼板上下滑动连接,线性导向轴下端与转轴固定连接,线性导向轴上端与支撑翼板滑动连接,转轴与支撑翼板之间设置压缩弹簧,压缩弹簧套接于线性导向轴上,本申请采用长辊式压板机构,无需动力,靠吸盘自身运动的力量顶起长辊,在曝光区域两侧压住PCB板,避免了边缘压板机构导致中间鼓起、曝光区域不平整的现象,同时长辊结构可靠,无悬臂梁式压板机构使用过程中悬臂梁形变风险,整个结构简单,容易实现。
  • 一种激光光刻机长压板机构
  • [发明专利]光刻系统的扫描方法和光刻系统-CN202110019610.6在审
  • 江苏- 江苏迪盛智能科技有限公司
  • 2021-01-07 - 2021-05-07 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种光刻系统的扫描方法和光刻系统,涉及光刻技术领域,所述方法应用于光刻系统,所述光刻系统包括机台、工作台和数字微镜器件DMD,所述DMD设置在所述机台上,所述工作台用于设置被光刻对象,所述方法包括:控制运动主体进行运动,以使所述DMD与所述被光刻对象同时发生第一方向和第二方向上的相对运动,所述运动主体包括以下至少一种:所述DMD、所述机台和所述工作台。避免了现有方案中在需要更改清晰度时需要更换不同参数的DMD成本较高的问题,达到了可以通过调整运动主体的运动速度进而方便快捷的实现清晰度调整的效果。
  • 光刻系统扫描方法
  • [发明专利]定位装置、曝光装置以及物品的制造方法-CN202011134936.5在审
  • --- 佳能株式会社
  • 2020-10-21 - 2021-05-07 - G03F7/20
  • 本发明提供有利于高精度地测量载置台的位置的定位装置、曝光装置以及物品的制造方法。进行板的定位的定位装置包括:载置台,能够保持所述板并在第1方向上移动;以及测量部,在所述第1方向上射出光,并基于由设置于所述载置台的上表面之上的反射构件反射的光,测量所述载置台在所述第1方向上的位置,所述载置台在所述第1方向上的所述板与所述反射构件之间具有壁部,该壁部用于减少因所述载置台向所述第1方向的移动而所述板的周围的气体侵入到所述测量部的光路的情形,所述壁部构成为其上端比所述板的上表面高,且与所述板以及所述反射构件分离地配置。
  • 定位装置曝光以及物品制造方法
  • [发明专利]光栅基板表面光刻胶涂层在线扫描曝光预处理装置及方法-CN202110184852.0在审
  • 上海- 中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 2021-02-10 - 2021-05-07 - G03F7/20
  • 一种双光束干涉曝光系统中光栅基板表面光刻胶涂层在线扫描曝光预处理装置,包括:连续紫外激光光源,用于对光栅基板表面光刻胶涂层进行曝光;双光束干涉曝光系统;干涉场扫描测量系统,用于对干涉曝光场的强度分布进行二维扫描测量;扫描曝光预处理系统,将来自连续紫外激光光源的激光光束调制为具有一定空间强度分布和一定宽度的线激光束,并辐照在待处理光栅基板涂覆光刻胶的光刻胶面上。通过控制空间光调制器输出强度分布和一维位移台扫描速度实现光刻胶纳米涂层不同位置、不同曝光剂量的预处理。本发明解决了双光束干涉曝光技术制备衍射光栅中因干涉光束强度分布不均匀导致的光栅掩膜不均匀性的技术难关。
  • 光栅表面光刻涂层在线扫描曝光预处理装置方法
  • [发明专利]测量光瞳形状的方法和设备-CN201980063158.4在审
  • --- ASML荷兰有限公司
  • 2019-08-12 - 2021-05-07 - G03F7/20
  • 一种用于确定在光学系统的物平面处的辐射的角强度分布的至少一部分的方法,所述角强度分布可以被称为物体水平光瞳形状。所述方法包括:将所述辐射引导到所述物平面中的衍射光栅上以便产生由所述光学系统至少部分地接收的至少一个非零阶衍射束;在传感器平面中形成所述光学系统的光瞳平面的图像并且确定在所述传感器平面中的辐射的空间强度分布;以及根据所确定的在所述传感器平面中的辐射的空间强度分布来确定在所述物平面处的辐射的角强度分布的至少一部分。所述方法是有利的,因为它允许根据在像平面水平处的测量来重构在光学系统的物平面处的辐射的角强度分布,即使在所述光学系统内存在光瞳平面的遮蔽物的情况下也是如此。
  • 测量形状方法设备
  • [发明专利]一种散射测量装置及散射测量方法-CN201911061676.0在审
  • 上海- 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2019-11-01 - 2021-05-07 - G03F7/20
  • 本发明实施例公开了一种散射测量装置及散射测量方法。其中散射测量装置包括光源模块、光束传输模块、镜头、焦面测量模块及角谱测量模块;光源模块用于提供照明光束;光束传输模块用于将照明光束传输至镜头,接收待测物体返回并经镜头透射后的信号光束并分束形成焦面偏离信号光束和角谱信号光束;焦面测量模块用于接收焦面偏离信号光束,并计算待测物体与镜头的焦面的偏离程度;角谱测量模块用于接收角谱信号光束,并计算待测物体的关键尺寸或套刻误差。本发明实施例的技术方案,可同时测量待测物体与镜头的焦面的偏离程度和角谱,进而测量待测物体的关键尺寸或套刻误差,并且无需使用不同波长,有助于调焦应对不同工艺。
  • 一种散射测量装置测量方法

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