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[发明专利]长续航的相机防水壳-CN202310837838.5在审
发明人：王稳 -专利权人：佛山市纬凡科技有限公司
申请日： 2023-07-07 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03B17/08 文献下载
摘要：本发明涉及相机防水壳的技术领域，公开了长续航的相机防水壳，包括壳体，壳体的内部具有内腔，内腔中设有电路板以及蓄电池，蓄电池与相机通过充电线连接；充电线包括固定段、弯曲段以及插接段，固定段的端部固定连接在电路板上，插接段的端部具有插接头，相机具有插接口，插接头插入在插接口中；内腔的内侧壁上凸设有多个卡座，卡座上设有两个弹性材质制成的夹持条，两个夹持条相向夹持着弯曲段，将弯曲段与卡槽相对固定；通过布置蓄电池，无需打开相机防水壳，则可以实现相机的长续航效果，节约时间。
续航相机防水

[发明专利]用于激光直写曝光机的光源控制方法及系统-CN202310838421.0在审
发明人：李显杰;何先福;吴长江;刘世林 -专利权人：江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-07-10 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了用于激光直写曝光机的光源控制方法及系统，属于曝光设备领域。所述系统包括：光源控制模块和光源模块，所述光源模块包括多个光源驱动器和对应的光源，光源控制命令和光源同步命令输入光源控制板，所述光源控制板接收命令后，通过板卡内的处理芯片进行命令解析，经过数据解析后产生多组固定时延的同步信号，输出的同步控制信号分别用于控制所述光源驱动器，并进行脉冲控制信号和恒流源控制信号的切换；本发明的用于激光直写曝光设备的光源控制方式，可以有效地解决光源同步，提升了设备的光源使用率，降低光源寿命成本，提升了解析能力和图形边框毛刺降低了补偿难度和报废率。
用于激光曝光光源控制方法系统

[发明专利]基于波分复用光波导芯片的多维复振幅全息成像方法-CN202310840302.9在审
发明人：王子豪;刘敏;孙艳玲;廖家莉 -专利权人：西安电子科技大学
申请日： 2023-07-10 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03H1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于波分复用光波导芯片的多维复振幅全息成像方法，包括：获取包含目标的待成像图像并进行预处理，得到多个切片；利用基于贝塞尔加权的GS迭代算法对每个切片进行稀疏孔径复振幅全息成像，得到各个切片对应的第一预成像结果及第一调制电压；拼接第一预成像结果和第一调制电压，得到第二预成像结果和电压时序；基于第二预成像结果与待成像图像的强度特征分布差异，修正电压时序，得到第二调制电压；利用第二调制电压对待成像图像进行全息成像，获得目标的全息成像结果。本发明解决了衍射式波前编码设备存在的图像失真问题，并且采用的芯片结构可以将用于进行相位调制的移相器数目从N2降低到了3N，大大降低光波导相控阵的调制功耗。
基于波分复用光波导芯片多维振幅全息成像方法

[发明专利]一种微纳加工方法及其光刻介质-CN202310844256.X在审
发明人：李会巧;曾诚;翟天佑 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2023-07-10 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种微纳加工方法及其光刻介质，属于微纳加工领域，其采用无机小分子作为光刻介质执行光刻工艺，利用电子、离子或/和光子的高能量束对光刻介质设定区域进行照射，被照射区域的无机小分子发生升华而被刻蚀，直接形成所需的光刻图案。在光刻介质去除过程中，还可采用物理干法粘连剥离，全程避免溶剂或液体的使用，实现对敏感材料的微纳加工。作为光刻介质的无机小分子通过范德华作用力形成固体薄膜，薄膜厚度为5nm～8000nm。光刻介质包括无机小分子单质、二元或三元无机小分子化合物类或者至少以上两种组成的混合物。本发明方法能简化微纳加工步骤，避免显影液、清洗剂等的使用，实现对敏感材料和器件的微纳加工。
一种加工方法及其光刻介质

[发明专利]镜头结构、摄像设备和镜头的对焦方法-CN202310864414.8在审
发明人：李昆;龚俊强;邱盛平;肖明志;吴恙;刘德灿;谭穗静;卢耿光 -专利权人：中山联合光电科技股份有限公司
申请日： 2023-07-13 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03B13/32 文献下载
摘要：本发明公开一种镜头结构、摄像设备和镜头的对焦方法，镜头结构包括镜筒、透镜组件、驱动机构、位置检测装置和控制装置，镜筒沿第一方向延伸设置；透镜组件包括沿第一方向可活动设置的镜组；驱动机构用于驱动镜组沿第一方向活动；位置检测装置用于实时检测镜组的位置；通过位置检测装置采用闭环控制，能够实时检测镜组的位置，并且控制装置根据镜组的实际位置和目标位置之间的位移差，来实时调节镜组的位置，不受驱动机构的本身产品物理精度和磨损精度限制，并在驱动机构高速驱动镜组活动时，不受停止精度差的影响，使镜组能够精准到达变倍或对焦所需的目标位置，解决现有的镜头结构驱动电机转速低、镜头调节速度慢、驱动机构寿命差的问题。
镜头结构摄像设备对焦方法

