专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果636个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]一种退缩安全自毁型注射器-CN200510040256.6无效
  • 陈嘉农;邹志尚 - 陈嘉农
  • 2005-05-27 - 2005-11-09 - A61M5/50
  • 包括外套及芯杆;芯杆为具有杆身及顶部的一体件;注射器还具有可退缩部件,可退缩部件为具有锥头及定位部的一体件,定位部设置在可退缩部件的下部,可退缩部件具有轴向通孔;在外套的上部设有密闭定位部,外套与密闭定位部为一体件,密闭定位部具有通孔;可退缩部件的锥头穿出密闭定位部的通孔,可退缩部件的定位部的外壁可与密闭定位部的通孔的内壁密闭配合;可退缩部件的定位部的外壁与密闭定位部的通孔的内壁的相配合处的外径大于密闭定位部的通孔的内壁与可退缩部件的定位部的外壁的相配合处的内径本发明为结构合理,性能可靠,具有实用性的一种退缩安全自毁型注射器。
  • 一种退缩安全自毁注射器
  • [发明专利]一种防退缩的注塑生产模具-CN202110614108.X在审
  • 严胜义;宋小尉;胡光良;王细武;谢国才;余焕新;陈清举;张立新 - 温州长江汽车电子有限公司
  • 2021-06-02 - 2021-09-24 - B29C45/26
  • 本发明涉及一种防退缩的注塑生产模具,包括机架、前模组件、后模组件,前模组件、后模组件合并后形成模腔,前模组件和/或后模组件内设有抽芯,抽芯相对前模组件和/或后模组件内可滑移使其具有成模位置以及脱模位置;抽芯通过油缸驱动;抽芯与油缸之间设有防退缩传动组件,防退缩传动组件包括第一行位座、第二行位座、第三行位座、限位滑座、锁块,限位滑座和锁块相对前模组件位置固定。本发明通过第一行位座、第二行位座、第三行位座、限位滑座、锁块形成的防退缩传动组件实现油缸驱动抽芯以及防止抽芯在压力过大的情况下退缩的作用,解决了原始机构中的抽芯后退问题,提高了零件质量和模具的稳定性。
  • 一种退缩注塑生产模具
  • [实用新型]光学镜头螺牙结构-CN200620131121.0无效
  • 陆永和;蔡谆桦 - 大立光电股份有限公司
  • 2006-08-14 - 2007-08-29 - G02B7/02
  • 本实用新型公开了一种光学镜头螺牙结构,它具有塑料材质的镜筒,该镜筒外侧制设有螺牙结构,所述螺牙结构的单一工作螺旋中具有两种不同节圆径的正常螺牙与局部退缩螺牙;该局部退缩螺牙位于镜筒螺纹结构的纵向分模线上,且该局部退缩螺牙的牙尖径、节圆径均小于正常螺牙的牙尖径和节圆径,而该局部退缩螺牙与正常螺牙外缘具有一平面接合的间隙面。本实用新型的光学镜头螺牙结构由退缩螺牙或凸肋的结构皆可产生螺牙结构与基座之间的一间隔距离,降低纵向分模面毛边及螺纹结构因接触磨擦所造成的粉屑问题。
  • 光学镜头结构
  • [实用新型]男性包皮退缩理疗器-CN96225829.6无效
  • 阎功平 - 阎功平
  • 1996-04-09 - 1996-12-25 - A61H7/00
  • 一种男性包皮退缩理疗器,适用于男性包皮过长的儿童及成人,进行自我矫正的包皮退缩理疗器,由套管、弹性环和吸气囊组成,套管形状为圆筒管端有凸台与弹性环相吻合,另一端为半球状,端头设有管头,与吸气囊的吸气管相连接坚持理疗可及早退缩包皮,对成人包皮过长可免除外科环切手术,对性功能障碍者,有辅助理疗作用。
  • 男性包皮退缩理疗
  • [发明专利]微机电结构及其制作方法-CN201510908759.4有效
  • 林梦嘉;李勇孝;陈翁宜;李世伟;刘崇显 - 联华电子股份有限公司
  • 2015-12-10 - 2021-09-21 - B81B7/00
  • 包含首先提供一基底包含一逻辑元件区和一微机电元件区,接着形成一逻辑元件于逻辑元件区,之后全面形成一含氮材料层覆盖逻辑元件区和微机电元件区,然后移除位于微机电元件区内的部分的含氮材料层以在含氮材料层上定义出至少一退缩区域,在形成退缩区域之后,形成至少一介电层覆盖逻辑元件区和微机电元件区,并且介电层填入退缩区域,接续蚀刻位于微机电元件区的部分的介电层以形成至少一孔洞穿透介电层,其中退缩区域环绕孔洞,最后蚀刻基底以形成一腔室
  • 微机结构及其制作方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top