本发明属于半导体二极管生产技术领域,具体的说是一种半导体二极管酸洗处理系统,包括箱体,酸洗箱和摆动模块;箱体内部设有摆动模块,摆动模块包括转盘、第一滑块、支撑盘、伸缩杆和导柱;酸洗箱安装在摆动模块的支撑盘上,酸洗箱用于放置半导体二极管,摆动模块晃动用于提高酸洗液的流动性,提高半导体二极管的酸洗效率。本发明通过控制电机的转速不同,第一滑块在离心力的作用下向外滑动的距离不同,相应的挤压到不同长度的导柱,使得支撑盘的倾斜程度不同,通过周期性的控制电机转速的快慢,支撑盘转动的同时并且产生摆动,增加酸洗液的流动,提高半导体二极管酸洗的效率。
1.一种半导体二极管酸洗处理系统,包括箱体(1)和酸洗箱(2);其特征在于:还包括摆动模块(3);所述箱体(2)内部设有摆动模块(3),所述酸洗箱(2)安装在摆动模块(3)上,所述酸洗箱(2)用于放置半导体二极管;其中,所述的摆动模块(3)包括转盘(31)、第一滑块(32)、支撑盘(33)、伸缩杆(34)和导柱(35);所述箱体(1)底部设置电机;所述电机的转轴上固连着转盘(31);所述转盘(31)顶部设有向一侧开设的滑槽,所述第一滑块(32)通过弹簧安装在转盘(31)的滑槽内;所述支撑盘(33)通过一组并联伸缩杆(34)安装在转盘(31)上;所述支撑盘(33)顶部设有酸洗箱(2);所述支撑盘(33)底部设有一组导柱(35);所述导柱(35)用于配合第一滑块(32)使用;所述第一滑块(32)顶部设有圆弧凸起;沿第一滑块(32)移动路径上的导柱(35)长度依次增加。
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