[发明专利]一种鳍片分离式散热模组-CN202310934754.3在审
发明人：陈金紫;王小龙 -专利权人：苏州耀莱电子材料有限公司
申请日： 2023-07-27 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03B21/16 文献下载
摘要：本发明公开一种鳍片分离式散热模组，包括：热源基座、热管、导热凝胶、鳍片以及风扇；热管包括加热端和散热端，热管的加热端与热源基座相接触，热管的散热端外部设置有导热凝胶，热管的散热端与鳍片可拆卸式连接，导热凝胶与鳍片相接触，风扇设置于鳍片的一侧，风扇与热源基座之间的角度可调节。可对不同结构设计的光源或芯片进行降温，可通过调整鳍片形状、数量、扣接、角度等方式来调整空间位置，热管形状可根据设计者的需求随意更改，风扇的安装自由度高，可以配合风扇随意调整鳍片的阵列方向，本装置为外置散热装置，拆装方便，可随意搭配变更不同散热面积、位置和角度，解决目前散热模组最终成品永久定型，无法随意更改的行业痛点。
一种分离散热模组

[发明专利]自动驾驶汽车功能安全测试用自动化前视摄像头遮挡装置-CN202310940431.5在审
发明人：王宇;夏显召;刘磊;张宏伟;秦孔建;张鲁;张通;张胜强;李瑞秋;翟瑞卿;王清扬;赵瑞;董长青;邵学彬;姜国凯;李予佳 -专利权人：中汽研软件测评（天津）有限公司;中汽研汽车检验中心（天津）有限公司;中国汽车技术研究中心有限公司
申请日： 2023-07-28 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03B11/04 文献下载
摘要：本发明提供了一种自动驾驶汽车功能安全测试用自动化前视摄像头遮挡装置，包括固定模块、传动模块、遮挡模块、控制模块。本发明有益效果：本发明专利在具备驾驶辅助系统的车辆上进行功能安全整车级遮挡类故障测试中具有极强的可靠性和可执行性，能够对开启驾驶辅助功能的车辆进行前视摄像头的遮挡，并且可实现自动化遮挡过程，实现对车辆安全目标的验证。
自动驾驶汽车功能安全测试自动化摄像头遮挡装置

[发明专利]抽拉装置及其使用方法、涂胶显影设备-CN202310942556.1在审
发明人：赵旭;郭亚内;张朋;张建 -专利权人：沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请日： 2023-07-28 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：本发明提供了一种抽拉装置及其使用方法、涂胶显影设备。所述抽拉装置包括装置本体和抽拉组件；所述抽拉组件包括上导轨组件和下导轨组件，所述上导轨组件和所述下导轨组件均为多段式导轨，所述上导轨组件设置于所述装置本体的上端面，所述下导轨组件设置于所述装置本体的下端面，所述装置本体沿所述上导轨组件和所述下导轨组件的导轨方向运动，以从所述涂胶显影设备中拉出或推回于所述涂胶显影设备。本发明增大了所述上导轨组件和所述下导轨组件的行程，便于维修人员从拉出的所述装置本体与所述涂胶显影设备之间的活动维修口进入所述涂胶显影设备中进行维修，解决了现有技术中维护不方便、操作复杂、耗费时间较长等诸多不足。
装置及其使用方法涂胶显影设备

[发明专利]负性感光树脂组合物、固化膜以及图案固化膜-CN202310773239.1在审
发明人：王元强;周小明;韩家斌;肖桂林;鲁丽萍;柯晓明;彭新潮;朱双全 -专利权人：武汉柔显科技股份有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司
申请日： 2023-06-28 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明公开了一种负性感光树脂组合物，包括：一种聚酯‑酰亚胺树脂；具有可光聚合基团的化合物；光聚合引发剂；有机溶剂；其中，所述具有可光聚合基团的化合物包括具有式(I)所示结构表示的具有酰胺酸基的化合物。通过引入具有酰胺酸基团的化合物，调节感光树脂组合物的酸值，改善了感光树脂组合物在光活性基团和可碱溶性基团引入时产生的溶解性矛盾的问题，提升了膜在显影后的图案化质量，且在固化后膜的图形不会发生流淌坍塌或被剥离。#imgabs0#
性感树脂组合固化以及图案

[发明专利]双镜头运动相机的使用方法-CN202310935061.6在审
发明人：张红兵;马晓军 -专利权人：深圳市臻呈科技有限公司
申请日： 2023-07-27 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03B15/03 文献下载
摘要：本发明公开了双镜头运动相机的使用方法，该方法依靠双镜头运动相机实现，所述双镜头运动相机包括中框、面壳、主屏组件、双镜头控制驱动机构、电池组机构以及USB盖机构，所述双镜头控制驱动机构包括PCB主板模组以及双镜头组件，所述双镜头组件包括日间镜头、夜间镜头、光亮检测组件和补光组件；包括以下使用步骤：S1、预设双镜头运动相机的光亮检测组件的限定值；S2、将双镜头运动相机通过外连接件机构与外接的结构相连；S3、将双镜头运动相机的双镜头组件对准需要拍摄的区域，启动光亮检测组件。本发明具有拆装连接使用方便，具备双镜头可以自动切换进行拍摄，拍摄清晰稳定等优点。
镜头运动相机使用方法

[发明专利]光刻胶斜齿图形的制作方法及斜齿光栅的制作方法-CN202310944417.2在审
发明人：王辉 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2023-07-28 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻胶斜齿图形的制作方法及斜齿光栅的制作方法，应用于半导体技术领域。由于在本发明提供的光刻胶斜齿图形的制作方法中，其是根据光刻胶的材料在其特定区域上放置作为反射层的反射结构块，然后，基于该反射结构块可以反射光学的特性和灰度光罩的局部透明区的透光率或曝光光强分布沿某一方向呈渐变趋势，提出利用光刻胶和灰度光罩相结合的方式，先在光刻胶层上形成具有一定倾斜角的斜齿图形后，再基于该光刻胶的斜齿图形形成斜齿光栅，从而在现有半导体工艺的基础上，实现了斜齿图形或斜齿光栅的制作操作简单、成本低以及耗时短，且适合于大规模生产的目的。
光刻胶斜齿图形制作方法光栅

[发明专利]掩膜版、掩膜版的制造方法及半导体结构的形成方法-CN202310944595.5在审
发明人：王雷 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2023-07-28 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F1/76 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩膜版、掩膜版的制造方法及半导体结构的形成方法。具体的，其可以是在基板的一侧的一个表面上形成两层遮光层，其还可以是在基板的两侧的两个表面上分别形成一层遮光层，然后，根据实际曝光设备的单次曝光焦深对两层遮光层之间的空间高度差进行设置，进而实现让位于同一块掩膜版上的两层遮光层在每次单次曝光时，均只有一层遮光层上的图案可以对焦曝光，即，实现了在进行曝光之前对掩膜版上所包含的曝光图案进行对位误差消除，并最终达到减少掩膜版的数量、降低掩膜版和半导体器件的制造成本的目的。
掩膜版制造方法半导体结构形成

[发明专利]一种芯片载板感光阻焊干膜及其形成方法-CN202310951411.8在审
发明人：杨仁鸿;张华泉;杨忠平 -专利权人：广东诚展科技股份有限公司
申请日： 2023-07-31 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提出了一种芯片载板感光阻焊干膜及其形成方法，属于芯片载板感光阻焊干膜技术领域。S1.将酚醛环氧树脂、阻聚剂、催化剂溶于溶剂中，加热升温，加入不饱和酰胺羧酸化合物，搅拌反应，停止反应，加水搅拌，过滤，洗涤，制得感光树脂；S2.将感光树脂、颜料、光引发剂、三聚氰胺、硫酸钡、消泡剂、热固化剂、阻燃剂分散混合均匀，得到感光阻焊组合物；S3.将感光阻焊组合物用挤出膜头均匀涂在承载膜上，经过隧道烤箱多段烘烤后，得到触干膜；S4.贴膜：将触干膜进行双面或者单面贴膜，压膜，得到半成品芯片载板感光阻焊干膜；S5.将半成品芯片载板感光阻焊干膜去除膜层，烘烤至完全干燥，分切成不同宽幅和长度的成品，制得芯片载板感光阻焊干膜。
一种芯片感光阻焊干膜及其形成方法

[发明专利]一种应用于非平整平面的近场接触式光刻方法-CN202310954680.X在审
发明人：杨爱国;李一鸣 -专利权人：浙大宁波理工学院
申请日： 2023-07-31 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种应用于非平整平面的近场接触式光刻方法，包括以下步骤：把配置好的固化剂‑聚二甲基硅氧烷(PDMS)混合物涂敷在平整石英片上，固化，涂光刻胶，曝光，显影，淀积金属，去胶，形成软光刻版；再在非平整平面衬底上涂敷光刻胶，把软光刻版压在非平整平面衬底上，然后曝光，显影，刻蚀，完成目标图形转移。本发明提出的方法，通过制备出软光刻版，能够简单、便捷地将目标图形转移到非平整平面衬底上，并且制好的软光刻版可以重复使用，节省了成本。
一种应用于平整平面近场接触光刻方法

[发明专利]用于表征半导体制造过程的方法和装置-CN202280019816.1在审
发明人： N·W·克莱因·科尔坎普;M·豪普特曼;A·凯瓦尼·简巴韩;王静超 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2022-02-07 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：用于表征在衬底上执行的半导体制造过程的方法和装置。获得在第一处理步骤之后测量的、与衬底的指纹数据相关联的第一数据。获得在第二过程步骤之后测量的、与衬底的指纹数据相关联的第二数据。统计模型被用于将第一数据和第二数据分解为在第一数据和第二数据之间互相关的第一类指纹成分以及在第一数据和第二数据之间不互相关的第二类指纹成分。第一类指纹成分和第二类指纹成分中的至少一个指纹成分被用于表征半导体制造过程。
用于表征半导体制造过程方法装置

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